Vakuumofen
Vertikaler Vakuumofen 1100 °C Hochtemperatur 8-Zoll-Quarzkammer wassergekühltes Flanschsystem
Artikelnummer: TU-QF02
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Produktübersicht
Dieses vertikale, vakuumversiegelte Hochtemperatur-System stellt den Höhepunkt der thermischen Verarbeitung für die Materialwissenschaft und Halbleiterforschung dar. Die Einheit wurde entwickelt, um präzise Glüh- und Kalzinierungsprozesse zu ermöglichen, und zeichnet sich durch eine spezielle vertikale Ausrichtung aus, die Platz spart und gleichzeitig eine gleichmäßige thermische Umgebung für größere Substrate bietet. Das Gerät basiert auf einer hochbelastbaren Quarzkammer, die bei Umgebungsdruck Betriebstemperaturen von bis zu 1100 °C erreichen kann, was es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für Labore macht, die sich auf die Entwicklung hochreiner Materialien und fortschrittlicher elektronischer Komponenten konzentrieren.
Das System ist speziell für die Aufnahme von Halbleiter-Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll ausgelegt und bietet eine vielseitige Plattform sowohl für die Verarbeitung in Vakuumumgebungen als auch für Experimente unter kontrollierter Gasatmosphäre. Durch die Integration eines hochentwickelten Edelstahl-Dichtungsflansches mit integrierter Wasserkühlung behält das System seine strukturelle Integrität und Dichtungslebensdauer auch bei längeren Hochtemperaturzyklen bei. Diese Ausrüstung ist die bevorzugte Wahl für industrielle F&E-Zentren und akademische Einrichtungen, die eine zuverlässige, wiederholbare und leistungsstarke thermische Verarbeitungslösung für empfindliche Substrate benötigen.
Diese thermische Verarbeitungseinheit wurde für Zuverlässigkeit unter anspruchsvollen industriellen Bedingungen entwickelt und verwendet hochwertigen Widerstandsdraht sowie fortschrittliche feuerfeste Materialien, um eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten. Jede Komponente, vom NRTL-zertifizierten digitalen Regler bis zum doppelten Silikon-O-Ring-Dichtungsmechanismus, wurde ausgewählt, um Beschaffungsteams und leitenden Ingenieuren Vertrauen in die langfristige Betriebsstabilität des Systems zu geben. Diese Einheit bietet die Robustheit, die für 24/7-Forschungsumgebungen erforderlich ist, in denen Präzision und Betriebszeit entscheidende Kennzahlen für den Erfolg sind.
Hauptmerkmale
- Quarzkammer mit hoher Kapazität: Das System verfügt über ein GE214-Quarzrohr mit großem Durchmesser und einem Außendurchmesser von 8 Zoll, das speziell für die Verarbeitung von Halbleiter-Wafern und Materialproben in großen Chargen mit beispielloser Klarheit und Reinheit dimensioniert ist.
- Fortschrittlicher wassergekühlter Dichtungsflansch: Ein eingebauter Wasserkühlmantel schützt die Vakuumdichtungsbaugruppe vor thermischer Degradation, wodurch der Edelstahlflansch bei Temperaturen über 1100 °C eine hermetische Abdichtung aufrechterhalten kann, ohne die Silikon-O-Ringe zu schmelzen.
- Präzise PID-Temperaturregelung: Der NRTL-zertifizierte digitale Regler bietet 30 programmierbare Segmente für Rampen, Abkühlung und Haltezeiten und gewährleistet eine Genauigkeit von ±1 °C für empfindliche thermische Profile, die bei der Halbleiterfertigung erforderlich sind.
- Überlegene Vakuumleistung: Diese Einheit wurde für die nahtlose Zusammenarbeit mit Hochvakuum-Pumpstationen entwickelt und kann bei Verwendung einer Turbopumpe Vakuumniveaus von bis zu 10^-5 Torr erreichen, was für sauerstoffempfindliche Kalzinierungs- und Glüharbeiten unerlässlich ist.
- Robustes Heizelement-Design: Unter Verwendung von hochwertigem Ni-Cr-Al-Widerstandsdraht bietet das System schnelle Aufheizraten von bis zu 20 °C pro Minute bei gleichzeitig hervorragender Haltbarkeit über wiederholte thermische Zyklen hinweg.
- Integrierte Sicherheit und Alarme: Die Ausrüstung umfasst eingebaute Alarme für Übertemperatur und Thermoelementausfall, die einen automatisierten Schutz sowohl für den Ofen als auch für die wertvollen Materialien im Inneren bieten.
- Flexible Atmosphärenverwaltung: Ausgestattet mit hochpräzisen Nadelventilen und mehreren Gaseinlass-/Auslassanschlüssen ermöglicht das System die präzise Einleitung von Inert- oder Reaktivgasen während des Heizprozesses.
- Skalierbare Überwachungsoptionen: Das Gerät enthält standardmäßig ein mechanisches Vakuummeter, mit Optionen für gasunabhängige digitale Vakuummeter und PC-Kommunikationsanschlüsse für Echtzeit-Datenprotokollierung und Fernüberwachung.
- Hohe Belastbarkeit: Die vertikale Kammerarchitektur ist für ein Materialgewicht von bis zu 40 kg ausgelegt und verstärkt, um industrielle Probenlasten zu bewältigen, ohne die strukturelle Integrität zu beeinträchtigen.
Anwendungen
| Anwendung | Beschreibung | Hauptvorteil |
|---|---|---|
| Glühen von Halbleiter-Wafern | Verarbeitung von Wafern bis zu 8 Zoll zur Reparatur von Gitterdefekten nach der Ionenimplantation. | Präzise ±1 °C-Regelung sorgt für gleichmäßige elektrische Eigenschaften über die Waferoberfläche. |
| Kalzinierung von Luft- und Raumfahrtmaterialien | Hochtemperaturoxidation und Kalzinierung von Keramikmatrix-Verbundwerkstoffen unter Vakuum. | Erhält hohe Reinheit durch sauerstofffreie Umgebungen und verhindert die Kontamination kritischer Legierungen. |
| Forschung zur Dünnschichtabscheidung | Vorbereitung von Substraten und Wärmebehandlung nach der Abscheidung für fortschrittliche Solarzellen. | Große Kammer mit 190 mm Innendurchmesser nimmt mehrere Substrate gleichzeitig für Tests mit hohem Durchsatz auf. |
| F&E für Festkörperbatterien | Sintern von Keramikelektrolyten und Anodenmaterialien in kontrollierten Gasatmosphären. | Zuverlässige Gaseinlass-/-auslasssysteme ermöglichen eine exakte Kontrolle der chemischen Zusammensetzung während des Sinterns. |
| Alterung elektronischer Komponenten | Stresstests von Sensoren und Hochleistungselektronikmodulen unter extremen thermischen Bedingungen. | Die vertikale Ausrichtung ermöglicht spezielle Vorrichtungs- und Halterungsaufbauten, die die Verformung der Komponenten minimieren. |
| Vakuumentgasung | Entfernung eingeschlossener Gase aus Spezialgläsern oder Metallpulvern vor dem Gießen. | Hohe Vakuumkapazität (10^-5 Torr) sorgt für die vollständige Entfernung flüchtiger Bestandteile für eine überlegene Materialdichte. |
Technische Spezifikationen
| Spezifikation | Details für TU-QF02 |
|---|---|
| Spannung | Einphasig 208 - 240 VAC / 50/60Hz |
| Maximale Leistung | 3 KW (25 A Schutzschalter installiert) |
| Max. Arbeitstemperatur (Umgebung) | < 1100 °C |
| Max. Arbeitstemperatur (Vakuum) | < 1000 °C |
| Optionale Max. Temperatur | 1150 °C (mit aufgerüstetem GE214-Quarzrohr) |
| Aufheizrate | Empfohlen: 10 °C/min; Max: < 20 °C/min |
| Heizelemente | Ni-Cr-Al-Widerstandsdraht |
| Quarzrohr-Abmessungen | Ø200 × Ø190 × H425 mm |
| Maximale Ladekapazität | 40 kg |
| Effektiver Heizbereich | Ø240 × H245 mm |
| Flanschbaugruppe | Edelstahl mit doppelten Hochtemperatur-Silikon-O-Ringen und Wasserkühlmantel |
| Gasmanagement | Ein 1/4"-Gaseinlass und ein Auslass mit Nadelventilen |
| Vakuumanschluss | Eingebauter KF25-Anschluss für Pumpenanschluss |
| Vakuumniveau (mechanische Pumpe) | 10^-2 Torr innerhalb von 30 Minuten (ohne Thermoblock) |
| Vakuumniveau (Turbopumpe) | 10^-5 Torr innerhalb von 30 Minuten (bei 900 °C mit Quarz-Thermoblock) |
| Temperaturregler | 30-Segment-PID-Digitalregler, NRTL-zertifiziert |
| Temperaturgenauigkeit | ± 1 ºC (Standard); ± 0,1 ºC (Eurotherm-Option) |
| Vakuummeter | Mechanisches Manometer (-0,1 bis 0,15 MPa); digitales Druckmessgerät optional |
| Normenkonformität | CE-zertifiziert (NRTL/CSA auf Anfrage erhältlich) |
| Kühlungsbedarf | 16 l/min Wasserdurchfluss zum Flanschschutz |
| Kommunikation | Standard-DB9-PC-Kommunikationsanschluss enthalten |
Warum TU-QF02 wählen?
- Präzisionsgefertigt für Skalierbarkeit: Im Gegensatz zu Standard-Laboröfen bietet dieses System eine massive 8-Zoll-Verarbeitungszone, die den direkten Übergang von der Forschung und Entwicklung kleiner Proben zur Pilotproduktion ermöglicht, ohne die thermischen Parameter zu ändern.
- Überlegenes Thermomanagement: Die Integration eines wassergekühlten Flanschsystems stellt sicher, dass die Dichtungsintegrität selbst bei maximalen Temperaturen nicht beeinträchtigt wird, was die Lebensdauer der Verbrauchsmaterialien verlängert und die Wartungskosten erheblich senkt.
- Anpassungsfähige Vakuumarchitektur: Ob Sie grundlegende mechanische Vakuumniveaus oder Ultrahochvakuumumgebungen mittels Turbomolekularpumpen benötigen, die flexible KF25-Schnittstelle und die hochwertigen Edelstahlventile des Systems unterstützen Ihre spezifischen Prozessanforderungen.
- Zertifizierte Sicherheit und Zuverlässigkeit: Mit NRTL-zertifizierten Reglern und CE-Konformität erfüllt diese Ausrüstung die strengen Sicherheits- und Qualitätsstandards, die in der modernen industriellen Fertigung und in Forschungseinrichtungen mit hohen Anforderungen erforderlich sind.
- Anpassbare Steuerungsoptionen: Von hochpräzisen Eurotherm-Reglern bis hin zu digitalen Gasmischstationen bieten wir die Hardware-Modularität, die erforderlich ist, um das System an spezielle Materialverarbeitungsprotokolle anzupassen.
Unser technisches Team steht bereit, um Sie bei einer kundenspezifischen Konfiguration oder einem formellen Angebot für Ihre Einrichtung zu unterstützen. Kontaktieren Sie uns jetzt, um zu besprechen, wie dieses vertikale Vakuumsystem Ihre thermischen Verarbeitungskapazitäten verbessern kann.
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