Zylindrisches Resonator MPCVD-Maschinensystem für Mikrowellenplasma-Chemische Gasphasenabscheidung und Labordiamantzucht

CVD-Maschine

Zylindrisches Resonator MPCVD-Maschinensystem für Mikrowellenplasma-Chemische Gasphasenabscheidung und Labordiamantzucht

Artikelnummer: TU-CVD06

Mikrowellen-Ausgangsleistung: 1-10 kW stufenlos einstellbar Substrat-Wachstumsfläche: 3 Zoll (max. 45 Diamantstücke) Vakuum-Leckrate: < 5 × 10⁻⁹ Pa·m³/s
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Dieses hochleistungsfähige Mikrowellenplasma-Chemische Gasphasenabscheidungs-(MPCVD)-System ist eine erstklassige Lösung für die Synthese von hochwertigen Diamantfolien und einkristallinen Diamanten. Durch die Nutzung einer ausgeklügelten Vakuumkammer und eines hochleistungsstarken Mikrowellengenerators ermöglicht das Gerät die Zersetzung von Precursor-Gasen in einen reaktiven Plasmazustand. Dieser Prozess erlaubt die präzise Abscheidung von Kohlenstoffatomen auf Substraten und ermöglicht das Wachstum von Materialien mit außergewöhnlicher Härte, Wärmeleitfähigkeit und optischer Klarheit. Das System wurde entwickelt, um eine stabile, elektrodenfreie Umgebung bereitzustellen, die für die Aufrechterhaltung der extremen Reinheitsgrade erforderlich ist, die in der modernen Materialwissenschaft gefordert sind.

Dieser Reactor dient hauptsächlich der Halbleiter-, Optik- und Edelsteinindustrie und wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen sowohl der industriellen Produktion als auch der hochrangigen Forschung & Entwicklung zu erfüllen. Unabhängig davon, ob das Ziel die Herstellung von großflächigen Diamantsubstraten für Leistungselektronik oder hochklaren Rohdiamanten für den Schmuckmarkt ist, liefert das Gerät konsistente Ergebnisse. Seine Fähigkeit, sowohl einkristalline als auch polykristalline Strukturen zu züchten, macht es zu einem vielseitigen Asset für Labore, die sich auf next-generation Wärmemanagementlösungen und hochpräzise Schneidwerkzeugherstellung konzentrieren.

Das System wurde für langfristige Betriebsexzellenz entwickelt und verfügt über eine nachgewiesene Erfolgsbilanz von über 40.000 Stunden stabiler Leistung in anspruchsvollen industriellen Umgebungen. Die robuste Konstruktion aus 304 Edelstahl in Verbindung mit einer fortschrittlichen Wasserkühlarchitektur gewährleistet thermische Stabilität auch während einer hochleistungsstarken Mikrowellenentladung. Zuverlässigkeit steht im Mittelpunkt des Designs und bietet Forschern und Herstellern die Wiederholbarkeit, die benötigt wird, um komplexe Abscheidungsprozesse zu skalieren, ohne Einbußen bei der Kristallqualität oder strukturellen Integrität hinzunehmen.

Hauptmerkmale

  • Hochleistungsfähiger einstellbarer Mikrowellengenerator: Das System verfügt über einen kontinuierlich einstellbaren Mikrowellenausgang von 1–10 kW bei 2450 MHz, liefert die erforderliche Energiedichte für schnelles Diamantwachstum und hält gleichzeitig eine Stabilität von weniger als ±1 % ein.
  • Fortschrittlicher zylindrischer Resonanzhohlraum: Unter Nutzung der TM021- oder TM023-Moden optimiert das Design des zylindrischen Resonators die Mikrowellenfeldverteilung, um einen stabilen, schwebenden Plasmaball zu bilden, der den Kontakt mit den Kammerwänden vermeidet, um Kontamination zu verhindern.
  • Großflächige Wachstumskapazität: Das Gerät unterstützt eine Substratwachstumsfläche von 3 Zoll und erlaubt eine maximale Chargenbeladung von bis zu 45 einzelnen Diamanten, was den Durchsatz für kommerzielle Betriebe deutlich erhöht.
  • Elektrodenfreie Plasmaerzeugung: Im Gegensatz zu anderen Abscheidungsmethoden eliminiert dieses mikrowellenbasierte Verfahren Heizdrähte und Elektroden und stellt sicher, dass die Wachstumsumgebung frei von metallischen Verunreinigungen und Filamentabbau Produkten ist.
  • Präzise Gaszufuhr und -steuerung: Ausgestattet mit einem 5-Kanal Massendurchflussregler-(MFC)-System für H2, CH4, O2, N2 und Ar erlaubt das Gerät eine exakte stöchiometrische Steuerung der Reaktionsgase, um die Kristalleigenschaften fein abzustimmen.
  • Integrierte Siemens PLC-Automatisierung: Eine Siemens Smart 200 SPS und eine intuitive Touchscreen-Oberfläche bieten umfassende Kontrolle über Wachstumstemperatur, Druckzyklen und automatische Hochfahr-/Herunterfahrsequenzen.
  • Überlegene Vakuumintegrität: Die Reaktionskammer erreicht eine Vakuumleckrate von weniger als 5 × 10⁻⁹ Pa·m³/s und nutzt eine Kombination aus metallischen C-Ringen und Gummidichtungen, um die makellosen Bedingungen aufrechtzuerhalten, die für eine hochreine Synthese erforderlich sind.
  • Umfassendes Wärmemanagement: Ein mehrleitiges Wasserkühlsystem überwacht Temperatur und Durchfluss in Echtzeit und leitet überschüssige Wärme effektiv ab, um die Quarzfenster und Kammerdichtungen während des langandauernden Betriebs mit 10 kW zu schützen.
  • Echtzeit-Prozessüberwachung: Mit einem externen Infrarot-Thermometer mit einem Bereich von 300–1400 °C und acht dedizierten Beobachtungsöffnungen ermöglicht das System die präzise Überwachung der Substrattemperatur und Plasmastabilität.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Edelsteinsynthese Herstellung von hochklaren, großformatigen einkristallinen Rohdiamanten für die Schmuckindustrie. Überlegene Reinheit und Farbsteuerung im Vergleich zu HPHT-Verfahren.
Halbleitersubstrate Zucht von großflächigen Diamantwafern, die als Wärmeverteiler oder aktive Schichten in hochleistungsstarker Elektronik verwendet werden. Extreme Wärmeleitfähigkeit und hohe elektrische Durchbruchspannung.
Optische Fenster Herstellung von Diamantplatten für Hochleistungslaserfenster und Infrarotspektroskopiegeräte. Breite spektrale Transparenz und außergewöhnliche mechanische Haltbarkeit.
Schneid- & Bohrwerkzeuge Abscheidung von polykristallinen Diamant-(PCD)-Schichten auf industriellen Schneid-, Schleif- und Bohrkomponenten. Maximale Härte und Verschleißfestigkeit für anspruchsvolle Bearbeitungsaufgaben.
Quantumforschung Entwicklung von Diamantsubstraten mit spezifischen Stickstoff-Fehlstellen-(NV)-Zentren für Quantencomputing und Sensorik. Präzise Kontrolle über Dotierstoffe und extrem niedrige Hintergrundverunreinigungsgrade.
Wärmemanagement Herstellung von diamantbasierten Kühlkörpern für hochdichte LED-Arrays und Luft- und Raumfahrtkommunikationsmodule. Optimierte Wärmeabfuhr, um die Lebensdauer und Leistung von Komponenten zu verlängern.

Technische Spezifikationen

Kategorie Parameter Spezifikation (Artikelnummer: TU-CVD06)
Mikrowellensystem Frequenz 2450 ± 15 MHz
Ausgangsleistung 1 – 10 KW (kontinuierlich einstellbar)
Leistungsstabilität < ±1%
Mikrowellenleckage ≤ 2 mW/cm²
Hohlleiterschnittstelle WR340, 430 mit Standardflansch FD-340, 430
Stehwellenkoeffizient VSWR ≤ 1,5
Stromversorgung 380VAC / 50Hz ± 10%, Dreiphasig
Reaktionskammer Vakuumleckrate < 5 × 10⁻⁹ Pa·m³/s
Grenzdruck < 0,7 Pa (mit Pirani-Vakuummeter)
Druckhaltevermögen Anstieg ≤ 50 Pa nach 12 Stunden
Betriebsmodi TM021 oder TM023
Material & Struktur 304 Edelstahl mit wassergekühltem Zwischenschicht
Dichtungsverfahren Hochreine Quarzplatte; Metall-C-Ring und CF/KF-Dichtungen
Einlassverfahren Ringförmige gleichmäßige Lufteinlassung von oben
Beobachtungsöffnungen 8 Fenster für Temperatur- und Sichtüberwachung
Probenverwaltung Tischdurchmesser ≥ 72 mm (Effektive Fläche ≥ 66 mm)
Tischstruktur Wassergekühlte Sandwich-Architektur
Positionierung Elektrisches Heben und Senken für präzise Plasmapositionierung
Gasdurchflusssystem Gaskanäle 5 Kanäle (H2, CH4, O2, N2, Ar)
MFC-Durchflussraten H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2/N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
Verbindungsarten Ganzmetallschweißung oder VCR-Verbindungen
Arbeitsdruck 0,05 – 0,3 MPa (Genauigkeit ±2%)
Kühlung & Sicherheit Wasserdurchflussrate ≤ 50 L/min (Gesamtsystem); 6-12 L/min (Mikrowelle)
Überwachung Echtzeit-Temperatur- und Durchflusssensoren mit Verriegelung
Sicherheitssteuerung Funktionsverriegelung für Wasser, Strom und Druck
Steuerungssystem Architektur Siemens Smart 200 SPS mit Touchscreen
Funktionen Automatische Balance der Wachstumstemperatur, Drucksteuerung, automatischer Rampengang
Temperaturbereich 300 – 1400 °C (externes Infrarot-Thermometer)

Warum dieses Produkt wählen?

  • Unübertroffene Stabilität: Mit einer nachgewiesenen Erfolgsbilanz von über 40.000 Betriebsstunden bietet dieses System die industrietaugliche Zuverlässigkeit, die für kontinuierliche Diamantwachstumszyklen erforderlich ist.
  • Fortschrittte Plasmatechnik: Das Design des zylindrischen Resonanzhohlraums stellt sicher, dass das Plasma zentriert und schwebend bleibt, eliminiert Wandkontakt und gewährleistet die höchste Reinheit des abgeschiedenen Materials.
  • Skalierbare Produktion: Der große 3-Zoll-Wachstumsbereich und das 10-kW-Hochleistungsmikrowellensystem ermöglichen einen hochdurchlässigen Chargenprozess und senkt deutlich die Kosten pro Karat für Edelstein- und Industriediamantenhersteller.
  • Umfassender Support: Wir bieten ein "Null-Erfahrung"-Technischesupportprogramm, das fortschrittliche Rezepte für Diamantzucht und Experten Schulungen anbietet, um sicherzustellen, dass Ihr Team sofortigen Erfolg erzielt.
  • Präzise Anpassung: Unser Ingenieurteam ist spezialisiert auf die Anpassung von Hardware- und Softwarekonfigurationen, um spezifische Forschungsanforderungen zu erfüllen – von der Hinzufügung einzigartiger Gaskanäle bis hin zu kundenspezifischen Substrathaltern.

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