Split-Chamber-CVD-Röhrenofen mit Vakuumstation Chemische Gasphasenabscheidungssystem Maschine

CVD-Maschine

Split-Chamber-CVD-Röhrenofen mit Vakuumstation Chemische Gasphasenabscheidungssystem Maschine

Artikelnummer: TU-CVD02

Maximale Betriebstemperatur: 1200℃ Gassteuergenauigkeit: 4-Kanal MFC (±0,5% F.S. Linearität) Endvakuumdruck: 6x10^-5 Pa (mit Molekularpumpe)
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Produktübersicht

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Diese Hochleistungs-Chemische-Gasphasenabscheidungsanlage mit getrennter Kammer ist für anspruchsvolle Materialsynthese und Dünnschichtforschung in fortschrittlichen Laborumgebungen konzipiert. Durch die Integration eines Hochtemperatur-Röhrenofens mit einem präzisionsgesteuerten Gaszuführungsmultiple und einer robusten Vakuumstation bietet die Ausrüstung eine umfassende Lösung für Laboratorien, die eine exakte Kontrolle über thermische und atmosphärische Bedingungen erfordern. Ihre Split-Frame-Architektur ist speziell darauf ausgelegt, einen einfachen Zugang zu Reaktionsrohren und Substraten zu ermöglichen, was die Ausfallzeiten zwischen experimentellen Läufen erheblich reduziert und gleichzeitig schnelle Abkühlprotokolle ermöglicht, die für bestimmte kristalline Materialstrukturen unerlässlich sind.

Hauptsächlich in der Halbleiterfertigung, Nanotechnologie und fortschrittlichen Keramik eingesetzt, unterstützt dieses System eine Vielzahl von Prozessen, einschließlich Graphenwachstum, Kohlenstoff-Nanoröhrensynthese und verschiedene Dünnschichtbeschichtungen. Das vielseitige Design bietet Platz für diverse Vorläufer- und Trägergase, was es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für Forschungsinstitute und industrielle F&E-Zentren macht, die sich auf nächste Generation elektronischer und optoelektronischer Materialien konzentrieren. Ob beim routinemäßigen Ausglühen oder komplexen mehrstufigen chemischen Gasphasenabscheidungssequenzen, das Gerät hält eine stabile Umgebung aufrecht, um reproduzierbare Ergebnisse über jede Charge hinweg zu gewährleisten und hält dabei die strengsten Industriestandards ein.

Gebaut mit industriellen Komponenten und einem Fokus auf langfristige Zuverlässigkeit, excelt dieses Ofensystem unter anspruchsvollen kontinuierlichen Betriebszyklen. Die Kombination aus Isoliermaterial aus hochreinem Aluminiumoxidfaser und präzisionsgewickelten Heizelementen sorgt für überlegene thermische Effizienz und Temperaturgleichmäßigkeit. Benutzer können sich auf die integrierten Sicherheitsprotokolle, wie automatisierten Übertemperaturschutz und Thermoelement-Ausfallerkennung, verlassen, um empfindliche Proben zu schützen und die betriebliche Integrität in risikoreichen Laborumgebungen zu wahren. Diese Ausrüstung stellt eine Premium-Investition für Einrichtungen dar, die Präzision, Haltbarkeit und betriebliche Konsistenz priorisieren.

Hauptmerkmale

  • Hochfrequenz-Glimmentwicklung: Dieses System nutzt optionale Hochfrequenz-Glimmtechnologie, um die Abscheidungsrate der Schicht erheblich zu steigern, bis zu 10Å/S. Diese Fähigkeit ist entscheidend für Hochdurchsatzproduktion und schnelles Prototyping in wettbewerbsintensiven Forschungsbereichen.
  • Überlegene Großflächengleichmäßigkeit: Durch den Einsatz fortschrittlicher Multi-Punkt-RF-Einspeisetechnologie und spezialisierter Gaswegverteilung sorgt der Ofen für eine Schichtgleichmäßigkeit von besser als 8%. Dieses Maß an Konsistenz ist entscheidend für die Erstellung hochwertiger Beschichtungen auf großen Substraten.
  • Split-Chamber-Schiebemechanismus: Der Ofenkörper verfügt über ein spezielles Schiebesystem, das es ermöglicht, die Kammer entlang der Schiene zu bewegen. Dies ermöglicht eine schnelle Abkühlung des Prozessrohrs und erleichtert die intuitive Beobachtung der Reaktionsproben, ohne die Vakuumdichtung zu stören.
  • Präzisions-Massenflusssteuerung: Die Ausrüstung ist mit einer 4-Kanal-MFC-Gassteuereinheit ausgestattet, die digitale Regelung von Quellgasen wie CH4, H2, O2 und N2 bietet. Mit einer Linearität von ±0,5% F.S. und Wiederholbarkeit von ±0,2% F.S. wird die exakte Stöchiometrie gewährleistet, die für hochreine Synthese erforderlich ist.
  • Intelligente PID-Steuerungsschnittstelle: Ein Hochleistungs-7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller nutzt einen Closed-Loop-Negativ-Feedback-Mechanismus. Dieses System gewährleistet eine Temperaturgenauigkeit von ±1°C und ermöglicht die komplexe Programmierung von Heiz-, Halte- und Abkühlsegmenten.
  • Hochvakuum-Kompatibilität: Die integrierte Vakuumstation verfügt über eine Standard-Drehschieberpumpe mit 4L/S, die 10 Pa erreichen kann, mit einem optionalen Turbomolekularpumpen-Upgrade, das Hochvakuumdrücke von 6x10^-5 Pa für ultrareine Abscheidungsumgebungen erreicht.
  • Industrielle Heizelemente: Durch die Verwendung von Cr2Al2Mo2-Drahtspulen, eingebettet in hochreinen, aus Japan importierten Aluminiumoxidfaser, bietet das System eine maximale Arbeitstemperatur von 1200℃ mit außergewöhnlicher thermischer Rückgewinnung und Energieeffizienz.
  • Robuste Sicherheitsarchitektur: Das Gerät enthält integrierte Überstrom- und Übertemperaturalarme, die automatisch die Stromversorgung trennen, um Schäden zu verhindern. Es verfügt auch über eine Stromausfall-Neustartfunktion, die es dem System ermöglicht, Heizprogramme fortzusetzen, sobald die Stromversorgung wiederhergestellt ist.
  • Vielseitiges Flansch-Design: Edelstahl-Vakuumflansche mit Doppelring-Silikondichtungen bieten eine undichte Umgebung. Diese Flansche sind mit anpassbaren Anschlüssen konzipiert, um verschiedene Vakuummesser, Sensoren oder zusätzliche Vorläufereinlässe aufzunehmen.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Graphensynthese Präzise Regelung von Kohlenstoffquellgasen (CH4) und Trägergasen (H2, Ar) bei hohen Temperaturen. Erzeugt hochwertige, großflächige einlagige oder mehrlagige Graphenfilme.
Nanodrahtwachstum Kontrolliertes Dampf-Flüssig-Fest (VLS) Wachstum von Halbleiter-Nanodrähten unter Hochvakuum. Außergewöhnliche Kontrolle über Nanodrahtdurchmesser und kristalline Orientierung.
Dünnschichtbeschichtung Abscheidung von Metall-, Keramik- und Verbundfilmen auf verschiedenen Substraten durch chemische Reaktion. Verbesserte Oberflächeneigenschaften einschließlich Härte, Korrosionsbeständigkeit und Leitfähigkeit.
Batteriematerialverarbeitung Sintern und Trocknen von Kathoden-/Anodenmaterialien unter Schutzatmosphären. Verhindert Oxidation und verbessert die elektrochemische Stabilität von Batteriekomponenten.
Kohlenstoff-Nanoröhren (CNT) Produktion Thermische Zersetzung von Kohlenwasserstoffvorläufern über metallischen Katalysatoren. Ermöglicht das Wachstum von vertikal ausgerichteten CNT-Wäldern mit hoher Dichte.
Halbleiter-Dotierung Einbringung von Verunreinigungen in Halbleiterwafern durch Hochtemperaturdiffusion. Präzise Kontrolle der elektrischen Eigenschaften und Tiefen der pn-Übergänge in siliziumbasierten Bauteilen.
Atmosphärische Wärmebehandlung Ausglühen und Anlassen von Spezialstahlteilen oder Keramiken in reduzierenden Umgebungen. Beseitigt Oberflächenentkohlung und sorgt für eine gleichmäßige Materialhärte.
2D-Materialienforschung Synthese von Übergangsmetall-Dichalkogeniden (TMDCs) mittels Dampfphasentransport. Ermöglicht die Fertigung von hochmobilen elektronischen und optoelektronischen Sensoren.

Technische Spezifikationen

Parameter TU-CVD02 Spezifikationsdetails
Max. Temperatur 1200℃
Konstante Arbeitstemperatur 1100℃
Rohrmaterial Hochreiner Quarz
Rohrdurchmesser 60mm
Länge der Heizzone 1 x 450mm
Kammermaterial Aus Japan importierte Aluminiumoxidfaser
Heizelement Cr2Al2Mo2-Drahtspule
Heizrate 0-20℃/min
Thermoelement Integriertes K-Typ
Temperatursteuerung Digitaler PID / 7-Zoll-Touchscreen
Steuerungsgenauigkeit ±1°C
Schiebeweg 600mm
MFC-Gaskanäle 4 Kanäle (CH4, H2, O2, N2)
MFC-Durchflussraten MFC1: 0-5SCCM; MFC2: 0-20SCCM; MFC3: 0-100SCCM; MFC4: 0-500SCCM
MFC-Präzision Linearität ±0,5% F.S.; Wiederholbarkeit ±0,2% F.S.
Max. Betriebsdruck 0,45 MPa
Standard-Vakuumeinheit Drehschieberpumpe, 4L/S Durchflussrate, 10Pa Grenze
Hochvakuumeinheit (Optional) Drehschieber + Molekularpumpe, 6x10^-5 Pa Grenze
Vakuumanschluss KF25
Sicherheitsfunktionen Übertemperatur-/Überstromalarme, TC-Ausfallerkennung, Stromausfall-Fortsetzung

Standardpaket beinhaltet:

  • Split-Chamber-Ofen (TU-CVD02 Basiseinheit)
  • Hochreines Quarzrohr
  • Edelstahl-Vakuumflansche (Paar)
  • Aluminiumoxid-Rohr-Thermoblöcke
  • Präzisions-Gassteuermanifold (4-Kanal-MFC)
  • Vakuumpumpstation
  • Hitzebeständige Sicherheitshandschuhe
  • Umfassende Bedienungsanleitung

Warum dieses Produkt wählen

  • Präzisionsingenieurmäßige Konsistenz: Entwickelt mit fortschrittlichen Komponenten der Halbleiterklasse, begrenzt dieses System die Abweichung von Substrat zu Substrat auf weniger als 2%, um sicherzustellen, dass Ihre Forschungsergebnisse reproduzierbar und für industrielle Anwendungen skalierbar sind.
  • Erhöhte Laboreffizienz: Das Split-Chamber-Design und das Schienensystem ermöglichen schnelle thermische Zyklen. Durch schnelles Abkühlen der Proben nach der Abscheidung können Forscher mehr experimentelle Zyklen in einer Schicht abschließen als bei herkömmlichen Festkammeröfen.
  • Robuste Sicherheit und Compliance: Jedes Gerät ist mit mehrschichtigen Sicherheitsprotokollen ausgestattet, einschließlich automatischer Abschaltung bei Übertemperaturereignissen und fortschrittlicher Thermoelementüberwachung, was für Ruhe bei Übernachtläufen oder Läufen langer Dauer sorgt.
  • Anpassbare Gas- und Vakuumkonfigurationen: Wir erkennen an, dass jedes F&E-Projekt einzigartig ist. Das modulare Gasmanifold und die Vakuumanschlüsse des Systems ermöglichen einfache Upgrades, wie das Hinzufügen von Giftgassensoren, zusätzliche MFC-Kanäle oder Ultrahochvakuum-Turbostationen.
  • Überlegenes Wärmemanagement: Die Verwendung von Premium-Aluminiumoxidfaserisolierung aus Japan resultiert in einer Kammer mit niedriger thermischer Masse, die schnell auf Temperaturänderungen reagiert, während das externe Gehäuse kühl und energieeffizient bleibt.

Unser Engagement für technische Exzellenz stellt sicher, dass diese Ausrüstung als zuverlässiges, langfristiges Vermögenswert für Ihre Einrichtung dient. Kontaktieren Sie noch heute unser technisches Vertriebsteam, um Ihre spezifischen Prozessanforderungen zu besprechen oder ein maßgeschneidertes Angebot für Ihre Forschungsanwendung anzufordern.

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