Doppelrohr-CVD-Schiebeofen 100 mm / 80 mm mit 4-Kanal-Gasmisch- und Vakuumsystem

RTP-Ofen

Doppelrohr-CVD-Schiebeofen 100 mm / 80 mm mit 4-Kanal-Gasmisch- und Vakuumsystem

Artikelnummer: TU-RT12

Maximale Temperatur: 1200°C Rohrkonfiguration: Doppelquarz (100 mm AD / 80 mm ID) Gassteuerung: 4-Kanal digitales MFC-Mischsystem
Qualität gesichert Fast Delivery Global Support

Versand: Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.

Produktübersicht

Produktbild 1

Dieses Hochleistungs-Wärmebehandlungssystem wurde für fortschrittliche Anwendungen der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) entwickelt, insbesondere um das Wachstum von Dünnschichten und Graphen auf Metallfolien zu erleichtern. Durch die Nutzung einer einzigartigen Doppelrohr-Architektur ermöglicht das Gerät eine präzise Kontrolle der Reaktionsumgebung. Der Hauptvorteil des Systems liegt in seiner Fähigkeit, die Herstellung flexibler Elektroden auf metallischen Substraten zu handhaben – eine kritische Anforderung für die nächste Generation der Energiespeicherung und Elektronikforschung. Diese Einheit integriert Heizung, Gaszufuhr und Vakuumkontrolle in eine einzige, kohärente Plattform und sorgt so für optimierte Arbeitsabläufe für Materialwissenschaftler.

Die Ausrüstung eignet sich besonders für industrielle F&E-Umgebungen und akademische Labore, die sich auf zweidimensionale Materialien und Nanotechnologie konzentrieren. Zu den primären Anwendungsfällen gehören die großflächige Produktion von Graphenschichten und die Synthese komplexer Nanostrukturen, die eine strikte Atmosphärenkontrolle erfordern. Dieses System bietet eine vielseitige Umgebung, in der reaktive Gase präzise in einen engen 10-mm-Reaktionsraum zwischen konzentrischen Quarzrohren dosiert werden, wodurch die Vorläufereffizienz und die Schichtgleichmäßigkeit maximiert werden. Der Schiebemechanismus erhöht den Nutzen des Geräts weiter und ermöglicht schnelle thermische Zyklen, die für spezifische Phasenumwandlungen und Experimente mit hohem Durchsatz unerlässlich sind.

Der mit industrietauglichen Komponenten gebaute Ofen bietet unübertroffene Zuverlässigkeit unter anspruchsvollen Bedingungen. Die hochreine Aluminiumoxid-Isolierung und die robusten Edelstahl-Vakuumflansche sind für den Dauerbetrieb bei erhöhten Temperaturen ausgelegt. Jeder Aspekt dieses Systems, von den digitalen Massendurchflussreglern bis zur Hochleistungs-Vakuumstation, spiegelt das Engagement für Präzisionstechnik wider. Forscher können sich auf dieses Gerät für konsistente, reproduzierbare Ergebnisse verlassen, egal ob sie routinemäßige Wärmebehandlungen oder komplexe mehrstufige CVD-Syntheseprozesse in einer kontrollierten Atmosphäre durchführen.

Hauptmerkmale

  • Konzentrische Doppelrohr-Architektur: Das System verwendet ein Außenrohr mit 100 mm Durchmesser und ein aufgehängtes Innenrohr mit 80 mm Durchmesser, wodurch ein 10-mm-Reaktionsspalt entsteht, in dem metallische Foliensubstrate für eine optimale CVD-Oberfläche und Gasinteraktion gewickelt werden können.
  • Dynamisches Schienensystem: Eine robuste Gleitschiene ist in den Boden des Ofens integriert, sodass die Heizkammer schnell von der Probenzone weg bewegt werden kann. Dies ermöglicht schnelles Abschrecken oder hohe Aufheizraten, die mit stationären Öfen unmöglich sind.
  • Präzise 4-Kanal-Gaszufuhr: Die integrierte Gasmischstation verfügt über vier digitale Massendurchflussregler (MFC) mit unterschiedlichen Bereichen (100 bis 500 SCCM), die eine komplexe Mischung von Vorläufer- und Trägergasen mit einer Genauigkeit von ±1 % vom Endwert ermöglichen.
  • Fortschrittliche PID-Temperaturregelung: Das Gerät verwendet einen hochentwickelten PID-Regler mit 30 programmierbaren Segmenten, der eine sorgfältige Steuerung von Aufheizraten, Haltezeiten und Abkühlkurven bietet, um eine Temperaturstabilität von ±1 °C aufrechtzuerhalten.
  • Integrierte Vakuum- und Drucküberwachung: Eine umfassende Vakuumstation ist enthalten, die eine zweistufige Drehschieberpumpe und ein digitales Vakuummeter umfasst, das von 10^-4 bis 1000 Torr messen kann, um eine saubere und kontrollierte Reaktionsumgebung zu gewährleisten.
  • Robuste wassergekühlte Flansche: Edelstahl-304-Flansche sind mit integrierten Wasserkühlmänteln ausgestattet, die die Hochvakuumdichtungen schützen und die strukturelle Integrität bei längerem Hochtemperaturbetrieb gewährleisten.
  • Optimierte Wärmedämmung: Die Heizkammer besteht aus hochreiner Al2O3-Faserisolierung, die den Wärmeverlust minimiert und eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit über die gesamte konstante Heizzone bietet.
  • Skalierbare Heizkonfigurationen: Das System ist sowohl in Ein- als auch in Zweizonen-Heizkonfigurationen erhältlich und ermöglicht eine unabhängige Steuerung von Temperaturgradienten, was für den Transport von Vorläufern oder die Steuerung mehrstufiger Reaktionen unerlässlich ist.
  • Sicherheit und Automatisierung: Eingebaute Übertemperaturalarme und automatische Schutzfunktionen ermöglichen es dem System, sicher ohne ständige Überwachung zu arbeiten, was die Laboreffizienz erhöht und das Betriebsrisiko verringert.
  • Industrielle Swagelok-Anschlüsse: Alle Gasein- und -auslässe verwenden 1/4"-Swagelok-Rohrverbinder, die eine leckagefreie Leistung und Kompatibilität mit der standardmäßigen industriellen Gasinfrastruktur gewährleisten.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Graphenwachstum CVD-Synthese von großflächigem Graphen auf Kupfer- oder Nickelfolien, die um das Innenrohr gewickelt sind. Hohe Gleichmäßigkeit und skalierbare Produktion für transparente Elektroden.
Flexible Elektroden-F&E Beschichtung von Dünnschichten auf Metallfolien zur Verwendung in der Forschung an flexiblen Batterien und Superkondensatoren. Präzise Kontrolle der Schichtdicke und Haftung auf metallischen Substraten.
Übergangsmetall-Dichalkogenide Synthese von MoS2, WS2 und anderen 2D-Halbleitern mittels kontrolliertem Dampftransport. Zweizonen-Konfiguration ermöglicht unabhängige Steuerung der Vorläufer- und Substrattemperaturen.
Kohlenstoff-Nanoröhren-Synthese Wachstum von ausgerichteten oder zufälligen Kohlenstoff-Nanoröhren-Arrays auf verschiedenen katalytischen Oberflächen. Schnelle thermische Verarbeitung mittels Schiebemechanismus ermöglicht präzise Kontrolle der Röhrenmorphologie.
Phosphor-Abscheidung Unabhängiges Erhitzen von Phosphorquellen stromaufwärts bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung der Zielproben stromabwärts. Gleichmäßige Abscheidung und tiefe chemische Reaktion in komplexen 3D-Strukturen.
Hohle Nanowand-Herstellung Herstellung von Strukturen auf Kobalt-Phosphid-Basis für hochaktive katalytische Anwendungen. Erhält hohe katalytische Aktivität durch gleichmäßige Zusammensetzungskontrolle.
Thermische Abschreckungsstudien Schnelles Abkühlen von Proben von hohen Temperaturen auf Raumtemperatur durch Verschieben des Ofens. Ermöglicht die Untersuchung von Hochtemperaturphasen und schneller Erstarrungskinetik.
Schutzbeschichtung CVD Abscheidung von keramischen oder metallischen Schutzschichten auf Industriekomponenten. Hochvakuumumgebung sorgt für hohe Reinheit und überlegene Beschichtungshaftung.

Technische Spezifikationen

Spezifikationskategorie Parameter TU-RT12-S (Einzelzone) TU-RT12-D (Zweizone)
Ofenstruktur Isoliermaterial Hochreine Al2O3-Faser Hochreine Al2O3-Faser
Rohrmaterial Hochreiner Quarz Hochreiner Quarz
Außenrohr-Abmessungen AD 100 x ID 96 x 1400 mm AD 100 x ID 96 x 1400 mm
Innenrohr-Abmessungen AD 80 x ID 75 x 1800 mm AD 80 x ID 75 x 1800 mm
Schiebemechanismus Manuelle Schiene mit Stoppklemme Zwei-Richtungs-Gleitschienen
Temperaturleistung Max. Betriebstemperatur 1200 °C 1200 °C
Dauertemperatur 1100 °C 1100 °C
Temperaturgenauigkeit ±1 °C ±1 °C
Heizzonenlänge 440 mm 200 mm + 200 mm (400 mm gesamt)
Konstante Temp.-Zone 120 mm (±1 °C) 250 mm (wenn Zonen synchronisiert)
Gas- & Vakuumsystem MFC Kanal 1 0 ~ 100 SCCM 0 ~ 100 SCCM
MFC Kanal 2 0 ~ 200 SCCM 0 ~ 200 SCCM
MFC Kanal 3 0 ~ 200 SCCM 0 ~ 200 SCCM
MFC Kanal 4 0 ~ 500 SCCM 0 ~ 500 SCCM
Gasmischtank 80 mL 80 mL
Vakuumgrad 10^-2 Torr (mechanisch) 10^-2 Torr (mechanisch)
Vakuumanschlüsse KF25-Auslass KF25-Auslass
Steuerung & Elektrik Reglertyp 30-Segment PID mit RS485 Zwei 30-Segment PID-Regler
Kommunikationsanschluss RS485 RS485
Spannung 208-240 VAC, 50/60 Hz 208-240 VAC, 50/60 Hz
Leistungsaufnahme 2,5 KW (20A Sicherung) 4,0 KW (50A Sicherung)
Stromanschluss 10 ft Kabel (ohne Stecker) 10 ft Kabel (ohne Stecker)
Kühlsystem Flanschkühlung Wassergekühlte Mäntel Wassergekühlte Mäntel
Interne Kühlung Bodenmontierte Ventilatoren Bodenmontierte Ventilatoren

Warum TU-RT12 wählen?

  • Überlegene Technik für die Graphenforschung: Das Doppelrohr-Design ist speziell für das Roll-to-Roll-Folienwickeln optimiert und bietet die effizienteste Konfiguration für die Synthese von großflächigem Graphen und 2D-Materialien im Labormaßstab.
  • Unübertroffene thermische Agilität: Das Schiebeofendesign bietet Forschern die entscheidende Fähigkeit, ultraschnelle Abkühlraten zu erreichen oder Proben sofort zwischen Temperaturzonen zu bewegen, was für die Kontrolle von Korngrößenwachstum und Phasenreinheit unerlässlich ist.
  • Schlüsselfertige Gas- und Vakuumintegration: Im Gegensatz zu modularen Setups, die umfangreiche Montage erfordern, wird dieses System mit einer vollständig integrierten 4-Kanal-MFC-Station und einer passenden Vakuumpumpstation geliefert, was eine hochreine Atmosphärenkontrolle vom ersten Tag an gewährleistet.
  • Für den langfristigen industriellen Einsatz gebaut: Vom robusten mobilen Wagen bis zu den hochwertigen Edelstahlflanschen und der Al2O3-Isolierung wurde jede Komponente auf Langlebigkeit und konsistente Leistung in F&E-Umgebungen mit hoher Auslastung ausgewählt.
  • Präzision und Anpassbarkeit: Mit Optionen für Ein- oder Zweizonensteuerung und der Möglichkeit, Eurotherm-Regler oder kundenspezifische Gaskonfigurationen zu integrieren, kann dieses System genau an die Anforderungen Ihres spezifischen CVD-Prozesses angepasst werden.

Kontaktieren Sie THERMUNITS noch heute für eine technische Beratung oder um ein formelles Angebot für die Anforderungen Ihres Labors an thermische Prozesse zu erhalten.

Weitere FAQs zu diesem Produkt anzeigen

Fordern Sie ein Angebot an

Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!

Ähnliche Produkte

Doppelzone Quarzrohrofen mit 80 mm Durchmesser, 1200°C Maximaltemperatur, 3-Kanal-Gasmischer und Vakuumpumpensystem

Doppelzone Quarzrohrofen mit 80 mm Durchmesser, 1200°C Maximaltemperatur, 3-Kanal-Gasmischer und Vakuumpumpensystem

Dieser fortschrittliche Doppelzone-Quarzrohrofen verfügt über einen Rohr mit 80 mm Durchmesser, integrierte dreikanalige Gasmischung und ein leistungsstarkes Vakuumsystem. Er eignet sich perfekt für CVD- und Materialforschung und bietet präzise Wärmebehandlung bei 1200°C sowie korrosionsbeständige Vakuumüberwachung.

Zwei-Zonen-Rohrofen mit Doppelabdeckung für Hochtemperatur-CVD und Vakuumglühen

Zwei-Zonen-Rohrofen mit Doppelabdeckung für Hochtemperatur-CVD und Vakuumglühen

Professioneller Hochtemperatur-Zwei-Zonen-Rohrofen mit Kanthal A1-Heizelementen und fortschrittlicher PID-Steuerung für Forschung und industrielle Anwendungen. Dieses System bietet präzise thermische Verarbeitung für CVD, Vakuumglühen und Materialsintern mit beispielloser Zuverlässigkeit.

Zwei-Zonen-Schnellheiz-Rohrofen für Hochtemperatur-Vakuumatmosphärensysteme

Zwei-Zonen-Schnellheiz-Rohrofen für Hochtemperatur-Vakuumatmosphärensysteme

Dieser leistungsstarke Zwei-Zonen-Schnellheiz-Rohrofen bietet eine maximale Temperatur von 1200 °C mit schnellen Aufheizraten von 100 °C pro Minute, präziser PID-Steuerung und Vakuumatmosphären-Funktionen für fortschrittliche Materialforschung, Sintern und chemische Gasphasenabscheidung (CVD).

1200°C Max. Dual-Schieberohr-Ofen mit 50-mm-Rohrflanschen für CVD

1200°C Max. Dual-Schieberohr-Ofen mit 50-mm-Rohrflanschen für CVD

Dieser 1200°C Dual-Schieberohr-Ofen verfügt über 50-mm-Quarzrohrflansche, die speziell für hochpräzise CVD-Prozesse entwickelt wurden. Beschleunigen Sie industrielle Forschung und Entwicklung durch schnelles Aufheizen und Abkühlen mittels Schiebemechanismus, was eine überlegene Materialsynthese, konsistente Ergebnisse und Spitzenleistung bei der Dünnschichtabscheidung gewährleistet.

1200C Max. kompakter Auto-Sliding-PECVD-Ofen mit 2-Zoll-Rohr und Vakuumpumpe

1200C Max. kompakter Auto-Sliding-PECVD-Ofen mit 2-Zoll-Rohr und Vakuumpumpe

Dieser kompakte 1200°C Auto-Sliding-PECVD-Ofen verfügt über ein 2-Zoll-Rohr und eine integrierte Vakuumpumpe. Ideal für Niedertemperatur-Dünnschichtabscheidung nutzt er 300W RF-Plasma für überlegene Kontrolle der Stöchiometrie und schnelle thermische Verarbeitung in der fortgeschrittenen industriellen Materialforschung.

Hochtemperatur-Zweizonen-Klapprohrofen für fortschrittliches Atmosphärensintern und Vakuum-CVD-Anwendungen

Hochtemperatur-Zweizonen-Klapprohrofen für fortschrittliches Atmosphärensintern und Vakuum-CVD-Anwendungen

Optimieren Sie Ihre Materialforschung mit diesem hochpräzisen 1400°C-Zweizonen-Klapprohrofen. Mit unabhängiger Temperaturregelung, Möglichkeiten zum Atmosphärensintern und überragender thermischer Stabilität ist er die ideale Lösung für anspruchsvolle CVD-Experimente und industrielle thermische Verarbeitungsprojekte.

1100°C Zweizoniger geteilter vertikaler Rohrofen mit 4-Zoll-Quarzrohr und Vakuumdichtungsflanschen

1100°C Zweizoniger geteilter vertikaler Rohrofen mit 4-Zoll-Quarzrohr und Vakuumdichtungsflanschen

Dieser zweizonige, geteilte vertikale Rohrofen mit 1100°C verfügt über ein vier Zoll großes Quarzrohr und Vakuumdichtungsflansche. Entwickelt für CVD- und PVD-Anwendungen, liefert dieses hochpräzise System außergewöhnliche thermische Gleichmäßigkeit für Forschung und Entwicklung im Labor.

1200C Doppelte Temperaturzone, verschiebbare Rohröfen für das Wachstum von 2D-Materialien und TCVD-Synthese

1200C Doppelte Temperaturzone, verschiebbare Rohröfen für das Wachstum von 2D-Materialien und TCVD-Synthese

Optimieren Sie die Synthese fortschrittlicher 2D-Materialien mit diesem 1200C-Doppelfurnace-System mit verschiebbarer Heizzone für ultraschnelles Abkühlen, unabhängiger PID-Temperaturregelung und hochreiner Quarzverarbeitung, ausgelegt für präzise thermische Chemical Vapor Deposition und F&E.

1500°C Zwei-Zonen-Klapp-Rohrofen mit Vakuumflansch und 80mm Aluminiumoxid-Rohr

1500°C Zwei-Zonen-Klapp-Rohrofen mit Vakuumflansch und 80mm Aluminiumoxid-Rohr

Hochleistungs-1500°C-Zwei-Zonen-Klapp-Rohrofen mit 80mm Aluminiumoxid-Rohr, SiC-Heizelementen und präziser PID-Steuerung. Ideal für Materialforschung und -entwicklung, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und thermische Prozesse mit Vakuum- und Mehratmosphären-Fähigkeiten für anspruchsvolle industrielle Laboranwendungen.

Split-Chamber-CVD-Röhrenofen mit Vakuumstation Chemische Gasphasenabscheidungssystem Maschine

Split-Chamber-CVD-Röhrenofen mit Vakuumstation Chemische Gasphasenabscheidungssystem Maschine

Fortgeschrittenes Split-Chamber-CVD-Röhrenofensystem mit integrierter Vakuumstation und 4-Kanal-MFC-Gassteuerung. Entwickelt für präzise Dünnschichtabscheidung, Nanomaterialsynthese und Halbleiter-F&E, gewährleistet dieses Gerät Hochtemperaturgenauigkeit und außergewöhnliche Abscheidungsuniformität.

1200°C Dual-Schieberohr-Ofen mit zwei Rohren und Flanschen für PECVD-Prozesse

1200°C Dual-Schieberohr-Ofen mit zwei Rohren und Flanschen für PECVD-Prozesse

Beschleunigen Sie Ihre Materialforschung mit diesem 1200°C Dual-Schieberohr-Ofen, der speziell für präzise PECVD-Prozesse entwickelt wurde. Ausgestattet mit einem leistungsstarken RF-Plasmagenerator und Funktionen für schnelle thermische Prozesse (RTP), liefert er eine außergewöhnliche Schichtgleichmäßigkeit und konsistente Ergebnisse für anspruchsvolle industrielle F&E-Anwendungen.

Doppel-Temperatur-Drehrohr-Hochtemperaturofen mit Präzisionsrotation und einstellbarer Neigung für die fortgeschrittene Materialforschung

Doppel-Temperatur-Drehrohr-Hochtemperaturofen mit Präzisionsrotation und einstellbarer Neigung für die fortgeschrittene Materialforschung

Leistungsstarker Doppel-Temperatur-Drehrohrofen mit Kanthal A1-Heizelementen und Präzisionsrotation für eine gleichmäßige Materialverarbeitung. Ideal für CVD- und F&E-Anwendungen, die eine zuverlässige thermische Steuerung und eine einstellbare Neigung in anspruchsvollen industriellen Laborumgebungen erfordern.

Hochtemperatur 1200°C Automatischer Schiebe-Doppelzonen-Röhrenofen für das Wachstum von 2D-Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Material-Sublimationsforschung

Hochtemperatur 1200°C Automatischer Schiebe-Doppelzonen-Röhrenofen für das Wachstum von 2D-Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Material-Sublimationsforschung

Meistern Sie die 2D-Materialsynthese mit diesem 1200°C automatischen Schiebe-Doppelofensystem, das für TMD-Wachstum konzipiert ist. Merkmale: Unabhängige Sublimations- und Abscheidungszonen für präzise Temperaturkontrolle und schnelle Abkühlraten, um hochwertige Dünnschichtkristall-Forschungsergebnisse zu gewährleisten.

1200°C Hochtemperatur-Vertikalschubofen mit Rapid Thermal Processing und Vakuumrohr-Hybridfunktionen

1200°C Hochtemperatur-Vertikalschubofen mit Rapid Thermal Processing und Vakuumrohr-Hybridfunktionen

Maximieren Sie die Forschungseffizienz mit diesem 1200°C Vertikalschubofen mit Rapid Thermal Processing-Fähigkeiten. Dieses Hybridsystem bietet duale Kasten- und Vakuumrohrfunktionalität und liefert präzise Temperaturkontrolle sowie ultraschnelles Aufheizen oder Abkühlen für fortschrittliche Materialwissenschaftsanwendungen.

Vertikaler, öffenbarer Rohrofen 0-1700°C Hochtemperatur-Laboranlage für CVD und Vakuum-Wärmebehandlung

Vertikaler, öffenbarer Rohrofen 0-1700°C Hochtemperatur-Laboranlage für CVD und Vakuum-Wärmebehandlung

Konzipiert für fortschrittliche Materialforschung, zeichnet sich dieser 1700°C vertikale, öffenbare Rohrofen durch präzise Dreizonenheizung und schnelle Abschreckfähigkeiten aus. Ideal für CVD-Prozesse und Vakuumglühen bietet er industrietaugliche Zuverlässigkeit, Atmosphärenkontrolle und modulare Flexibilität für anspruchsvolle F&E-Umgebungen.

Hochtemperatur-Zweizonen-Vakuumrohrofen für Materialforschung und CVD-Prozesse

Hochtemperatur-Zweizonen-Vakuumrohrofen für Materialforschung und CVD-Prozesse

Erweitern Sie Ihre Laborkapazitäten mit diesem hochpräzisen Zweizonen-Vakuumrohrofen. Entwickelt für fortschrittliche Materialforschung und CVD-Prozesse, bietet er eine unabhängige Temperaturregelung, schnelle Aufheizraten und eine robuste Vakuumabdichtung für konsistente thermische Behandlungsergebnisse in Industriequalität.

Drei-Zonen-Quarzrohr-Ofen mit 3-Kanal-Gasmischer, Vakuumpumpe und korrosionsbeständigem Vakuummeter

Drei-Zonen-Quarzrohr-Ofen mit 3-Kanal-Gasmischer, Vakuumpumpe und korrosionsbeständigem Vakuummeter

Dieses hochpräzise 1200°C Drei-Zonen-Quarzrohr-Ofensystem bietet eine integrierte 3-Kanal-Gasmischung und korrosionsbeständige Vakuumüberwachung für professionelle CVD-Anwendungen und Materialsynthese in anspruchsvollen Laborforschungsumgebungen sowie industriellen F&E-Prozessen.

Hochtemperatur-Zwei-Zonen-Drehrohr-Ofen 1500°C mit Siliziumkarbid-Heizung für die Synthese fortschrittlicher Materialien

Hochtemperatur-Zwei-Zonen-Drehrohr-Ofen 1500°C mit Siliziumkarbid-Heizung für die Synthese fortschrittlicher Materialien

Optimieren Sie thermische Prozesse mit diesem hochpräzisen Zwei-Zonen-Drehrohr-Ofen. Mit einer Maximaltemperatur von 1500°C und fortschrittlichen SiC-Heizelementen sorgt er für gleichmäßige Ergebnisse bei industrieller Forschung und Entwicklung, chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) und anspruchsvollen materialwissenschaftlichen Anwendungen in globalen Laboren.

1200°C Schieberohr-Ofen für Rapid Thermal Processing und CVD-Graphenwachstum mit 100 mm Außendurchmesser-Kapazität

1200°C Schieberohr-Ofen für Rapid Thermal Processing und CVD-Graphenwachstum mit 100 mm Außendurchmesser-Kapazität

Beschleunigen Sie Ihre Forschung mit diesem 1200°C Schieberohr-Ofen, der speziell für Rapid Thermal Processing (RTP) und CVD-Anwendungen entwickelt wurde. Ausgestattet mit hochpräziser SPS-Steuerung und einer motorisierten Gleitschiene für ultraschnelle Heiz- und Kühlzyklen in der modernen Materialwissenschaft und industriellen F&E-Laboren.

5-Zoll-Rotationsrohrofen mit zwei Zonen, 1100 °C für Pulver-CVD und Materialsynthese

5-Zoll-Rotationsrohrofen mit zwei Zonen, 1100 °C für Pulver-CVD und Materialsynthese

Verbessern Sie die Materialforschung mit unserem hochpräzisen zweizonigen Rotationsrohrofen mit 1100 °C. Speziell für gleichmäßige Pulver-CVD und Kern-Schale-Synthese entwickelt, bietet dieses 5-Zoll-Quarzsystem eine fortschrittliche Atmosphärensteuerung sowie eine unabhängige Optimierung der thermischen Verarbeitung in zwei Zonen.

Ähnliche Artikel