Doppelrohr-CVD-Schiebeofen 100 mm / 80 mm mit 4-Kanal-Gasmisch- und Vakuumsystem

RTP-Ofen

Doppelrohr-CVD-Schiebeofen 100 mm / 80 mm mit 4-Kanal-Gasmisch- und Vakuumsystem

Artikelnummer: TU-RT12

Maximale Temperatur: 1200°C Rohrkonfiguration: Doppelquarz (100 mm AD / 80 mm ID) Gassteuerung: 4-Kanal digitales MFC-Mischsystem
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Dieses Hochleistungs-Wärmebehandlungssystem wurde für fortschrittliche Anwendungen der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) entwickelt, insbesondere um das Wachstum von Dünnschichten und Graphen auf Metallfolien zu erleichtern. Durch die Nutzung einer einzigartigen Doppelrohr-Architektur ermöglicht das Gerät eine präzise Kontrolle der Reaktionsumgebung. Der Hauptvorteil des Systems liegt in seiner Fähigkeit, die Herstellung flexibler Elektroden auf metallischen Substraten zu handhaben – eine kritische Anforderung für die nächste Generation der Energiespeicherung und Elektronikforschung. Diese Einheit integriert Heizung, Gaszufuhr und Vakuumkontrolle in eine einzige, kohärente Plattform und sorgt so für optimierte Arbeitsabläufe für Materialwissenschaftler.

Die Ausrüstung eignet sich besonders für industrielle F&E-Umgebungen und akademische Labore, die sich auf zweidimensionale Materialien und Nanotechnologie konzentrieren. Zu den primären Anwendungsfällen gehören die großflächige Produktion von Graphenschichten und die Synthese komplexer Nanostrukturen, die eine strikte Atmosphärenkontrolle erfordern. Dieses System bietet eine vielseitige Umgebung, in der reaktive Gase präzise in einen engen 10-mm-Reaktionsraum zwischen konzentrischen Quarzrohren dosiert werden, wodurch die Vorläufereffizienz und die Schichtgleichmäßigkeit maximiert werden. Der Schiebemechanismus erhöht den Nutzen des Geräts weiter und ermöglicht schnelle thermische Zyklen, die für spezifische Phasenumwandlungen und Experimente mit hohem Durchsatz unerlässlich sind.

Der mit industrietauglichen Komponenten gebaute Ofen bietet unübertroffene Zuverlässigkeit unter anspruchsvollen Bedingungen. Die hochreine Aluminiumoxid-Isolierung und die robusten Edelstahl-Vakuumflansche sind für den Dauerbetrieb bei erhöhten Temperaturen ausgelegt. Jeder Aspekt dieses Systems, von den digitalen Massendurchflussreglern bis zur Hochleistungs-Vakuumstation, spiegelt das Engagement für Präzisionstechnik wider. Forscher können sich auf dieses Gerät für konsistente, reproduzierbare Ergebnisse verlassen, egal ob sie routinemäßige Wärmebehandlungen oder komplexe mehrstufige CVD-Syntheseprozesse in einer kontrollierten Atmosphäre durchführen.

Hauptmerkmale

  • Konzentrische Doppelrohr-Architektur: Das System verwendet ein Außenrohr mit 100 mm Durchmesser und ein aufgehängtes Innenrohr mit 80 mm Durchmesser, wodurch ein 10-mm-Reaktionsspalt entsteht, in dem metallische Foliensubstrate für eine optimale CVD-Oberfläche und Gasinteraktion gewickelt werden können.
  • Dynamisches Schienensystem: Eine robuste Gleitschiene ist in den Boden des Ofens integriert, sodass die Heizkammer schnell von der Probenzone weg bewegt werden kann. Dies ermöglicht schnelles Abschrecken oder hohe Aufheizraten, die mit stationären Öfen unmöglich sind.
  • Präzise 4-Kanal-Gaszufuhr: Die integrierte Gasmischstation verfügt über vier digitale Massendurchflussregler (MFC) mit unterschiedlichen Bereichen (100 bis 500 SCCM), die eine komplexe Mischung von Vorläufer- und Trägergasen mit einer Genauigkeit von ±1 % vom Endwert ermöglichen.
  • Fortschrittliche PID-Temperaturregelung: Das Gerät verwendet einen hochentwickelten PID-Regler mit 30 programmierbaren Segmenten, der eine sorgfältige Steuerung von Aufheizraten, Haltezeiten und Abkühlkurven bietet, um eine Temperaturstabilität von ±1 °C aufrechtzuerhalten.
  • Integrierte Vakuum- und Drucküberwachung: Eine umfassende Vakuumstation ist enthalten, die eine zweistufige Drehschieberpumpe und ein digitales Vakuummeter umfasst, das von 10^-4 bis 1000 Torr messen kann, um eine saubere und kontrollierte Reaktionsumgebung zu gewährleisten.
  • Robuste wassergekühlte Flansche: Edelstahl-304-Flansche sind mit integrierten Wasserkühlmänteln ausgestattet, die die Hochvakuumdichtungen schützen und die strukturelle Integrität bei längerem Hochtemperaturbetrieb gewährleisten.
  • Optimierte Wärmedämmung: Die Heizkammer besteht aus hochreiner Al2O3-Faserisolierung, die den Wärmeverlust minimiert und eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit über die gesamte konstante Heizzone bietet.
  • Skalierbare Heizkonfigurationen: Das System ist sowohl in Ein- als auch in Zweizonen-Heizkonfigurationen erhältlich und ermöglicht eine unabhängige Steuerung von Temperaturgradienten, was für den Transport von Vorläufern oder die Steuerung mehrstufiger Reaktionen unerlässlich ist.
  • Sicherheit und Automatisierung: Eingebaute Übertemperaturalarme und automatische Schutzfunktionen ermöglichen es dem System, sicher ohne ständige Überwachung zu arbeiten, was die Laboreffizienz erhöht und das Betriebsrisiko verringert.
  • Industrielle Swagelok-Anschlüsse: Alle Gasein- und -auslässe verwenden 1/4"-Swagelok-Rohrverbinder, die eine leckagefreie Leistung und Kompatibilität mit der standardmäßigen industriellen Gasinfrastruktur gewährleisten.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Graphenwachstum CVD-Synthese von großflächigem Graphen auf Kupfer- oder Nickelfolien, die um das Innenrohr gewickelt sind. Hohe Gleichmäßigkeit und skalierbare Produktion für transparente Elektroden.
Flexible Elektroden-F&E Beschichtung von Dünnschichten auf Metallfolien zur Verwendung in der Forschung an flexiblen Batterien und Superkondensatoren. Präzise Kontrolle der Schichtdicke und Haftung auf metallischen Substraten.
Übergangsmetall-Dichalkogenide Synthese von MoS2, WS2 und anderen 2D-Halbleitern mittels kontrolliertem Dampftransport. Zweizonen-Konfiguration ermöglicht unabhängige Steuerung der Vorläufer- und Substrattemperaturen.
Kohlenstoff-Nanoröhren-Synthese Wachstum von ausgerichteten oder zufälligen Kohlenstoff-Nanoröhren-Arrays auf verschiedenen katalytischen Oberflächen. Schnelle thermische Verarbeitung mittels Schiebemechanismus ermöglicht präzise Kontrolle der Röhrenmorphologie.
Phosphor-Abscheidung Unabhängiges Erhitzen von Phosphorquellen stromaufwärts bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung der Zielproben stromabwärts. Gleichmäßige Abscheidung und tiefe chemische Reaktion in komplexen 3D-Strukturen.
Hohle Nanowand-Herstellung Herstellung von Strukturen auf Kobalt-Phosphid-Basis für hochaktive katalytische Anwendungen. Erhält hohe katalytische Aktivität durch gleichmäßige Zusammensetzungskontrolle.
Thermische Abschreckungsstudien Schnelles Abkühlen von Proben von hohen Temperaturen auf Raumtemperatur durch Verschieben des Ofens. Ermöglicht die Untersuchung von Hochtemperaturphasen und schneller Erstarrungskinetik.
Schutzbeschichtung CVD Abscheidung von keramischen oder metallischen Schutzschichten auf Industriekomponenten. Hochvakuumumgebung sorgt für hohe Reinheit und überlegene Beschichtungshaftung.

Technische Spezifikationen

Spezifikationskategorie Parameter TU-RT12-S (Einzelzone) TU-RT12-D (Zweizone)
Ofenstruktur Isoliermaterial Hochreine Al2O3-Faser Hochreine Al2O3-Faser
Rohrmaterial Hochreiner Quarz Hochreiner Quarz
Außenrohr-Abmessungen AD 100 x ID 96 x 1400 mm AD 100 x ID 96 x 1400 mm
Innenrohr-Abmessungen AD 80 x ID 75 x 1800 mm AD 80 x ID 75 x 1800 mm
Schiebemechanismus Manuelle Schiene mit Stoppklemme Zwei-Richtungs-Gleitschienen
Temperaturleistung Max. Betriebstemperatur 1200 °C 1200 °C
Dauertemperatur 1100 °C 1100 °C
Temperaturgenauigkeit ±1 °C ±1 °C
Heizzonenlänge 440 mm 200 mm + 200 mm (400 mm gesamt)
Konstante Temp.-Zone 120 mm (±1 °C) 250 mm (wenn Zonen synchronisiert)
Gas- & Vakuumsystem MFC Kanal 1 0 ~ 100 SCCM 0 ~ 100 SCCM
MFC Kanal 2 0 ~ 200 SCCM 0 ~ 200 SCCM
MFC Kanal 3 0 ~ 200 SCCM 0 ~ 200 SCCM
MFC Kanal 4 0 ~ 500 SCCM 0 ~ 500 SCCM
Gasmischtank 80 mL 80 mL
Vakuumgrad 10^-2 Torr (mechanisch) 10^-2 Torr (mechanisch)
Vakuumanschlüsse KF25-Auslass KF25-Auslass
Steuerung & Elektrik Reglertyp 30-Segment PID mit RS485 Zwei 30-Segment PID-Regler
Kommunikationsanschluss RS485 RS485
Spannung 208-240 VAC, 50/60 Hz 208-240 VAC, 50/60 Hz
Leistungsaufnahme 2,5 KW (20A Sicherung) 4,0 KW (50A Sicherung)
Stromanschluss 10 ft Kabel (ohne Stecker) 10 ft Kabel (ohne Stecker)
Kühlsystem Flanschkühlung Wassergekühlte Mäntel Wassergekühlte Mäntel
Interne Kühlung Bodenmontierte Ventilatoren Bodenmontierte Ventilatoren

Warum TU-RT12 wählen?

  • Überlegene Technik für die Graphenforschung: Das Doppelrohr-Design ist speziell für das Roll-to-Roll-Folienwickeln optimiert und bietet die effizienteste Konfiguration für die Synthese von großflächigem Graphen und 2D-Materialien im Labormaßstab.
  • Unübertroffene thermische Agilität: Das Schiebeofendesign bietet Forschern die entscheidende Fähigkeit, ultraschnelle Abkühlraten zu erreichen oder Proben sofort zwischen Temperaturzonen zu bewegen, was für die Kontrolle von Korngrößenwachstum und Phasenreinheit unerlässlich ist.
  • Schlüsselfertige Gas- und Vakuumintegration: Im Gegensatz zu modularen Setups, die umfangreiche Montage erfordern, wird dieses System mit einer vollständig integrierten 4-Kanal-MFC-Station und einer passenden Vakuumpumpstation geliefert, was eine hochreine Atmosphärenkontrolle vom ersten Tag an gewährleistet.
  • Für den langfristigen industriellen Einsatz gebaut: Vom robusten mobilen Wagen bis zu den hochwertigen Edelstahlflanschen und der Al2O3-Isolierung wurde jede Komponente auf Langlebigkeit und konsistente Leistung in F&E-Umgebungen mit hoher Auslastung ausgewählt.
  • Präzision und Anpassbarkeit: Mit Optionen für Ein- oder Zweizonensteuerung und der Möglichkeit, Eurotherm-Regler oder kundenspezifische Gaskonfigurationen zu integrieren, kann dieses System genau an die Anforderungen Ihres spezifischen CVD-Prozesses angepasst werden.

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