1200C Max. kompakter Auto-Sliding-PECVD-Ofen mit 2-Zoll-Rohr und Vakuumpumpe

Produktübersicht

Dieses Hochleistungs-Thermoprozesssystem ist eine kompakte Lösung für die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD), die speziell für fortgeschrittene Materialforschung und Dünnschichtentwicklung entwickelt wurde. Durch die Integration eines leistungsstarken RF-Plasmagenerators mit einem präzisen geteilten Rohrofen ermöglicht die Anlage Forschern, eine überlegene Schichtqualität bei deutlich niedrigeren Temperaturen als bei herkömmlichen CVD-Verfahren zu erzielen. Der zentrale Mehrwert liegt in dem einzigartigen verschiebbaren Mechanismus, der es ermöglicht, die Heizzone schnell zur Probenposition zu bewegen und so eine sofortige Hochtemperaturexposition sowie beschleunigte Abkühlzyklen zu ermöglichen — für eine beispiellose Kontrolle über Mikrostruktur und Phasenbildung.

Primär für Labor-F&E und industrielle Materialwissenschaft entwickelt, eignet sich das System ideal für das Abscheiden verschiedenster Schichten, darunter Siliziumoxide, Nitride und amorphes Silizium. Seine Vielseitigkeit macht es zu einem Eckpfeiler für Labore, die sich auf Halbleiter, Photovoltaik und Nanotechnologie spezialisiert haben. Die kompakte Bauform ermöglicht eine nahtlose Integration in bestehende Laborumgebungen, ohne die für professionelle Materialsynthese erforderlichen Hochvakuum- und Hochtemperaturfähigkeiten einzuschränken.

Zuverlässigkeit steht im Mittelpunkt des Designs dieses Geräts. Ausgestattet mit industrietauglichen Komponenten, darunter ein robuster 13,56-MHz-RF-Generator und hochreine Quarz-Prozessrohre, liefert das System unter anspruchsvollen Betriebszyklen eine konstante Leistung. Die Integration von Hochvakuumflanschen und einer zweistufigen Vakuumpumpe gewährleistet eine saubere, kontrollierte Umgebung für empfindliche chemische Gasphasenabscheidungsprozesse und gibt Forschern die Sicherheit, komplexe, mehrstufige experimentelle Protokolle mit reproduzierbarer Genauigkeit durchzuführen.

Wichtige Merkmale

• Integrierter Auto-Sliding-Mechanismus: Der Ofen ist auf einem hochbelastbaren Präzisionsschienensystem montiert, das eine schnelle Verschiebung der Heizzone ermöglicht. Diese Konstruktion erlaubt ein sofortiges Aufheizen und Abkühlen der Probe, was entscheidend für die Kontrolle des Kornwachstums und das Abschrecken metastabiler Phasen ist.
• Hocheffiziente RF-Plasmagenerierung: Ausgestattet mit einem 300W-RF-Generator, der bei 13,56 MHz arbeitet, erzeugt das System eine stabile Plasmaleitung. Dadurch können chemische Reaktionen bei reduzierten Substrattemperaturen stattfinden, was hitzeempfindliche Materialien schützt und thermische Spannungen in den abgeschiedenen Schichten reduziert.
• Präzises Temperaturmanagement: Das Gerät verwendet ein 300-Watt-Heizsystem, das von einem programmierbaren 30-Segment-Digital-PID-Controller gesteuert wird. Dies gewährleistet eine Genauigkeit von ±1°C und erlaubt komplexe Temperaturprofile einschließlich Aufheizen, Halten und Abkühlen, die automatisch ausgeführt werden.
• Überlegene Vakuumintegrität: Mit Vakuumflanschen aus Edelstahl 304 und doppelten O-Ring-Dichtungen erreicht das System ein Hochvakuum von 3 x 10E-3 torr. Ein digitaler Pirani-Messwertgeber und hochwertige Nadelventile ermöglichen eine genaue Kontrolle der Prozessatmosphäre.
• Geteiltes Ofendesign: Der Ofenkörper ist als geteilte Scharnier-Einheit ausgeführt, was das einfache Be- und Entladen von Proben, den schnellen Austausch des Prozessrohrs und eine schnellere natürliche Abkühlung ermöglicht, wenn der Schiebemechanismus nicht verwendet wird.
• Verbesserte Kontrolle der Stöchiometrie: Durch die Anpassung von Plasmaleistung, Gasdurchflussraten und Druck können Anwender die chemische Zusammensetzung und die Filmschichtspannung der abgeschiedenen Materialien präzise steuern, was das System zu einem hochflexiblen Werkzeug für spezialisierte Beschichtungsanwendungen macht.
• Robuste Sicherheit und Konformität: Das System ist CE-zertifiziert und verfügt über Schutzfunktionen wie einen Ölnebelabscheider für die Vakuumpumpe sowie Optionen zur Sauerstoffüberwachung, um unerwünschte Oxidation während empfindlicher Abscheidezyklen zu verhindern.

Anwendungen

Technische Daten

Warum dieses PECVD-System wählen

• Unerreichte thermische Vielseitigkeit: Die Kombination aus einer Auto-Sliding-Schiene und plasmaunterstützter Abscheidung ermöglicht einen breiteren experimentellen Bereich als Standardöfen und unterstützt sowohl schnelle thermische Prozesse als auch chemische Reaktionen bei niedrigen Temperaturen.
• Präzisionsengineering: Jedes Bauteil, vom 13,56-MHz-RF-Generator bis zur Vakuum-Baugruppe aus Edelstahl, wird aufgrund seiner Fähigkeit ausgewählt, über einen langfristigen Betrieb hinweg strenge industrielle Toleranzen einzuhalten.
• Umfassende Integration: Dieses System wird als Komplettlösung geliefert, einschließlich Ofen, Plasmagenerator, Vakuumpumpe und Überwachungshardware, was die Einrichtungszeit reduziert und die Kompatibilität der Komponenten sicherstellt.
• Skalierbar und anpassbar: Mit Optionen für Mehrkanal-Gasmischstationen, Flüssigkeitsverdampfungssysteme und erweiterte Softwaresteuerung kann das Gerät an spezifische Forschungsbudgets und technische Anforderungen angepasst werden.
• Bewährte Zuverlässigkeit: Dieses Gerät wurde entwickelt, um Laborstandards zu übertreffen, und wird durch ein globales Servicenetzwerk sowie eine Verpflichtung zu hochwertiger Fertigung unterstützt, damit Ihre F&E-Investition geschützt ist.

Kontaktieren Sie noch heute unser technisches Vertriebsteam, um ein Angebot anzufordern oder zu besprechen, wie wir dieses PECVD-System für Ihre spezifischen Anforderungen an die Dünnschichtabscheidung anpassen können.