1200°C Dual-Schieberohr-Ofen mit zwei Rohren und Flanschen für PECVD-Prozesse

Produktübersicht

Dieses Hochtemperatur-Dual-Schiebeofensystem stellt eine hochentwickelte Lösung für die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) und schnelle thermische Prozesse dar. Durch die Integration von zwei unabhängigen Heizeinheiten auf einer präzisionsgefertigten Gleitschiene ermöglicht das Gerät eine beispiellose Kontrolle über thermische Gradienten und Übergangsgeschwindigkeiten. Es wurde speziell entwickelt, um die strengen Anforderungen von Materialwissenschaftlern zu erfüllen, die präzise Gasphasenreaktionen und eine hochwertige Dünnschichtabscheidung über verschiedene thermische Zonen hinweg benötigen.

Dieses System wird hauptsächlich in der Halbleiterfertigung, der Nanomaterialsynthese und der Forschung an fortschrittlichen Beschichtungen eingesetzt und zeichnet sich in Umgebungen aus, in denen schnelles Aufheizen und Abkühlen entscheidend für das Erreichen spezifischer Materialphasen sind. Die Konfiguration mit zwei Öfen ermöglicht die physikalische Trennung von Vorstufenverdampfung und Substratabscheidungszonen, eine Grundvoraussetzung für komplexes Materialwachstum wie Perowskite oder 2D-Kristalle. Zu den Zielbranchen gehören die Luft- und Raumfahrt, Energiespeicherung und Optoelektronik, in denen Materialreinheit und strukturelle Integrität für die Entwicklung der nächsten Technologiegeneration von größter Bedeutung sind.

Das auf industrielle Zuverlässigkeit ausgelegte Gerät verwendet hochreinen Quarz und eine fortschrittliche Wärmedämmung, um eine außergewöhnliche thermische Stabilität aufrechtzuerhalten. Der robuste Schiebemechanismus und die integrierte RF-Plasmaquelle stellen sicher, dass das Gerät bei anspruchsvollen kontinuierlichen Betriebszyklen konsistent arbeitet. Dieses System bietet eine stabile und wiederholbare Plattform für die Hochtemperatursynthese und gibt Industrie- und Universitätslaboren die Sicherheit, komplexe experimentelle Protokolle ohne Kompromisse bei Präzision oder Sicherheit durchzuführen.

Hauptmerkmale

• Dynamisches Dual-Ofen-Schiebesystem: Das Gerät verfügt über zwei unabhängige Öfen, die auf einer 1200 mm langen, verchromten Stahlschiene montiert sind. Dies ermöglicht es, die Heizkammern manuell um bis zu 400 mm zu verschieben, wodurch Benutzer zwischen Quellenverdampfungs- und Abscheidungszonen wechseln oder durch Entfernen der Wärmequelle vom Substrat eine schnelle thermische Abschreckung (Quenching) erreichen können.
• Hochleistungs-RF-Plasma-Integration: Ausgestattet mit einem 13,56 MHz, 300W RF-Generator mit automatischer Anpassung ermöglicht dieses System die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD). Die Plasmaquelle erlaubt das Schichtwachstum bei deutlich niedrigeren Temperaturen im Vergleich zu herkömmlichem CVD, wodurch die Integrität empfindlicher Substrate gewahrt bleibt.
• Rapid Thermal Processing (RTP) Fähigkeiten: Durch das Vorheizen eines Ofens und das Schieben über die Prozesszone kann das System extreme Heiz- und Kühlraten (bis zu 15°C/Sek. in bestimmten Bereichen) erreichen, was die Untersuchung von Hochtemperaturkinetik und schnellen Glühprozessen ermöglicht.
• Präzise PID-Temperaturregelung: Jede Ofeneinheit wird von einem dedizierten PID-Automatikregler mit 30 programmierbaren Segmenten gesteuert. Dies gewährleistet eine Genauigkeit der konstanten Temperaturzone von ±1°C und bietet die für empfindliche chemische Gasphasenabscheidungen erforderliche Konsistenz.
• Fortschrittliche Sicherheit und Langlebigkeit: Die Öfen verwenden eine zweischichtige Stahlstruktur mit Luftkühlung, um eine niedrige externe Oberflächentemperatur aufrechtzuerhalten. Integrierte Übertemperaturalarme und Schutzsysteme ermöglichen einen sicheren, unbeaufsichtigten Betrieb während langer Abscheidungszyklen.
• Hochreine Materialumgebung: Das System umfasst ein hochreines Quarzglasrohr mit 50 mm Außendurchmesser und Vakuumflansche aus Edelstahl. Dieser Aufbau sorgt für eine saubere, vakuumdichte Umgebung, die für die Synthese hochreiner Materialien und Niederdruckprozesse geeignet ist.
• Vielseitige Kontrolle thermischer Gradienten: Das Zwei-Zonen-Design ermöglicht das unabhängige Erhitzen von Vorstufen und Substraten. Dies ist entscheidend für Materialien mit unterschiedlichen Dampfdrücken, um ein stöchiometrisches Gleichgewicht in der Reaktionszone sicherzustellen.
• Modulare Erweiterungsoptionen: Das System ist so konzipiert, dass es mit den Forschungsanforderungen wächst und unterstützt optionale motorisierte Gleitschienen, Mehrkanal-Gasmischsysteme sowie PC-basierte Steuermodule für automatisiertes Datenlogging und Profilmanagement.

Anwendungen

Technische Spezifikationen

Warum TU-RT11 wählen?

• Fortschrittliche Dual-Zonen-Vielseitigkeit: Im Gegensatz zu Standard-Rohröfen ermöglicht das Dual-Schiebedesign des TU-RT11 komplexe mehrstufige thermische Prozesse und ein unabhängiges Vorstufenmanagement, was für die moderne Materialwissenschaft unerlässlich ist.
• Überlegene thermische Agilität: Die Fähigkeit, Heiz- und Kühlraten von bis zu 15°C/Sek. zu erreichen, bietet Forschern ein Werkzeug, das industrielle Rapid Thermal Processing (RTP) und Abschreckumgebungen simulieren kann.
• Präzisionstechnik: Mit automatischer RF-Anpassung und einer Temperaturgenauigkeit von ±1°C eliminiert dieses System die Variablen bei der PECVD und stellt sicher, dass Ihre Dünnschichtabscheidung wiederholbar und von höchster Qualität ist.
• Umfassende Konformität und Sicherheit: Jedes Gerät ist CE-zertifiziert und mit einer zweischichtigen Sicherheitsstruktur gebaut, was eine sichere Laborumgebung selbst bei Hochtemperatur- und Hochleistungs-RF-Betrieb gewährleistet.
• Anpassbare Lösungen: Von Legierungsrohren für Hochdruckanwendungen bis hin zu motorisierten Schiebesystemen und Mehrkanal-Gaszuführungen bieten wir umfangreiche Anpassungsmöglichkeiten, um das Gerät an Ihre spezifischen Forschungsziele anzupassen.

Kontaktieren Sie noch heute unser technisches Vertriebsteam für ein detailliertes Angebot oder um zu besprechen, wie wir dieses Hochleistungs-PECVD-System für Ihre spezifischen Forschungsanforderungen anpassen können.