Schneller Thermoprozess RTP – Bodenbeladungs-Ofen mit Atmosphärensteuerung 1100°C, Hoher Durchsatz, Aufheizrate 50°C pro Sekunde

Atmosphärenofen

Schneller Thermoprozess RTP – Bodenbeladungs-Ofen mit Atmosphärensteuerung 1100°C, Hoher Durchsatz, Aufheizrate 50°C pro Sekunde

Artikelnummer: TU-DZ11

Maximale Heizrate: 50°C/s Temperaturbereich: Maximal 1100°C (1000°C Dauerbetrieb) Waferkapazität: Bis zu 6-Zoll-Durchmesser
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Produktübersicht

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Dieses System für Schnellen Thermoprozess (RTP) stellt einen Höhepunkt der Hochgeschwindigkeits-Wärmebehandlungstechnologie dar, speziell entwickelt für die fortschrittliche Materialwissenschaft und Halbleiterforschung. Durch die Nutzung von intensiver Kurzwellen-Infrarot-Heizung erreicht das Gerät außergewöhnliche Aufheizraten von bis zu 50°C/s und ermöglicht so eine präzise Kontrolle von Wärmebudgets und Phasenübergängen. Diese Einheit ist als Bodenbeladungssystem konzipiert, was die Handhabungssicherheit von Proben deutlich erhöht und eine nahtlose Integration in automatisierte Roboterarbeitsabläufe in modernen durchsatzstarken Laborumgebungen ermöglicht.

Primäre Anwendungsbereiche für dieses Gerät umfassen die Herstellung von Einzelatomkatalysatoren, schnelles Tempern von Silizium- oder Verbindungshalbleiterwafern bis zu 6 Zoll sowie komplexe Sinterprozesse, bei denen Kühl- und Aufheizraten entscheidend für die Materialeigenschaften sind. Die Fähigkeit des Systems, unter streng kontrollierten Atmosphären oder Hochvakuum zu arbeiten, macht es unverzichtbar für Forscher in der Nanotechnologie, Energiespeicherung und Elektronikkomponenten. Seine robuste Konstruktion gewährleistet, dass es die wiederholte thermische Belastung durch schnelle Zyklen aushält, ohne strukturelle Integrität oder Prozesswiederholbarkeit einzubüßen.

Industrielle und wissenschaftliche Käufer können sich auf die konsistente Leistung dieses Systems unter anspruchsvollen F&E-Bedingungen verlassen. Die Kombination aus präziser PID-Steuerung, hochreinem Quarzbehälter und fortschrittlicher Datenprotokollierungssoftware bildet eine zuverlässige Grundlage für die Skalierung von Laborexperimenten auf industrielle Pilotproduktion. Die Vielseitigkeit des Systems in der Atmosphärensteuerung – von Mikro-Überdruck bis Hochvakuum – stellt sicher, dass es die strengen Anforderungen empfindlicher chemischer Gasphasenabscheidung und Temperprozesse erfüllt.

Haupteigenschaften

  • Ultraschnelle Kurzwellen-Infrarot-Heizung: Ausgestattet mit 12 leistungsstarken Kurzwellen-Infrarotlampen erreicht dieses System eine maximale Aufheizrate von 50°C/s. Dadurch können Forscher unerwünschte Diffusion minimieren und den Durchsatz für zeitkritische thermische Prozesse maximieren.
  • Automatisierter Bodenbeladungsmechanismus: Das präzise vertikale Probenbeladungssystem gewährleistet eine stabile Positionierung und ermöglicht die automatische Abdichtung des Ofenraums. Diese Konfiguration ist ideal für empfindliche Proben und erleichtert die einfache Integration mit externen Roboterarmen für einen 24/7-Betrieb.
  • Fortschrittliche Atmosphären- und Vakuumsteuerung: Das integrierte System verfügt über einen hochpräzisen Widerstandsvakuummesser und unterstützt die Steuerung von Mikro-Überdruck (103.000–120.000 Pa). Dies gewährleistet eine stabile und kontaminationsfreie Umgebung für empfindliche chemische Reaktionen und Materialherstellung.
  • Multi-Einheiten-Skalierbarkeit und PC-Steuerung: Die proprietäre Software unterstützt die gleichzeitige Steuerung mehrerer Ofeneinheiten von einer einzigen Arbeitsstation aus. Diese Fähigkeit ermöglicht den Einsatz von Ofenclustern, die mit Roboterprobenplatzierung für große durchsatzstarke Sinterkampagnen synchronisiert werden können.
  • Präzise PID-Temperaturregelung: Ein intelligenter programmierbarer 50-Segmente-Temperaturregler hält eine Genauigkeit von ±1°C ein. Für extrem hohe Präzisionsanforderungen bietet ein optionales Upgrade auf einen Eurotherm-Regler eine Stabilität von ±0,1°C und gewährleistet perfekte Wiederholbarkeit über alle Chargen hinweg.
  • Robuste Zweischicht-Kammerkonstruktion: Der Ofen verwendet eine doppelwandige Edelstahlhülle mit integrierter Luftkühlung. Diese Konstruktion hält niedrige Oberflächentemperaturen für die Sicherheit des Bedienpersonals und erhöht die Lebensdauer der internen Elektronik und Heizelemente.
  • Hochreine Aluminiumoxidfaser-Isolierung: Hochdichte Aluminiumoxidfaser bietet überlegene Wärmeisolation und Energieeffizienz. Diese Materialwahl gewährleistet schnelle Reaktionszeiten, indem die thermische Masse der Ofenauskleidung minimiert wird.
  • Integrierte Massenflusssteuerung (MFC): Das System verfügt über eingebaute MFCs im Bereich von 0–5000 sccm, was eine präzise Gaszufuhr während der atmosphärischen Behandlung ermöglicht und eine konsistente Stöchiometrie in verarbeiteten Materialien sicherstellt.
  • Umfassende Datenerfassung: Das mitgelieferte Softwarepaket zeichnet alle kritischen Parameter auf, einschließlich Temperaturprofile, Vakuumniveaus und Gasdurchflussraten. Diese Daten können über Standardkommunikationsschnittstellen exportiert und hochgeladen werden, um vollständige Prozessrückverfolgbarkeit zu gewährleisten.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Halbleiterwafer-Tempern Schnelles Thermotempern von Silizium-, GaAs- oder SiC-Wafern bis zu 6 Zoll Durchmesser. Minimiert Dotantdiffusion und Wärmebudget bei gleichzeitiger Verbesserung der Kristallstruktur.
Einzelatomkatalyse Präzise Synthese und Behandlung von Katalysatormaterialien bei spezifischen Temperaturplateaus. Bietet die schnelle thermische Reaktion, die erforderlich ist, um kinetische Zustände in Katalysatormaterialien einzufrieren.
Hochdurchsatz-Sintern Automatisiertes Sintern von keramischen oder metallischen Proben mit Roboterinintegration für Dauerbetrieb. Reduziert Personalkosten drastisch und erhöht das Probenvolumen für industrielle F&E.
Schnelle Thermooxidation (RTO) Bildung dünner Oxidschichten auf Substratoberflächen unter kontrollierten Sauerstoffkonzentrationen. Gewährleistet gleichmäßige, hochwertige Dielektrikumsschichten mit Subnanometer-Dickenkontrolle.
Dünnschicht-Kristallisation Schnelles Aufheizen von abgeschiedenen Dünnschichten zur Förderung des Kornwachstums und Verbesserung der Leitfähigkeit. Verhindert Substratabbau durch Begrenzung der Dauer der Hochtemperaturexposition.
Kohlenstoffnanoröhrchen-Synthese Kontrollierte atmosphärische CVD-Prozesse für das Wachstum von Nanoröhrchen- und Graphenstrukturen. Präzise Durchflusskontrolle und schnelles Abkühlen ermöglichen eine enge Kontrolle der Nanostrukturmorphologie.

Technische Spezifikationen

Hauptsystem: TU-DZ11

Parameter Spezifikationen
Stromversorgung Dreiphasig AC 208V, 50/60Hz
Maximalleistung 18 kW
Maximale Betriebstemperatur 1100℃ (≤ 30 Minuten)
Dauerbetriebstemperatur 1000℃
Heizelemente 12 Kurzwellen-Infrarotlampen (1,5 kW pro Lampe)
Heizzone Φ210mm × 100mm
Aufheizrate Empfohlen 10℃/s; Maximum 50℃/s
Kühlrate (geschlossen) 800℃ bis 350℃: 55℃/min; 350℃ bis 200℃: 5℃/min
Kühlrate (offen) 800℃ bis 350℃: 200℃/min; 350℃ bis 50℃: 35℃/min
Temperaturregelgenauigkeit ±1℃ (Optionales Eurotherm-Upgrade für ±0,1℃)
Vakuumsystemsteuerung Integrierter Widerstandsvakuummesser; 103.000–120.000 Pa Steuerung
Gasflusssteuerung Eingebauter MFC (0-5000sccm)
Rohrmaterial Φ200mm Hochreines Quarz
Probenträger Durchmesser 105mm mit 76×58mm Aussparung (anpassbar)
Flanschsystem Wassergekühlte Edelstahl-Dichtungsflansche mit KF25-Vakuumanschluss

Optionale Roboterunterstützung

Merkmal Roboterarm-Daten
Nennlast 5 kg
Arbeitsradius 900 mm
Maximale Reichweite 1096 mm
Wiederholgenauigkeit ±0,02 mm
Kommunikation TCP/IP, Modbus, Drahtloses Netzwerk
Gewicht 25 kg

Optionaler Wasserkühler & Vakuum

Einheit Leistungsdaten
Kühler (KJ6500) 51880 BTU/h Kühlleistung; 4,6kW-5,12kW Kompressorleistung
Mechanische Pumpe Vakuumniveau bis 10⁻² Torr
Molekularpumpe Vakuumniveau bis 10⁻⁴ Torr
Drehschieberpumpe NRTL-zertifiziert, 240 L/min Hochleistungsmodell mit Abluftfilter

Warum Sie uns wählen sollten

  • Unübertroffene thermische Geschwindigkeit: Die 50°C/s-Aufheizrate dieser Einheit ermöglicht die Erforschung von Materialphasen, die mit Standard-Widerstandsofen nicht erreichbar sind, und bietet einen deutlichen Wettbewerbsvorteil in der Forschung.
  • Bereit für Industrie 4.0: Mit nativer Unterstützung für Roboterinintegration, Multi-Einheiten-PC-Steuerung und Open-Source-Software-Schleifen geht dieses System nahtlos von manueller Laborverwendung zu vollständig autonomen 24-Stunden-Produktionszyklen über.
  • Präzisionstechnik und Abdichtung: Die hochwertigen wassergekühlten Edelstahlflansche und intelligente Druckregelung gewährleisten höchste Atmosphärenreinheit und schützen empfindliche Proben vor Oxidation oder Kontamination.
  • Skalierbare Forschungsinfrastruktur: Die Möglichkeit, mehrere Einheiten über eine einzige Schnittstelle zu betreiben, macht dieses Gerät zur idealen Wahl für expandierende Forschungseinrichtungen, die konsistente, reproduzierbare Ergebnisse über mehrere Verarbeitungslinien hinweg benötigen.
  • Außergewöhnliche Verarbeitungsqualität: Von der hochreinen Aluminiumoxidfaser-Isolierung bis zur thyristorgesteuerten Leistungsregelung (SCR) wird jede Komponente für langfristige Haltbarkeit und betriebliche Konsistenz in hochintensiven Umgebungen ausgewählt.

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