Zwei-Zonen-IR-Heiz-RTP-Rohrofen für Rapid Thermal Processing mit 4 Zoll ID Quarzrohr und verschiebbaren Probenhaltern

RTP-Ofen

Zwei-Zonen-IR-Heiz-RTP-Rohrofen für Rapid Thermal Processing mit 4 Zoll ID Quarzrohr und verschiebbaren Probenhaltern

Artikelnummer: TU-RT28

Maximale Heizrate: 50 °C/s Temperaturgenauigkeit: ± 1 °C Maximale Leistung: 24 kW
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Produktübersicht

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Dieses Hochleistungs-System für Rapid Thermal Processing (RTP) wurde für fortschrittliche materialwissenschaftliche Anwendungen entwickelt, die extreme thermische Rampen und eine präzise atmosphärische Kontrolle erfordern. Durch den Einsatz von kurzwelliger Infrarot-Heiztechnologie (IR) ermöglicht das Gerät Heizraten von bis zu 50°C/s. Dies macht es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für Labore, die sich auf die Synthese zweidimensionaler Materialien, supraleitende Dünnschichten und das Tempern von Halbleitern konzentrieren. Die Zwei-Zonen-Konfiguration ermöglicht eine unabhängige Temperaturregelung in zwei getrennten Bereichen, was komplexe Gasphasenreaktionen ermöglicht, bei denen Temperaturgradienten für den Erfolg entscheidend sind.

Speziell für die hybride physikalisch-chemische Gasphasenabscheidung (HPCVD) entwickelt, bietet dieses System Forschern eine hochentwickelte Plattform, um feste Quellen in einer Zone zu verdampfen und gleichzeitig eine kontrollierte Abscheidungsumgebung in der zweiten Zone aufrechtzuerhalten. Die Integration von zwei verschiebbaren Probenhaltern verbessert die betriebliche Effizienz drastisch und ermöglicht das schnelle Laden, Entnehmen und Abschrecken von Proben, ohne das thermische Gleichgewicht des Ofenkerns zu stören. Diese Einheit stellt einen bedeutenden Sprung beim Durchsatz und der Konsistenz der thermischen Verarbeitung für anspruchsvolle F&E-Umgebungen dar.

Konstruiert mit einem doppellagigen Stahlgehäuse und integrierter Luftkühlung sorgt das Gerät selbst bei hochintensiven Zyklen für eine sichere Außenoberflächentemperatur. Zuverlässigkeit ist in jede Komponente eingebaut, vom hochreinen Quarzglas-Prozessrohr bis zu den präzisionsgeschliffenen Gleitschienen. Dieser Ofen ist so gebaut, dass er den Anforderungen kontinuierlicher industrieller Forschung standhält und über Tausende von Betriebsstunden in Vakuum- oder Inertgasumgebungen konsistente, reproduzierbare Ergebnisse liefert.

Hauptmerkmale

  • Ultraschnelle kurzwellige IR-Heizung: Durch den Einsatz von sechzehn 1,5 kW Halogen-Heizröhren erreicht dieses System eine maximale Heizrate von 50°C/s. Dies ermöglicht schnelles thermisches Tempern und eine präzise Kontrolle über kinetisch gesteuerte Materialumwandlungen, die mit Standard-Widerstandsheizelementen nicht möglich sind.
  • Unabhängige Zwei-Zonen-Steuerung: Zwei 195 mm Heizzonen werden von separaten Hochpräzisions-SCR-Controllern verwaltet. Dies ermöglicht die Erzeugung steiler thermischer Gradienten oder perfekt gleichmäßiger isothermer Zonen über eine Gesamtlänge von 390 mm, was maximale Flexibilität für HPCVD- und Gasphasentransportprozesse bietet.
  • Präzisions-Schiebesystem für Proben: Die Einheit verfügt über zwei Gleitschienen aus verchromtem Stahl, die zwei Probenhalter tragen. Dieser Mechanismus ermöglicht es dem Bediener, Proben genau im benötigten Moment für eine Blitzheizung in die heiße Zone zu bewegen oder sie zum schnellen Abschrecken in die Umgebungstemperaturzone zu ziehen.
  • Fortschrittliches PID-Temperaturmanagement: Jede Zone ist mit einem digitalen Controller ausgestattet, der 30 programmierbare Segmente bietet. Dies ermöglicht die Automatisierung komplexer Heiz-, Halte- und Kühlprofile mit einer Genauigkeit von ±1°C, was ein Höchstmaß an Wiederholbarkeit beim empfindlichen Dünnschichtwachstum gewährleistet.
  • Robuste Vakuum- und Gasarchitektur: Der Ofen ist mit wassergekühlten Edelstahlflanschen, KF25-Vakuumanschlüssen und Nadelventilen zur präzisen atmosphärischen Regulierung ausgestattet. Mit einer Molekularpumpe können Vakuumwerte bis zu 10^-4 Torr erreicht werden, was ihn für hochreine, sauerstoffempfindliche Prozesse geeignet macht.
  • Integrierte PC-Schnittstelle und Steuerung: Ein MTS-02 Steuermodul ist standardmäßig enthalten, das es Benutzern ermöglicht, Temperaturprofile zu verwalten, Echtzeitdaten aufzuzeichnen und die thermische Leistung über einen PC zu überwachen. Diese digitale Integration ist für moderne datengesteuerte Laborumgebungen unerlässlich.
  • Verbesserte Sicherheit und Kühlung: Das doppellagige Stahlgehäuse verfügt über eine aktive Luftkühlung, um die Außenhülle unter 60°C zu halten. Eingebauter Übertemperaturschutz und Schutz bei Thermoelementbruch ermöglichen einen unbeaufsichtigten Betrieb mit absoluter Sicherheit.
  • Hochreiner Materialpfad: Das Prozessrohr besteht aus hochreinem Quarzglas mit einem Außendurchmesser von 110 mm und einem Innendurchmesser von 106 mm. Dies bietet eine saubere Umgebung für die Materialverarbeitung und ermöglicht gleichzeitig die visuelle Überwachung der Reaktion während der Hochtemperaturzyklen.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
HPCVD-Materialwachstum Nutzung einer Zone zur Verdampfung der Feststoffquelle und der zweiten für die Substratabscheidung. Präzise Kontrolle über Vorläuferfluss und Wachstumstemperatur.
2D-Materialsynthese Wachstum von Graphen, MoS2 und anderen TMDs mittels schneller thermischer Zyklen. Optimierte Korngröße und Kristallqualität durch schnelle Rampen.
Supraleiterforschung Verarbeitung von supraleitenden Dünnschichten und Bulk-Materialien. Hohe Heizraten erleichtern spezifische Phasenumwandlungen.
Rapid Thermal Annealing Nachbehandlung von Halbleiterwafern und Dünnschichten. Minimiert die Dotierstoffdiffusion bei gleichzeitiger Aktivierung elektrischer Eigenschaften.
Blitz-Wärmebehandlung Sofortige Aussetzung der Proben an hohe Temperaturen mittels Schienensystem. Erfasst metastabile Phasen durch schnelle thermische Schocks.
Gasphasenabscheidung Chemische Gasphasenabscheidung von fortschrittlichen Beschichtungen und Funktionsschichten. Hervorragende Gleichmäßigkeit und Haftung durch kontrollierte Gasdynamik.
Optische Beschichtungs-F&E Thermische Stabilisierung von mehrschichtigen optischen Dünnschichten. Stabile thermische Umgebung verhindert Schichtdelaminierung.

Technische Spezifikationen

Parameter Spezifikationsdetails für TU-RT28
Heizzonen Zwei unabhängige Zonen, je 195 mm (insgesamt 390 mm)
Maximale Temperatur 900°C (< 10 Min), 800°C (< 30 Min), 600°C (Dauerbetrieb)
Heizelemente 16 Stk. 1,5 kW Halogen-Kurzwellen-IR-Röhren (Verbrauchsmaterial)
Gesamtleistung AC 208-240V Einphasig; Max 24 kW (100A Versorgung erforderlich)
Max. Heizrate RT bis 800°C: 50°C/s; 800°C bis 900°C: 10°C/s
Max. Kühlrate 117°C/Min (Atmosphärisch); 60°C/Min (200 mTorr)
Prozessrohr Hochreines Quarzglas: Φ110 (AD) × Φ106 (ID) × 740 (L) mm
Schienensystem Zwei verchromte Stahlschienen, 400 mm Länge mit zwei Probenhaltern
Temperaturregelung Zwei PID-Controller, 30 programmierbare Segmente, SCR-Leistungsregelung
Temperaturgenauigkeit ±1°C
Thermoelement Zwei K-Typ, 1/4" Durchmesser x 24" Länge
Vakuumflansche Edelstahl wassergekühlt; Links: 1/4" Durchführung; Rechts: KF25 mit Absperrschieber
Vakuumgrad 10^-2 Torr (Mechanische Pumpe); 10^-4 Torr (Molekularpumpe)
Kühlanforderungen Wasserdurchfluss ≥ 10L/Min; Temp < 25°C; Druck > 25 PSI
PC-Kommunikation RS485-Anschluss mit MTS-02 Modul; LabView-kompatibel
Abmessungen Konzipiert für Labortisch oder Standintegration
Konformität CE-zertifiziert; NRTL (UL61010) oder CSA auf Anfrage erhältlich

Warum dieses RTP-System wählen?

Die Entscheidung für dieses Gerät bedeutet eine Investition in eine Plattform, die für die Grenzen der Materialwissenschaft entwickelt wurde. Die Kombination aus ultraschneller IR-Heizung und Zwei-Zonen-Präzision ermöglicht experimentelle Arbeitsabläufe, die herkömmliche Widerstandsöfen einfach nicht bewältigen können. Unsere Ingenieurskunst konzentriert sich auf die Minimierung thermischer Verzögerungen und die Maximierung des Durchsatzes, um sicherzustellen, dass Ihre Forschung durch Ihre Vorstellungskraft begrenzt wird, nicht durch Ihre Hardware.

  • Unübertroffene thermische Geschwindigkeit: Die Rampenrate von 50°C/s ermöglicht Tests mit hohem Durchsatz und die Erforschung temperaturempfindlicher Phasendiagramme, die ein schnelles Abschrecken erfordern.
  • Präzisionsgefertigt für HPCVD: Im Gegensatz zu Ein-Zonen-Einheiten ist dieses System für die hybride physikalisch-chemische Gasphasenabscheidung optimiert, was Ihnen die Möglichkeit gibt, die Quellenverdampfung von der Substratabscheidung zu isolieren.
  • Betriebliche Vielseitigkeit: Ob unter Hochvakuum oder Inertgas, das System bietet konsistente Leistung. Das verschiebbare Probenhaltersystem ist ein entscheidendes Unterscheidungsmerkmal, das die Belastung der Proben durch unerwünschte thermische Gradienten reduziert.
  • Bewährte Zuverlässigkeit: Gebaut mit hochwertigen industriellen SCRs, Kurzwellen-IR-Lampen und hochreinem Quarz, ist diese Einheit für eine lange Lebensdauer in anspruchsvollen F&E-Umgebungen ausgelegt.
  • Skalierbare Steuerungslösungen: Vom manuellen Betrieb bis zur vollständigen PC-basierten LabView-Integration wächst das System mit den Datenmanagement-Anforderungen Ihres Labors.

Dieses System ist der Goldstandard für Rapid Thermal Processing in der modernen Materialforschung. Kontaktieren Sie unser technisches Vertriebsteam noch heute für ein umfassendes Angebot oder um zu besprechen, wie wir dieses System an Ihre spezifischen Anforderungen für Gasphasenabscheidung oder Tempern anpassen können.

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