Röhrenofen
Zweizonen-Rohrofen 1100°C mit 11-Zoll-Quarzrohr und Vakuumflanschen für die Verarbeitung von 8-Zoll-Wafern
Artikelnummer: TU-32
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Produktübersicht
Dieser leistungsstarke Zweizonen-Rohrofen ist ein hoch entwickeltes thermisches Verarbeitungssystem, das für fortgeschrittene Materialforschung und industrielle Forschung und Entwicklung konzipiert wurde. Mit einem außergewöhnlich großen Quarzglasrohr mit 11 Zoll Außendurchmesser bietet das Gerät einen geräumigen Heizraum, der für große Proben und Halbleiterwafer mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll geeignet ist. Die Zweizonenkonfiguration ermöglicht die Erstellung präziser thermischer Gradienten oder einer breiteren Konstanttemperaturzone und bietet Forschern beispiellose Flexibilität bei der Verwaltung komplexer Wärmebehandlungsprofile. Durch die Integration von hochreiner Aluminiumoxid-Faserisolierung gewährleistet dieses System maximale Energieeffizienz und schnelle thermische Ansprechzeiten.
Das Gerät ist speziell für hochreine Anwendungen entwickelt, einschließlich des Sinterns neuer Materialproben und des Temperns von Halbleiterwafern unter Vakuum oder kontrollierten Gasatmosphären. Zielbranchen reichen von der Halbleiterherstellung und Metallurgie bis hin zur Nanotechnologie und Erneuerbare-Energien-Forschung. Die Verarbeitungskammer mit großem Durchmesser ermöglicht einen höheren Durchsatz und die Aufnahme spezialisierter Tiegel und Schiffchen, was sie zu einer idealen Wahl für Labore macht, die von kleinskaligen Experimenten zur Entwicklung im Pilotmaßstab übergehen. Ihre robusten Vakuumfähigkeiten und Gashandhabungsfunktionen ermöglichen eine präzise Kontrolle der chemischen Umgebung während kritischer Verarbeitungsschritte.
Zuverlässigkeit und Konsistenz sind die Markenzeichen des Designs dieser Einheit. Das System ist für anspruchsvolle industrielle Bedingungen ausgelegt und verwendet hochpräzise digitale Regler und langlebige NiCrAl-Heizwiderstände, um eine stabile Leistung über lange Zeiträume aufrechtzuerhalten. Der Einbau von wassergekühlten Edelstahlflanschen schützt die Integrität der Vakuumdichtungen und gewährleistet eine leckagefreie Umgebung auch während Hochtemperaturzyklen. Dieses Bekenntnis zu technischer Exzellenz stellt sicher, dass jeder Prozess, von der einfachen Kalzinierung bis zur fortgeschrittenen chemischen Dampfabscheidung, mit wiederholbaren, hochgenauen Ergebnissen durchgeführt wird, auf die professionelle Forscher vertrauen können.
Hauptmerkmale
- Präzise Zweizonen-Temperaturregelung: Das System verfügt über zwei unabhängig gesteuerte Heizzonen mit einer Länge von jeweils 300 mm, die von hochpräzisen digitalen PID-Reglern gesteuert werden. Dies ermöglicht die Einstellung stabiler thermischer Gradienten oder einer kombinierten 300 mm langen Konstanttemperaturzone mit einer Genauigkeit von ±1°C, was für Prozesse wie das Wachstum von TMD-Nanobändern unerlässlich ist.
- Extragroße 11-Zoll-Quarzkammer: Ausgestattet mit einem massiven Quarzglasrohr mit 279 mm Außendurchmesser nimmt dieser Ofen großformatige Proben auf, einschließlich Standard-Halbleiterwafer mit 8 Zoll. Das hochreine Quarzmaterial bietet eine hervorragende Thermoschockbeständigkeit und chemische Inertheit und gewährleistet eine verunreinigungsfreie Umgebung.
- Fortschrittliche schwenkbare Vakuumflanschen: Die Vakuumflanschen aus Edelstahl verfügen über ein schwenkbares Design für müheloses Be- und Entladen von Proben. Integrierte Wasserkühlkanäle in der doppelwandigen Flanschstruktur schützen die O-Ring-Dichtungen effektiv und erhalten die Vakuumintegrität bei Dauerbetrieb bei Temperaturen bis zu 1100°C.
- Hocheffiziente Wärmeisolierung: Unter Verwendung von hochreiner Aluminiumoxid-Faserisolierung minimiert das Gerät Wärmeverluste und reduziert den Energieverbrauch. Diese leichte, leistungsstarke Isolierung ermöglicht auch schnellere Heiz- und Abkühlraten und optimiert die Gesamtzykluszeit für den Labordurchsatz.
- Robuste Heizelemente und Sicherheit: Langlebige NiCrAl-Heizwiderstände sorgen für eine gleichmäßige Wärmeverteilung. Für die Sicherheit von Bedienern und Geräten ist ein sekundärer Temperaturmonitor enthalten, der vor Überhitzung und defekten Thermoelementen schützt und sorgt für Sicherheit bei unbeaufsichtigtem Betrieb.
- Integrierte Gas- und Vakuumanschlüsse: Das System umfasst einen mechanischen Vakuummesser, zwei Edelstahl-Nadelventile und einen KF25-Vakuumanschluss. Diese umfassende Ausstattung ermöglicht eine präzise Atmosphärensteuerung und unterstützt Vakuumniveaus von 10-2 Torr mit mechanischen Pumpen bis zu 10-4 Torr mit Turbomolekularsystemen.
- Programmierbare Wärmbehandlungsprofile: Beide Temperaturregler unterstützen 30 programmierbare Segmente, sodass Benutzer komplexe Rampen-, Halte- und Abkühlsequenzen automatisieren können. Dies gewährleistet eine hohe Reproduzierbarkeit über mehrere Chargen hinweg, was für standardisierte Forschung und industrielle Qualitätskontrolle entscheidend ist.
- Computerschnittstelle und Datenprotokollierung: Das Gerät ist mit spezialisierter Labview-basierter Steuersoftware kompatibel, sodass Forscher Temperaturprofile bearbeiten, Rezepte verwalten und Echtzeitdaten auf einem PC aufzeichnen können für gründliche Nachprozessanalyse und Dokumentation.
Anwendungen
| Anwendung | Beschreibung | Hauptvorteil |
|---|---|---|
| Wafer-Tempern für Halbleiter | Thermische Verarbeitung von großformatigen Wafern (bis zu 8") zur Reparatur von Kristalldefekten oder Aktivierung von Dotierstoffen. | Überlegene Gleichmäßigkeit über die gesamte Waferoberfläche. |
| TMD-Nanoband-Wachstum | Nutzung von zwei Zonen zur unabhängigen Steuerung von Chalkogen-Dampfdruck und Substrat-Reaktionstemperatur. | Präzise Kontrolle über Nanobandbreite und Wachstumskinetik via Übersättigung. |
| Katalytische Pyrolyse | Hochtemperaturzersetzung von organischen Materialien wie Altreifen unter kontrollierten Atmosphären. | Verhinderung lokaler Überhitzung und übermäßiger Karbonisierung durch stabile Gradienten. |
| Materialsintern | Konsolidierung von Pulvermaterialien zu dichten Festkörpern für Forschung an strukturellen oder elektronischen Keramiken. | Konsistente Dichte und Kornstruktur erreicht durch ±1°C Genauigkeit. |
| Chemische Dampfabscheidung (CVD) | Präzise Abscheidung von Dünnfilmen unter Verwendung spezialisierter Gasgemische und Verarbeitungsrohre mit großem Durchmesser. | Nimmt große Substrate und hohe Gasdurchflussmengen auf für skalierbare Forschung. |
| Vakuum-Wärmebehandlung | Spannungsarmglühen oder Härten von Metallkomponenten in einer sauerstofffreien Umgebung. | Beseitigt Oxidation und Oberflächenverunreinigungen während Hochtemperaturzyklen. |
Technische Spezifikationen
| Parameter | Spezifikationen für TU-32 |
|---|---|
| Modellnummer | TU-32 |
| Rohrmaterial | Hochreines Quarzglas |
| Rohrabmessungen | 279 mm AD x 269 mm ID x 1000 mm Länge (11" x 10,6" x 40") |
| Maximal Temperatur | 1100°C (< 60 min, unter Inertgas) |
| Dauertemperatur | 400°C - 1000°C (unter Vakuum oder strömendem Gas) |
| Optionale Temperatur | 1150°C (mit aufgerüstetem GE 214 Quarzrohr) |
| Heizzonen | Zwei Zonen: je 300 mm (12"); insgesamt 600 mm (24") |
| Konstanttemperaturzone | 300 mm in der Mitte (±1°C) bei gleicher Einstellung der Zonen |
| Heizrate | Max. 20°C / min |
| Temperaturgenauigkeit | ±1°C |
| Temperaturregler | Zwei digitale PID-Regler mit 30 programmierbaren Segmenten |
| Thermoelement | Doppeltes K-Typ (12" x 1/4" Durchmesser geerdete Sonde) |
| Heizelement | NiCrAl Widerstandsdraht |
| Eingangsspannung | 208 - 240V AC, Einphasig |
| Nennleistung | 8 kW |
| Vakuumflanschen | Doppellagiger Edelstahl, wassergekühlt, schwenkbar |
| Vakuumanschlüsse | KF25-Anschluss, 1/4"-Schlauchanschlüsse, zwei Nadelventile |
| Vakuumgrenze | 10-2 Torr (Mechanische Pumpe) / 10-4 Torr (Turbopumpe) |
| Kühlanforderung | Wasserfluss ≥ 10L/min, Temperatur < 25ºC, Druck > 25 PSI |
| Konformität | CE-zertifiziert (NRTL/CSA auf Anfrage erhältlich) |
Warum Sie uns wählen sollten
- Zuverlässigkeit in Industriequalität: Dieses System wurde mit hochbeständigen Widerstandsdrähten und fortschrittlicher Faserisolierung entwickelt und ist auf langfristige betriebliche Konsistenz in anspruchsvollen Forschungsumgebungen ausgelegt.
- Fähigkeit für große Maßstäbe: Das Rohr mit 11 Zoll Durchmesser ist ein seltenes Angebot bei Laborsöfen und bietet das erforderliche Volumen für die Verarbeitung von 8-Zoll-Wafern und große Materialchargen ohne dass ein industriegroßes Gerät erforderlich ist.
- Präzise Temperatursteuerung: Unabhängige Zweizonensteuerung bietet die thermische Flexibilität, die für komplexe chemische Dampfabscheidung und Nanostrukturwachstum erforderlich ist, und gewährleistet die höchste Ebene an experimenteller Kontrolle.
- Robuste Sicherheit und Schutz: Integrierte sekundäre Temperaturüberwachung und wassergekühlte Flanschsysteme schützen Ihre Laborwerte und gewährleisten die Langlebigkeit von Hochvakuumdichtungen.
- Umfassende Integration: Von Labview-Softwarekompatibilität bis hin zu anpassbaren Gasmisch- und Vakuumstationsoptionen dient dieser Ofen als vollständige, erweiterbare Plattform für Ihre thermischen Verarbeitungsanforderungen.
Für weitere Informationen zum Zweizonenofen TU-32 oder um ein individuelles Angebot zu erhalten, das auf Ihre spezifischen Vakuum- und Gashandhabungsanforderungen zugeschnitten ist, kontaktieren Sie noch heute unser technisches Vertriebsteam.
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