1100°C Drei-Zonen-Rohrofen mit 8,5 bis 11 Zoll Außendurchmesser Quarzrohr und Vakuumflanschen für die Verarbeitung großer Wafer

Produktübersicht

Dieses thermische Hochleistungssystem wurde speziell für die großflächige Halbleiter-Wafer-Verarbeitung, fortschrittliche Materialforschung und industrielle Wärmebehandlungen entwickelt. Durch die Integration einer massiven Drei-Zonen-Heizkonfiguration mit Quarzrohren mit großem Durchmesser bietet das Gerät ein weitreichendes Verarbeitungsvolumen, ohne die thermische Präzision zu beeinträchtigen, die für empfindliche chemische Gasphasenabscheidungen (CVD) oder Glühzyklen erforderlich ist. Das Gerät ist für den Dauerbetrieb bei 1100°C ausgelegt und bietet eine robuste Plattform für Labore mit hohem Durchsatz und Pilotproduktionslinien, die reproduzierbare Ergebnisse und hochreine Atmosphären erfordern.

Dieses Gerät richtet sich an die Halbleiter-, Luft- und Raumfahrt- sowie Energiespeicherbranche und eignet sich hervorragend für Anwendungen von der Wafer-Diffusion bis zur strukturellen Optimierung von Katalysatormaterialien. Das Drei-Zonen-Design ermöglicht die Erzeugung präziser thermischer Gradienten oder einer deutlich erweiterten gleichmäßigen Heizzone, was für die Verarbeitung größerer Substrate oder mehrerer Proben gleichzeitig entscheidend ist. Diese Vielseitigkeit macht das System zu einem Eckpfeiler für Einrichtungen, die sich auf die Skalierung der Materialsynthese von Laborversuchen bis hin zu industriereifen Prototypen konzentrieren.

Der Ofen wurde mit Fokus auf Zuverlässigkeit gebaut und verwendet ein doppelschichtiges Stahlgehäuse sowie eine fortschrittliche Isolierung aus faseriger Tonerde, um Betriebssicherheit und Energieeffizienz zu gewährleisten. Die Einbeziehung hermetischer, wassergekühlter Edelstahlflansche ermöglicht Hochvakuumbetrieb und kontrollierte Atmosphärenverarbeitung, wodurch sichergestellt wird, dass selbst anspruchsvollste metallurgische oder chemische Prozesse in einer stabilen und sauberen Umgebung gehalten werden. Dieses System stellt eine bedeutende Investition in Langlebigkeit dar und bietet langfristige Leistung unter strengen F&E-Zeitplänen.

Hauptmerkmale

• Unabhängige thermische Drei-Zonen-Steuerung: Das System verfügt über drei getrennte Heizzonen von jeweils 300 mm Länge, die von individuellen, programmierbaren PID-Reglern gesteuert werden. Dies ermöglicht eine Gesamtheizlänge von 900 mm (ca. 35,4 Zoll) und bietet dem Bediener die Flexibilität, eine 600 mm lange Zone konstanter Temperatur oder komplexe thermische Gradienten für spezielle Gasphasentransportprozesse einzurichten.
• Großformatige Quarz-Integration: Der Ofen kann Quarzrohre mit einem Außendurchmesser von 8,5" (216 mm) bis 11" (279 mm) aufnehmen und eignet sich für große Wafer-Boats und überdimensionale industrielle Komponenten. Diese hohe Kapazität ist bei Rohröfen im Labormaßstab selten und schließt die Lücke zwischen Forschung im kleinen Maßstab und vollständiger industrieller Produktion.
• Hochleistungs-FeCrAl-Heizelemente: Hochwertige Eisen-Chrom-Aluminium (FeCrAl)-Widerstandsdrähte sind strategisch in die feuerfeste Faser-Tonerde-Isolierung eingebettet. Diese Elemente wurden aufgrund ihrer außergewöhnlichen Beständigkeit gegen Oxidation und thermische Ermüdung ausgewählt, was eine lange Lebensdauer auch bei häufigem Zyklusbetrieb bis zu den maximalen Betriebstemperaturen gewährleistet.
• Fortschrittliche hermetische Vakuumabdichtung: Der Ofen ist mit einem Paar aufklappbarer, wassergekühlter Edelstahlflansche ausgestattet. Diese Flansche verfügen über integrierte Vakuummeter, Nadelventile und KF40-Anschlüsse, wodurch das System mit einer mechanischen Pumpe ein Vakuumniveau von bis zu 5e-2 Torr oder mit optionalen Turbopumpensystemen noch höhere Werte erreichen kann.
• Überlegene Wärmedämmung und Sicherheit: Ein doppelschichtiges Stahlgehäuse mit integrierter Luftkühlung sorgt dafür, dass die Außentemperatur während des Spitzenbetriebs unter 70°C bleibt. Die Verwendung einer hochreinen Tonerde-Faserisolierung minimiert den Wärmeverlust und reduziert den Stromverbrauch, während gleichzeitig hohe Heiz- und Kühlraten von bis zu 10°C/min beibehalten werden.
• Präzise PID-Instrumentierung: Jede Zone wird von zwei K-Typ-Thermoelementen überwacht und von einem 30-Segment-programmierbaren Regler mit einer Genauigkeit von +/- 1°C verwaltet. Dieses Maß an Kontrolle ist unerlässlich, um thermisches Überschwingen zu verhindern und die Integrität empfindlicher Substrate bei lang andauernden Glüh- oder Diffusionsschritten zu gewährleisten.
• Robuste Gasführungsmöglichkeiten: Die Flanschbaugruppe umfasst Nadelventile aus Edelstahl und Schnellanschlüsse, die die Zufuhr von Inert- oder Reaktivgasen erleichtern. Dies macht das System ideal für atmosphärenkontrollierte Prozesse, bei denen Gasfluss und Druck streng eingehalten werden müssen.
• Optimiert für Wafer-Verarbeitung: Das Design unterstützt optionale Quarz-Prallblöcke und spezielle Wafer-Boats (bis zu 8 Zoll für größere Rohrvarianten), was es zu einer schlüsselfertigen Lösung für Halbleiter-Glüh-, Oxidations- und Diffusionsprozesse macht.

Anwendungen

Technische Spezifikationen

Warum diesen Drei-Zonen-Rohrofen wählen?

• Industrieller Durchsatz: Die seltene Kombination aus 11" Außendurchmesser-Rohrkapazität und einer 900 mm Heizlänge ermöglicht es Forschern, große Substrate oder große Materialmengen zu verarbeiten, die normalerweise industrielle Ausrüstung erfordern würden.
• Präzisionstechnik: Mit der Drei-Zonen-PID-Steuerung und einer Genauigkeit von +/- 1°C bietet dieses System die thermische Stabilität, die für reproduzierbare Materialwissenschaft und Halbleiterfertigung erforderlich ist.
• Fortschrittliche Sicherheit und Stabilität: Das doppelwandige Gehäusedesign und die wassergekühlten Flansche gewährleisten eine sichere Laborumgebung und schützen die internen Dichtungen des Systems während Hochtemperatur-Zyklen mit langer Dauer.
• Hochvakuum-Integrität: Das System ist mit aufklappbaren hermetischen Flanschen und KF40-Anschlüssen ausgestattet und für hochreine Prozesse konzipiert, die Vakuumniveaus von bis zu 5e-2 Torr erfordern, wodurch es für Reinraumumgebungen geeignet ist.
• Anpassbare Steuerungsoptionen: Über die Standard-PID-Konfiguration hinaus kann dieses Gerät mit Reglern der Eurotherm 3000-Serie und Labview-basierter Software für erweiterte Rezepturbearbeitung und automatisierte Datenprotokollierung aufgerüstet werden.

Unser technisches Team steht bereit, um bei kundenspezifischen Konfigurationen oder spezifischen Prozessanforderungen zu helfen, damit dieses System genau Ihren F&E- oder Produktionsanforderungen entspricht. Kontaktieren Sie uns noch heute für ein detailliertes Angebot oder um Ihre thermischen Verarbeitungsspezifikationen zu besprechen.