1200°C Max. Dual-Schieberohr-Ofen mit 50-mm-Rohrflanschen für CVD

Produktübersicht

Dieses leistungsstarke Dual-Zonen-Schiebesystem stellt einen Durchbruch in der thermischen Verarbeitung für die Materialforschung dar. Das speziell für Anwendungen der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und des physikalischen Dampftransports (PVT) entwickelte Gerät verfügt über zwei unabhängige Heizeinheiten, die auf einer präzisionsgefertigten Gleitschiene montiert sind. Diese Konfiguration ermöglicht eine beispiellose Kontrolle über Temperaturgradienten und schnelle thermische Zyklen, wodurch Forscher komplexe Syntheseprofile erreichen können, die mit stationären Systemen unmöglich sind. Durch die Bewegung der Heizzonen relativ zum Prozessrohr können Benutzer lokalisierte Hotspots für die Vorstufenverdampfung erzeugen und gleichzeitig eine spezifische Temperatur für die Substratabscheidung beibehalten.

Das Gerät wurde für die Anforderungen der industriellen Forschung und Entwicklung sowie für Halbleiterlabore gebaut und erleichtert die Herstellung hochwertiger Dünnschichten, 2D-Materialien und Nanostrukturen. Der Hauptvorteil liegt in seiner Vielseitigkeit: Er fungiert als Dual-Zonen-Ofen für kontrolliertes Gradientenwachstum oder als Hochgeschwindigkeits-Abschreckwerkzeug zur Untersuchung von Phasenübergängen. Zu den Zielbranchen gehören die Luft- und Raumfahrt, die Energiespeicherung (insbesondere die Entwicklung von Perowskit-Solarzellen) und die Mikroelektronik, wo Präzision und Wiederholbarkeit das Fundament für erfolgreiche Innovationen bilden.

Das System ist auf langfristige Zuverlässigkeit ausgelegt und nutzt eine robuste zweischichtige Stahlstruktur, um externe Sicherheit und thermische Effizienz zu gewährleisten. Die hochbelastbaren Gleitschienen sind für eine reibungslose und konsistente Bewegung ausgelegt, selbst nach Tausenden von Zyklen bei hohen Temperaturen. Jede Komponente, von den mit Molybdän dotierten Fe-Cr-Al-Legierungsheizelementen bis hin zu den hermetischen Edelstahlflanschen, wurde so ausgewählt, dass sie den anspruchsvollen Bedingungen von Hochvakuum- und korrosiven Gasumgebungen standhält. Dieses Engagement für technische Exzellenz stellt sicher, dass das Gerät Tag für Tag in den anspruchsvollsten Forschungsszenarien eine konstante Leistung erbringt.

Hauptmerkmale

• Unabhängige Dual-Zonen-Steuerung: Zwei separate Ofeneinheiten mit jeweils einer 200-mm-Heizzone ermöglichen eine unabhängige PID-Programmierung. Dies ermöglicht die gleichzeitige Steuerung der Sublimationstemperaturen der Vorstufen und der Wachstumstemperaturen des Substrats, was für komplexe CVD-Rezepte entscheidend ist.
• Präzisions-Gleitschienensystem: Das Gerät ist auf einem 1200-mm-Doppelgleitschienensystem montiert. Dies ermöglicht es dem Bediener, die Öfen manuell oder (optional) automatisch über eine Distanz von 400 mm zu bewegen, was einen physischen Mechanismus für schnelle Temperaturänderungen und Abschreckvorgänge bietet.
• Fortschrittliche Thermodynamik: Durch das Wegschieben des beheizten Ofens vom Probenort kann das System Heiz- und Kühlraten von bis zu 100°C/min erreichen. Diese Fähigkeit zur schnellen thermischen Verarbeitung (RTP) ist wesentlich für die Kontrolle der Korngröße und Kristallstruktur in modernen Dünnschichten.
• Leistungsstarke Heizelemente: Ausgestattet mit Fe-Cr-Al-Legierungselementen, die mit Molybdän dotiert sind, bietet das Gerät eine stabile und langlebige Heizleistung bis zu 1200°C und sorgt so für eine lange Lebensdauer auch bei kontinuierlichem Hochtemperaturbetrieb.
• Hermetische Vakuumflansche: Vakuumflansche aus Edelstahl mit integrierten Messgeräten und hochbelastbaren Stützen gehören zur Standardausstattung. Diese gewährleisten eine leckdichte Umgebung und unterstützen Vakuumniveaus bis zu 10E-5 Torr in Verbindung mit einer Molekularpumpe.
• Programmierbare PID-Automatisierung: Jede Zone wird von einer automatischen Steuerung mit 30 programmierbaren Segmenten geregelt. Dies ermöglicht eine präzise Kontrolle über Rampenraten, Haltezeiten und Kühlkurven und reduziert das Risiko menschlicher Fehler bei komplexen Zyklen.
• Integrierte Sicherheitsschutzvorrichtungen: Das System umfasst eingebaute Übertemperaturalarme und automatische Abschaltfunktionen. Das zweischichtige Stahlgehäusedesign beinhaltet eine Luftkühlung, um die Ofenoberfläche während des Betriebs sicher berührbar zu halten.
• Modulare Systemerweiterung: Das Gerät ist so konzipiert, dass es mit Ihren Forschungsanforderungen wächst. Es kann problemlos mit Massendurchflussreglern (MFC) für eine präzise Gaszufuhr, HF-Plasmageneratoren für PECVD oder motorisierten Schienensätzen für automatisierte Schiebezyklen aufgerüstet werden.

Anwendungen

Technische Spezifikationen

Warum TU-RT05 wählen?

• Überlegene thermische Flexibilität: Das Dual-Schiebedesign bietet ein Maß an Prozesskontrolle, das stationäre Öfen nicht erreichen können, insbesondere für schnelles Abschrecken und gradientengesteuerte CVD.
• Präzisionstechnik: Gebaut mit erstklassigen Komponenten, einschließlich Mo-dotierten Legierungselementen und hochwertigen Edelstahlflanschen, was Hochvakuumintegrität und Temperaturstabilität gewährleistet.
• Zukunftssichere Skalierbarkeit: Egal, ob Sie heute ein einfaches CVD-Setup oder morgen ein vollautomatisiertes PECVD-System benötigen, dieses Gerät unterstützt nahtlose Upgrades mit MFCs und HF-Generatoren.
• Unübertroffene Kühleffizienz: Die physische Trennung der Heizkammer vom Prozessrohr ermöglicht eine echte schnelle Abkühlung, was für die metallurgische und Halbleiterforschung entscheidend ist.
• Bewährte Zuverlässigkeit: Mit Tausenden von weltweit im Einsatz befindlichen Einheiten ist unser Design der Industriestandard für Langlebigkeit und Betriebskonsistenz in der Hochtemperaturforschung.

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