RTP-Ofen
1200°C Röhrenofen mit interner magnetischer Probengleiteinrichtung für Direktverdampfungsabscheidung und schnelle thermische Prozessierung
Artikelnummer: TU-RT02
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Produktübersicht

Dieses Hochpräzisions-Thermoprozesssystem ist für die fortgeschrittene Materialwissenschaftsforschung entwickelt, speziell für die komplexen Anforderungen der Direktverdampfungsabscheidung (DVD) und der schnellen thermischen Prozessierung (RTP). Durch die Integration eines manuellen magnetischen Probengleitmechanismus ermöglicht die Ausrüstung die präzise Positionierung von Proben in der Heizzone, ohne das Vakuum oder die Atmosphärenintegrität des Prozesses zu beeinträchtigen. Diese Fähigkeit ist wesentlich für Forscher, die mit 2D-Materialien, Dünnschichtabscheidung und thermischem Ausheizen arbeiten, bei denen Übergangstemperaturphasen extrem genau gesteuert werden müssen.
Die Ausrüstung ist für den Betrieb bei Temperaturen bis zu 1200°C ausgelegt und bietet eine robuste Plattform für Hochtemperatursynthese und industrielle F&E. Ihr kompaktes 2-Zoll-Röhrendesign macht sie ideal für Laborumgebungen, die hohe Leistung bei begrenztem Platzbedarf erfordern. Zielindustrien umfassen die Halbleiterfertigung, Nanotechnologie und fortschrittliche Keramik, wo die Fähigkeit, die Probenposition relativ zu einem stabilen Temperaturgradienten zu manipulieren, ein kritischer Faktor für reproduzierbare experimentelle Ergebnisse ist.
Aus industrietauglichen Komponenten gebaut und mit Fokus auf langfristige Zuverlässigkeit gewährleistet diese Einheit konsistente Leistung unter anspruchsvollen Bedingungen. Die Kombination aus einem hochleitfähigen Aluminiumoxid-Probenhalter, einem NIST-zertifizierten Temperaturmonitor und einem ausgeklügelten PID-Regelsystem gibt dem Bediener das für sensibles Materialwachstum notwendige Vertrauen. Ob für die Synthese in kontrollierter Atmosphäre oder im Hochvakuum, das System liefert die thermische Stabilität und mechanische Präzision, die für moderne Materialcharakterisierungs- und Produktionsabläufe notwendig sind.
Hauptmerkmale
- Innovative magnetische Probentransport: Das System nutzt einen internen Transportmechanismus, der von externen Magneten angetrieben wird, wodurch sich der Probenhalter sanft durch die Heizzone bewegen kann. Dies ermöglicht eine präzise Kontrolle der Abscheidungsraten und thermischen Belastung, ohne die Vakuumdichtung zu unterbrechen.
- Hochleitfähiger Aluminiumoxid-Probenhalter: Die Ausrüstung verfügt über einen flachen Probenhalter, der für optimalen thermischen Kontakt ausgelegt ist und sicherstellt, dass die über den integrierten K-Typ-Thermoelement gemessene Temperatur den tatsächlichen Probenzustand hochgenau widerspiegelt.
- Präziser NIST-zertifizierter Monitor: Jede Einheit ist mit einem NIST-zertifizierten Präzisionstemperaturmonitor ausgestattet, der über einen dedizierten Vakuumdurchführung angeschlossen ist und eine zusätzliche Verifikationsebene für mission-kritische Forschung und Compliance bietet.
- Fortschrittliche 30-Segment programmierbare PID-Regelung: Der Temperaturregler ermöglicht komplexe Temperaturprofile, einschließlich Rampen-, Halte- und Abkühlzyklen, mit integriertem Schutz vor Überhitzung und Thermoelementausfall zum Schutz der Ausrüstung.
- Dual-Zonen-Atmosphärenflexibilität: Für den Betrieb unter Vakuum oder Niederdruckatmosphären ausgelegt, ist das System mit verschiedenen Gasen kompatibel, was es vielseitig für CVD, DVD und andere chemische Gasphasenprozesse macht.
- Robuste Heizelementzusammensetzung: Unter Verwendung von hochwertiger, mit Molybdän dotierter Fe-Cr-Al-Legierung sind die Heizelemente für Hochtemperatur-Langlebigkeit und schnelle Ansprechzeiten konstruiert und halten eine maximale Temperatur von 1200°C.
- Optimierte Wärmedämmung: Hochreine faserkeramische Rohrblöcke werden verwendet, um Wärmestrahlung in Richtung der Vakuumflansche zu minimieren, die Dichtungen zu schützen und ein stabiles Temperaturprofil in der Arbeitszone zu gewährleisten.
- Modulare Vakuumintegration: Der Standard-KF25-Vakuumanschluss und die 1/4"-Schlauchanschlüsse ermöglichen eine schnelle Integration mit mechanischen oder Turbopumpen und erleichtern so eine schnelle Evakuierung und saubere Prozessumgebungen.
Anwendungen
| Anwendung | Beschreibung | Hauptvorteil |
|---|---|---|
| 2D-Materialwachstum | Synthese von Graphen, MoS2 und anderen Übergangsmetalldichalkogeniden mittels kontrollierter Gasphasenabscheidung. | Präzise Probenbewegung ermöglicht spezifische Keimbildungs- und Wachstumsraten. |
| Schnelle thermische Prozessierung | Halbleiterwafer schnellen Heiz- und Kühlzyklen unterziehen, um Dotierstoffe zu aktivieren oder Filmeigenschaften zu ändern. | Magnetgetriebenes Gleiten ermöglicht schnellen Übergang zwischen heißen und kalten Zonen. |
| Direktverdampfungsabscheidung | Verdampfen fester Vorläufermaterialien bei hoher Hitze und Abscheiden auf einem Substrat, das in einem kühleren Gradienten positioniert ist. | Genaue Probenpositionierung innerhalb des Temperaturgradienten optimiert die Filmqualität. |
| Dünnschichtausheizen | Wärmebehandlung nach der Abscheidung von Dünnschichten zur Verbesserung der Kristallinität und elektrischen Eigenschaften. | Konsistente PID-Regelung gewährleistet gleichmäßige Kristallstruktur über das Substrat. |
| Katalysatorforschung | Testen und Aktivieren katalytischer Materialien unter variierten Gasatmosphären und hohen Temperaturen. | Hohes Vakuum und Atmosphärenkontrolle ermöglichen saubere, reproduzierbare Reaktionsumgebungen. |
| Keramiksintern | Hochtemperaturprozessierung von kleinskaligen Keramikkomponenten oder Pulvern. | Stabile 1200°C-Fähigkeit liefert die für dichte Materialbildung notwendige Wärme. |
Technische Spezifikationen
| Spezifikationskategorie | Parameterdetails (TU-RT02) |
|---|---|
| Modellkennung | TU-RT02 |
| Stromversorgung | 110VAC oder 208-240 VAC, 50/60Hz (1,5 KW) |
| Maximale Temperatur | 1200°C (< 1 Stunde Dauer) |
| Dauertemperatur | 1100°C |
| Aufheizrate | ≤ 20°C pro Minute |
| Heizzonenlänge | 8" (200mm) Einzelzone |
| Konstanttemperaturzone | 2,3" (60mm) innerhalb ±1°C @ 1000°C |
| Temperaturregler | PID-Automatikregelung, 30-stufig programmierbar, SSR-Ansteuerung |
| Temperaturgenauigkeit | ± 1°C |
| Heizelemente | Fe-Cr-Al-Legierung dotiert mit Mo |
| Prozessrohr | Hochreines Quarz; 50mm Außendurchmesser x 44mm Innendurchmesser x 1000mm Länge |
| Probenhalter | Aluminiumoxid-Flachhalter (2" L x 1" B) mit K-Typ-Thermoelement |
| Transportmechanismus | Magnetischer manueller Gleitmechanismus mit interner/externer Magnetkopplung |
| Vakuumflansche | 2" Edelstahl mit KF25-Anschluss, 1/4" Schlauchanschlüsse und 1/4" Durchführung |
| Vakuumniveau | 10^-2 torr über Standardmechanikpumpe |
| Zertifizierung | CE-zertifiziert (NRTL/CSA auf Anfrage erhältlich) |
| Abmessungen & Sicherheit | Beinhaltet integrierten Überhitzungsschutz und Thermoelementausfallalarme |
Warum uns wählen
Die Investition in dieses Thermoprozesssystem stellt sicher, dass Ihre Einrichtung mit einem Werkzeug ausgestattet ist, das für die Anforderungen moderner Nanotechnologie und Materialsynthese konzipiert ist. Der Hauptvorteil des internen Transportmechanismus ist die Beseitigung der Notwendigkeit, das Vakuum während des Probentransports zu unterbrechen, was den Experimentendurchsatz dramatisch erhöht und eine Probenkontamination verhindert. Unser Ingenieursteam hat thermische Präzision priorisiert und verwendet NIST-zertifizierte Komponenten, um sicherzustellen, dass die von Ihnen gesammelten Daten sowohl genau als auch publizierbar sind.
Jenseits der technischen Spezifikationen ist dieser Ofen für Langlebigkeit gebaut. Die Kombination aus hochwertigem Quarz, molybdändotierten Legierungselementen und robusten Edelstahlflanschen stellt sicher, dass das System seine Leistung über Jahre kontinuierlichen Betriebs beibehält. Darüber hinaus ermöglicht die modulare Natur der Vakuum- und Gaszufuhranschlüsse zukünftige Skalierbarkeit, egal ob Sie Mehrkanal-Gasmischer oder fortschrittliche PC-basierte Steuermodule hinzufügen. Die Wahl dieser Ausrüstung bedeutet die Wahl eines Partners für Ihre Forschung, unterstützt durch ein Engagement für technische Exzellenz und reaktionsschnellen Kundensupport.
Kontaktieren Sie noch heute unser technisches Verkaufsteam für ein umfassendes Angebot oder um eine maßgeschneiderte Lösung zu besprechen, die auf Ihre spezifischen Prozessanforderungen zugeschnitten ist.
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Optimieren Sie Ihre fortschrittliche Materialforschung mit diesem kompakten geteilten Rohrofen 1250°C, der über einen präzisen 30-Segment-programmierbaren Controller und eine 8-Zoll-Heizzone verfügt – für höchstgenaue, energieeffiziente Wärmebehandlung in anspruchsvollen Labor- oder industriellen F&E-Umgebungen und wissenschaftlichen Pilotstudien.