1200°C Hochtemperatur-Röhrenofen 4 Zoll mit Gleitflansch für CVD-Systeme

RTP-Ofen

1200°C Hochtemperatur-Röhrenofen 4 Zoll mit Gleitflansch für CVD-Systeme

Artikelnummer: TU-RT25

Maximale Temperatur: 1200°C Rohrabmessungen: 4.33" O.D x 4.05" I.D x 29.13" L Heizzone: 440mm (Gesamt) / 100mm (Konstant)
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Produktübersicht

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Dieses leistungsstarke thermische Verarbeitungssystem ist eine spezialisierte Lösung für fortschrittliche Material­synthese und chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Durch die Kombination eines Quarzrohres mit großem Durchmesser und einem vielseitigen Gleitflanschmechanismus bietet das Gerät Forschern eine anpassbare Plattform für präzise Wärmebehandlung. Der zentrale Vorteil liegt in der Möglichkeit, schnellen Probenwechsel durchzuführen und stabile thermische Umgebungen bis 1200°C aufrechtzuerhalten – was es zu einem Grundstein für Labore macht, die sich mit Dünnschichtbeschichtungen, Nanotechnologie und Halbleiterentwicklung befassen.

Optimiert auf Zuverlässigkeit wird diese Einheit branchenübergreifend in Elektronik, Luft- und Raumfahrt sowie Energie eingesetzt. Sie dient als Hauptwerkzeug für die Entwicklung neuer Materialien wie Graphen und Kohlenstoffnanoröhren, bei denen Atmosphärenkontrolle und thermische Gleichmäßigkeit unverzichtbar sind. Die robuste Konstruktion gewährleistet konsistent hochreine Ergebnisse, selbst wenn das System wiederholten Heizzyklen unter Vakuum oder kontrollierten Gasbedingungen ausgesetzt ist.

Entwickelt für anspruchsvolle F&E-Umgebungen legt das System Wert auf Leistung und Betriebssicherheit gleichermaßen. Von den präzisionsgefertigten wassergekühlten Flanschen bis zum intelligenten Sicherheitsverriegelungsmechanismus wird jede Komponente ausgewählt, um experimentelle Risiken zu minimieren und den Durchsatz zu maximieren. Dieses Gerät stellt eine bedeutende Investition in die Laborproduktivität dar – es bietet die Langlebigkeit, die für langfristige industrielle Forschung erforderlich ist, und die Präzision, die für bahnbrechende wissenschaftliche Entdeckungen notwendig ist.

Hauptmerkmale

  • Fortschrittliches Gleitflanschsystem: Der rechte Flansch ist auf einer Gleitführung montiert, sodass Bediener Proben mit minimalem Aufwand in die Heizzone schieben oder daraus ziehen können. Diese Konstruktion ist entscheidend für Anforderungen an schnelle Abkühlung, beschleunigt den Probenladevorgang deutlich und reduziert das Risiko von Kontaminationen oder thermischem Schock für das Quarzrohr.
  • Präzise PID-Temperaturregelung: Ausgestattet mit einem Digitalregler mit Selbstabgleichsfunktion und 30 programmierbaren Segmenten hält das System eine Temperaturstabilität von ±1°C ein. Diese Genauigkeit ist unerlässlich für wiederholbare CVD-Wachstumsprozesse und empfindliche Glühverfahren, bei denen bereits geringe Schwankungen die Materialeigenschaften beeinträchtigen können.
  • Hochdichte Vakuum- und Gasverwaltung: Das System unterstützt Niederdruckumgebungen und komplexe Gasatmosphären. Der linke Flansch verfügt über vier Swagelok-Anschlüsse für Gaseinlässe, während der rechte Flansch mit einem KF25-Vakuumanschluss und einem korrosionsbeständigen Kapazitätsdiaphragmamesser ausgestattet ist – für die umfassende Überwachung, die für hochreine Vakuumverarbeitung erforderlich ist.
  • Integrierter Wasserkühlschutz: Um die Integrität der Dichtungs-O-Ringe bei Hochtemperaturläufen zu erhalten, sind die Flansche mit internen Wasserkühlkanälen konstruiert. Diese Funktion stellt sicher, dass die Vakuumdichtung auch bei Betrieb des Ofens bei seiner maximalen Nenntemperatur von 1200°C dicht bleibt.
  • Sicherheitsorientierte geteilte Gehäusekonstruktion: Das Ofengehäuse verfügt über eine geteilte Abdeckung mit integrierter Sicherheitsverriegelung. Wird die Abdeckung während des Betriebs geöffnet, wird die Stromversorgung der Heizelemente sofort unterbrochen – zum Schutz des Bedieners und zur Vermeidung von Unfallschäden an den internen Komponenten.
  • Optimierte Konstante Temperaturzone: Die Heizkonstruktion ist ausgelegt, eine 100 mm lange konstante Temperaturzone innerhalb einer gesamten Heizfläche von 440 mm bereitzustellen. Dadurch erhalten Proben gleichmäßige Temperaturprofile, was eine Voraussetzung für homogene Dünnschichtabscheidung über die gesamte Substratoberfläche ist.
  • Verarbeitungsrohr mit großem Durchmesser: Das 4-Zoll-Quarzrohr (100 mm Nennweite) ermöglicht die Verarbeitung größerer Substrate oder mehrerer Proben gleichzeitig. Diese Kapazität ist entscheidend für Forschung, die von der kleintechnischen Entdeckung zur materialwissenschaftlichen Produktion im Pilotmaßstab übergehen möchte.
  • Intelligente Überwachung und PC-Integration: Mit optionaler Labview-basierter Software und WiFi-Steuerung können Nutzer Wärmebehandlungsrezepte remote verwalten, Echtzeitdaten aufzeichnen und Temperaturprofile grafisch darstellen – dies schafft einen digitalen Prüfpfad für sensible industrielle Experimente.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Graphen-Synthese Thermisches CVD-Wachstum hochwertiger Graphenschichten auf Kupfer- oder Nickelkatalysatoren. Präzise Gasfluss- und Temperaturkontrolle gewährleistet gleichmäßige Gitterstrukturen.
Kohlenstoffnanoröhren (CNT)-Wachstum Herstellung einwandiger oder mehrwandiger Nanoröhren durch Kohlenwasserstoffzersetzung. Der Gleitflansch ermöglicht schnelles thermisches Abschrecken, um Wachstumszustände der Nanoröhren einzufrieren.
Halbleiter-Dotierung Diffusion von Verunreinigungen in Silizium- oder Verbindungshalbleiterwafer zur Veränderung der elektrischen Eigenschaften. Der 4-Zoll-Durchmesser passt zu gängigen Wafergrößen für akademische und industrielle Forschung.
Dünnschichtabscheidung Beschichtung von Substraten mit funktionalen Metall- oder Keramikschichten mittels CVD- oder PECVD-Verfahren. Vakuumdichte verhindert Oxidation und gewährleistet hochreine Schichthaftung.
Keramiksinterung Hochtemperaturverfestigung von fortschrittlichen Keramikpulvern und Verbundwerkstoffen. Die 1200°C-Leistung unterstützt ein breites Spektrum an Verdichtungsprozessen für technische Keramik.
Glühen von Batteriematerialien Wärmebehandlung von Elektrodenmaterialien für Lithium-Ionen-Batterien unter Inertatmosphäre. Genaue PID-Regelung verhindert Phasentrennung und erhält die elektrochemische Leistung.
Solarzellenentwicklung Verarbeitung von Perowskit- oder Dünnschicht-Solarmaterialien unter kontrollierten Atmosphärenbedingungen. Modulare Flanschkonstruktion ermöglicht individuelle Durchführungen für In-situ-Überwachung.
Metallurgieforschung Spannungsabbau und Glühen von spezialisierten Legierungsproben im Vakuum. Zuverlässiges Kühlsystem schützt das Gerät bei langandauernden Heizzyklen.

Technische Spezifikationen

Parameterkategorie Spezifikationsdetails für TU-RT25
Modellbezeichnung TU-RT25
Rohrmaterial & Abmessungen Hochreines Quarzrohr; 110 mm Außendurchmesser × 103 mm Innendurchmesser × 740 mm Länge
Maximaltemperatur 1200°C (für Dauer < 30 Minuten)
Dauerbetriebstemperatur 200°C bis 1100°C
Länge der Heizzone Gesamte Heizzone: 440 mm; Konstante Temperaturzone: 100 mm
Heiz- und Abkühlrate Maximal 20°C pro Minute
Temperaturregler Digital PID mit Selbstabgleich; 30 programmierbare Segmente; ±1°C Genauigkeit
Thermoelementtyp Typ K, eingeführt über den rechten Flansch
Nennspannung Einphasen, 220V AC, 50/60 Hz
Leistungsaufnahme Maximal 3600 W (erfordert 20 A-Sicherung)
Vakuumanschluss KF25-Anschluss am rechten Flansch; korrosionsbeständiges Kapazitätsdiaphragmameter im Lieferumfang
Gaseinlassanschlüsse Vier 1/8'' Swagelok-Anschlüsse am linken Flansch
Kühlanforderungen Wassergekühlte Flansche (12 mm Schnellkupplungen); Kältethermostat empfohlen
Atmosphärengrenzwert Vakuumbetrieb bis 1000°C; Überdruck < 0,2 bar (3 psi)
Konformität CE-zertifiziert (NRTL/CSA/TUV-Zertifizierung auf Anfrage erhältlich)
Sicherheitsmerkmale Geteilte Abdeckung mit stromunterbrechender Verriegelungsschutz

Warum Sie uns wählen sollten

Die Wahl dieses Thermalsystems bedeutet eine Verpflichtung zu Präzision und Betriebseffizienz. Das Gleitflanschdesign ist ein großer Unterschied zu herkömmlichen Öfen und bietet eine Flexibilität und einen Durchsatz, die standardmäßige Röhrenöfen mit festem Rohr nicht erreichen können. Dies macht das System ideal für Labore mit hohem Arbeitsaufkommen, in denen täglich mehrere Experimente durchgeführt werden müssen, ohne die Integrität der Vakuumdichtung oder des Quarzrohres zu beeinträchtigen.

Aus ingenieurtechnischer Sicht ist das System gebaut, um den Belastungen industrieller Forschung standzuhalten. Die Verwendung von hochwertigem Quarz und wassergekühlten Edelstahlkomponenten gewährleistet langfristige Langlebigkeit – auch bei Betrieb in der Nähe der 1200°C-Grenze. Unser Fokus auf Sicherheit, belegt durch das integrierte Verriegelungssystem und die CE-Zertifizierung, gibt sowohl Facility-Managern als auch Forschern Sicherheit.

Darüber hinaus ermöglicht der modulare Aufbau des Systems umfangreiche Anpassungen. Egal, ob Sie spezielle Gasdurchführungen, verbesserte Vakuumpumpen oder integrierte Software für die Fernüberwachung benötigen – diese Einheit kann exakt an die Anforderungen Ihres CVD- oder Wärmebehandlungsprozesses angepasst werden. Wir positionieren dieses Gerät als erstklassige Investition, die über Jahre hinweg konsistente, hochreine Ergebnisse liefert.

Kontaktieren Sie noch heute unser technisches Vertriebsteam für ein formelles Angebot oder um eine maßgeschneiderte Thermallösung für Ihre Forschungsziele zu besprechen.

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