Hochtemperatur-Rohrofen (1200 °C) mit Klappmechanismus und internem Bewegungsmechanismus für HPCVD- und Kristallzüchtungsforschung

RTP-Ofen

Hochtemperatur-Rohrofen (1200 °C) mit Klappmechanismus und internem Bewegungsmechanismus für HPCVD- und Kristallzüchtungsforschung

Artikelnummer: TU-RT07

Maximale Arbeitstemperatur: 1200°C Temperaturregelgenauigkeit: ±1°C Interner Verfahrweg: 100 mm
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Produktübersicht

Produktbild 3

Dieses Hochtemperatur-Verarbeitungssystem ist ein hochentwickelter 2-Zoll-Klapp-Rohrofen, der für die moderne Materialsynthese und thermische Forschung konzipiert wurde. Das Herzstück des Geräts ist ein spezialisierter interner Bewegungsmechanismus, der es Forschern ermöglicht, die Position des Probenschiffchens oder Tiegels innerhalb der Heizkammer unter Vakuum präzise zu steuern. Diese Fähigkeit ist grundlegend für Prozesse, die eine dynamische Bewegung durch einen thermischen Gradienten erfordern, und bietet eine vielseitige Plattform für die hybride physikalisch-chemische Gasphasenabscheidung (HPCVD) sowie die Züchtung hochreiner Kristalle. Das Design des Klappofens verbessert zudem die Betriebseffizienz, da es ein schnelles Abkühlen und einen einfachen Zugang zum Prozessrohr ermöglicht.

Dieses Gerät wurde für die anspruchsvollsten Laborumgebungen entwickelt und dient als kritisches Werkzeug für Forscher in den Bereichen Materialwissenschaft, Halbleiterentwicklung und Festkörperchemie. Durch die Ermöglichung multifunktionaler thermischer Prozesse – einschließlich Rapid Thermal Evaporation (RTE) und Horizontal-Bridgman-Kristallzüchtung – befähigt das System Anwender dazu, Kristallstrukturen der nächsten Generation und komplexe Dünnschichtschichten zu erforschen. Die Integration von hochreinem Quarz und präzisionsgefertigten Edelstahlkomponenten stellt sicher, dass die Verarbeitungsumgebung frei von Verunreinigungen bleibt, selbst bei Betriebstemperaturen von bis zu 1200 °C.

Zuverlässigkeit und Konsistenz sind die Markenzeichen dieser thermischen Verarbeitungsanlage. Ausgestattet mit Heizelementen in Industriequalität und einem robusten, SPS-gesteuerten Antriebssystem, liefert sie über Hunderte von Zyklen hinweg wiederholbare Ergebnisse. Die Kombination aus fortschrittlicher PID-Temperaturregelung und mechanischer Präzision stellt sicher, dass experimentelle Bedingungen mit extremer Genauigkeit eingehalten werden. Ob für die Entwicklung von Prototypen im kleinen Maßstab oder für grundlegende Materialcharakterisierungen – dieses System bietet die Stabilität und Kontrolle, die für modernste industrielle Forschung und Entwicklung sowie anspruchsvolle akademische Forschung erforderlich sind.

Hauptmerkmale

  • Präziser interner Bewegungsmechanismus: Das Gerät ist mit einem speziellen 24VDC, 100W Schrittmotor ausgestattet, der das Probenschiffchen im Quarzrohr bewegt. Dies ermöglicht eine kontrollierte lineare Bewegung von bis zu 100 mm bei konstanter Geschwindigkeit, was für die gerichtete Erstarrung und abgestufte thermische Exposition unerlässlich ist.
  • Integrierte SPS-Touchscreen-Steuerung: Eine zentrale digitale Schnittstelle steuert sowohl das thermische Profil als auch die mechanische Verfahrstrecke. Diese Integration ermöglicht es Anwendern, Temperaturänderungen mit der Probenpositionierung zu synchronisieren, eine kritische Anforderung für komplexe Gasphasenabscheidungsprotokolle.
  • Rapid Thermal Processing (RTP)-Fähigkeit: Durch das Bewegen der Probenbühne in oder aus einer vorgeheizten Heizzone kann dieses System deutlich höhere Heiz- und Kühlraten erreichen als stationäre Öfen und so effektiv RTP-Bedingungen für das Glühen von Dünnschichten nachahmen.
  • Hochreines Quarz-Wärmefeld: Das System verwendet ein erstklassiges Quarz-Prozessrohr, das eine hervorragende chemische Inertheit und Thermoschockbeständigkeit bietet. Dies stellt sicher, dass keine Verunreinigungen in die Reaktionsatmosphäre gelangen, selbst bei Hochtemperatur-Gasphasenreaktionen.
  • Überlegene Vakuum- und Atmosphärenkontrolle: Das Gerät verfügt über vakuumversiegelte Flansche mit Edelstahlfaltenbälgen, die auch bei Bewegung des internen Mechanismus luftdicht bleiben. Dies ermöglicht eine stabile Verarbeitung unter Hochvakuum oder in kontrollierten Inertgasumgebungen.
  • Fortschrittliche PID-Temperaturregelung: Unter Verwendung eines 30-stufigen programmierbaren Controllers mit Halbleiterrelais-Technologie hält das System eine Präzision von ±1 °C aufrecht. Dies gewährleistet eine stabile 60-mm-Konstanttemperaturzone, die für die Aufrechterhaltung gleichmäßiger Kristallwachstumsraten entscheidend ist.
  • Klappofen-Konstruktion: Das Klappscharnier-Design des Ofengehäuses ermöglicht ein schnelles Abkühlen des Rohrs und erleichtert den schnellen Austausch von Proben oder Prozessrohren, wodurch der Labordurchsatz maximiert wird.
  • Erweiterbare Mehrzonen-Optionen: Für Prozesse, die komplexere thermische Gradienten erfordern, kann das Gerät auf eine Doppelzonen-Konfiguration aufgerüstet werden, was erweiterte Konstanttemperaturzonen oder steilere Gradienten bietet, je nach Anwendungsbedarf.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
HPCVD Hybride physikalisch-chemische Gasphasenabscheidung unter Verwendung von Reaktantgasen und Verdampfungsdampf. Präzise Kontrolle über Gasmischung und Abscheidungsort.
RTE Rapid Thermal Evaporation, bei der Materialien zur sofortigen Phasenänderung in die Heizzone bewegt werden. Minimiert thermische Belastung der Substrate und verbessert Schichtreinheit.
Bridgman-Züchtung Züchtung von Einkristallen durch Bewegen eines Tiegels durch einen kontrollierten thermischen Gradienten. Verbessert die strukturelle Integrität des Kristalls durch stetige Erstarrung.
CNT-Synthese Synthese von vertikal ausgerichteten Kohlenstoff-Nanoröhren unter Verwendung von Träger- und Reaktionsgasen. Gleichmäßige Zufuhr der Kohlenstoffquelle und stabile thermische Umgebung.
Dünnschichtglühen Schnelles Aufheizen und Abkühlen abgeschiedener Schichten zur Modifizierung der Kornstruktur. Präzise Kontrolle über Phasenübergänge und Materialeigenschaften.
Gerichtete Erstarrung Kontrolle der Abkühlrichtung geschmolzener Materialien zur Beeinflussung der Mikrostruktur. Verbesserte mechanische Eigenschaften und Kornausrichtung in Legierungen.
Halbleiter-Dotierung Einbringen von Verunreinigungen in Halbleiterwafer bei spezifischen Temperaturen. Hohe Gleichmäßigkeit über die Probenoberfläche durch Bewegungssteuerung.
Gasphasentransport Verwendung von chemischen Transportmitteln zur Züchtung hochreiner Kristalle aus der Gasphase. Hervorragende räumliche Kontrolle über Quellen- und Wachstumszonen.

Technische Spezifikationen

Systemkonfiguration: TU-RT07

Merkmal Spezifikationsdetails
Stromversorgung 208 - 240 VAC, 50/60Hz, 1,2 KW Max
Max. Arbeitstemp. 1200 °C (kurzzeitig); 1100 °C (kontinuierlich)
Quarzrohr-Abmessungen 50 mm A.D. x 44 mm I.D. x 450 mm L
Heizzonenlänge 200 mm (8")
Konstanttemperaturzone 60 mm (±1 °C bei 1000 °C)
Temperaturregelung PID-Automatiksteuerung, 30 Schritte programmierbar
Regelgenauigkeit ±1 °C via K-Typ-Thermoelement
Bewegungsmechanismus 24VDC Schrittmotor (100W)
Max. Verfahrweg 100 mm (innerhalb des vakuumversiegelten Rohrs)
Verfahrgeschwindigkeit 180 mm/min (konstant)
Vakuumflansche 2" Schnellverschluss mit 1/4"-Anschlüssen und Nadelventil
Vakuumniveau 10^-2 Torr (mechanische Pumpe); 10^-5 Torr (Turbopumpe)
Sicherheitskonformität CE-zertifiziert (NRTL/CSA auf Anfrage erhältlich)
Probenschiffchen 50 x 20 x 20 mm Mini-Tiegelschiffchen (~20 ml)

Typische Heiz- & Kühlraten (durch Probenbewegung)

Temperaturbereich Heizrate (Max) Kühlrate (Max)
950 °C - 850 °C 0,5 °C/Sek. 7 °C - 10 °C/Sek.
650 °C - 550 °C 1,0 °C - 2,0 °C/Sek. 1,5 °C - 2,0 °C/Sek.
250 °C - 150 °C 10 °C/Sek. N/A

Warum dieses System wählen?

  • Auf Präzision ausgelegt: Dieses System ist nicht nur ein Ofen, sondern ein Präzisionsinstrument, das hochgenaue thermische Steuerung mit zuverlässiger mechanischer Bewegung für wiederholbare wissenschaftliche Ergebnisse kombiniert.
  • Vielseitige Forschungsplattform: Die Fähigkeit, HPCVD, RTE und Bridgman-Züchtung in einem einzigen Gerät durchzuführen, macht dies zu einer außergewöhnlich kosteneffizienten Lösung für multidisziplinäre Materiallabore.
  • Robuste Konstruktion: Unter Verwendung von hochreinem Quarz und Elektronik in Industriequalität ist das Gerät für langfristige Betriebskonsistenz unter Hochvakuum- und Hochtemperaturbedingungen ausgelegt.
  • Anpassbare Lösungen: Wir bieten umfangreiche Anpassungsmöglichkeiten, einschließlich Modifikationen der Probenhalter (AlN oder Graphit), variabler Geschwindigkeitssteuerung und Mehrkanal-Gaszufuhrsystemen, um spezifische Forschungsanforderungen zu erfüllen.
  • Umfassende Konformität: Die CE-Zertifizierung stellt sicher, dass das System strenge Sicherheitsstandards erfüllt; optionale NRTL- oder CSA-Zertifizierungen sind für spezifische Laboranforderungen erhältlich.

Dieser präzisionsgefertigte Ofen stellt eine erstklassige Investition in die Forschungskapazitäten Ihrer Einrichtung dar. Kontaktieren Sie unser technisches Vertriebsteam noch heute, um Ihre spezifischen Prozessanforderungen zu besprechen oder ein formelles Angebot für eine maßgeschneiderte thermische Lösung anzufordern.

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