1100°C Quarzrohr-Hochtemperaturofen mit großem Durchmesser, 24-Zoll-Heizzone und wassergekühlten Flanschen

Produktübersicht

Dieses Hochleistungs-Thermoprozesssystem wurde entwickelt, um den strengen Anforderungen der Materialwissenschaft und der industriellen Pilotproduktion gerecht zu werden. Ausgestattet mit einem Quarz-Prozessrohr mit einem beachtlichen Durchmesser von 8,5 Zoll, ist das Gerät für Chemical Vapor Deposition (CVD)-Prozesse mit großformatigen Proben oder Halbleiterwafern konzipiert. Seine robuste Architektur und die großzügige Heizzone bieten die thermische Gleichmäßigkeit, die für komplexe Materialumwandlungen erforderlich ist, und stellen sicher, dass jede Charge strengen Qualitätsstandards entspricht.

In der modernen Forschung und Entwicklung dient dieses System als vielseitige Plattform für die Synthese fortschrittlicher Materialien, einschließlich Nanomaterialien und Dünnschichten. Durch die Integration einer hochreinen Quarz-Kammer mit präzisionsgesteuerten Heizelementen behält das Gerät selbst bei erhöhten Temperaturen eine Umgebung in Reinraumqualität bei. Dies macht es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für Labore, die sich auf saubere Energie, Elektronik und Luft- und Raumfahrtkomponenten konzentrieren, bei denen die Kontaminationskontrolle ebenso kritisch ist wie die Temperaturpräzision.

Zuverlässigkeit steht im Mittelpunkt des Designs dieser Einheit. Gebaut mit erstklassigen industriellen Komponenten und einem doppelschichtigen Stahlgehäuse, gewährleistet es betriebliche Konsistenz unter anspruchsvollen Bedingungen. Ob bei kontinuierlichen 24-Stunden-Zyklen für langfristiges Sintern oder bei schnellen thermischen Zyklen für Belastungstests – dieses Gerät bietet die mechanische und thermische Stabilität, die für reproduzierbare wissenschaftliche Ergebnisse und effiziente industrielle Arbeitsabläufe erforderlich ist.

Hauptmerkmale

• Großes 8,5-Zoll-Quarz-Prozessrohr: Das hochreine Quarzglasrohr bietet ein massives Prozessvolumen, das für große Wafer oder die Kalzinierung von Pulvern mit hoher Kapazität geeignet ist und eine maximale Produktivität in Forschungsumgebungen gewährleistet.
• Fortschrittliche NiCrAl-Widerstandsheizung: Hochleistungs-NiCrAl-Drahtelemente sind strategisch positioniert, um eine effiziente Wärmeübertragung und eine maximale Betriebstemperatur von 1100°C bei außergewöhnlicher Langlebigkeit zu gewährleisten.
• Präzise PID-Temperaturregelung: Der integrierte programmierbare Controller ermöglicht bis zu 30 verschiedene Heiz- und Kühlsegmente und bietet eine granulare Kontrolle über das thermische Profil, um Überschwingen zu verhindern und eine Genauigkeit von ±1°C beizubehalten.
• Wassergekühlte Edelstahlflansche: Hochintegrierte Klappflansche enthalten integrierte Wasserkühlkanäle, die die hermetischen Dichtungen bei Hochtemperaturläufen schützen und sicherstellen, dass das Vakuumniveau während des gesamten Prozesses aufrechterhalten wird.
• Doppelschichtiges Stahlgehäuse mit Lüfterkühlung: Die externe Ofenstruktur ist mit einem schützenden Luftspalt und aktiven Kühlventilatoren ausgestattet, wodurch die Außentemperatur für die Sicherheit des Bedieners und die Langlebigkeit der Ausrüstung unter 70°C gehalten wird.
• Hochreine Aluminiumoxid-Faserisolierung: Die Verwendung einer erstklassigen Aluminiumsilikat-Faserisolierung maximiert die Wärmespeicherung und Energieeffizienz, reduziert den Stromverbrauch und schützt interne Komponenten vor thermischer Ermüdung.
• Duales Thermoelement-Überwachungssystem: Eine Konfiguration mit zwei K-Typ-Thermoelementen bietet separate Kanäle für die Temperaturregelung und Sicherheitsüberwachung, inklusive Alarm bei Überhitzung und defektem Thermoelement für einen ausfallsicheren Betrieb.
• Vielseitiges Atmosphärenmanagement: Ausgestattet mit einem 1/4"-Kompressionsrohr-Gaseinlass/-auslass und KF25-Vakuumanschlüssen ermöglicht dieses System eine präzise Steuerung des Innendrucks und der Atmosphärenzusammensetzung während der Wärmebehandlung.

Anwendungen

Technische Spezifikationen

Warum TU-28 wählen?

Die Investition in das TU-28-System stellt sicher, dass Ihr Labor oder Ihre Produktionsstätte mit einer thermischen Lösung ausgestattet ist, die sowohl Präzision als auch Skalierbarkeit priorisiert. Diese Einheit wurde speziell für diejenigen entwickelt, die mehr als nur Standardheizung benötigen; sie ist für Anwender konzipiert, die eine kontrollierte, hochreine Umgebung für die groß angelegte Materialinnovation benötigen. Das Rohr mit 8,5 Zoll Durchmesser bietet einen deutlichen Wettbewerbsvorteil und ermöglicht den Übergang von Tests im kleinen Maßstab zur Pilotproduktion, ohne dass mehrere kleinere Einheiten erforderlich sind.

Unser Engagement für technische Exzellenz spiegelt sich in den Sicherheitsmerkmalen und der Bauqualität dieses Systems wider. Von den wassergekühlten Flanschen, die empfindliche Vakuumdichtungen schützen, bis hin zum doppelschichtigen Gehäuse, das eine sichere Laborumgebung gewährleistet, wird jede Komponente aufgrund ihrer Langlebigkeit ausgewählt. Durch die Auswahl dieser Ausrüstung profitieren Sie von einer bewährten Plattform, die von führenden Forschungseinrichtungen weltweit für Graphitierung, CVD und Halbleiterforschung eingesetzt wird.

Über die Hardware hinaus bieten wir umfassenden technischen Support und eine Reihe von Anpassungsoptionen, um sicherzustellen, dass sich der Ofen nahtlos in Ihren bestehenden Arbeitsablauf integriert. Ob Sie eine erweiterte LabVIEW-Integration für automatische Datenprotokollierung oder spezifische Flanschmodifikationen für einzigartige Gaszufuhrsysteme benötigen, unser Ingenieurteam steht Ihnen gerne zur Verfügung. Kontaktieren Sie uns noch heute, um ein Angebot anzufordern oder eine maßgeschneiderte thermische Lösung für Ihre spezifischen Prozessanforderungen zu besprechen.