Vierzonen 1200°C Mehrzonen geteilter Rohrofen mit unabhängigen digitalen Temperaturreglern für Ein- oder Zweizoll-Prozessrohre

Röhrenofen

Vierzonen 1200°C Mehrzonen geteilter Rohrofen mit unabhängigen digitalen Temperaturreglern für Ein- oder Zweizoll-Prozessrohre

Artikelnummer: TU-44

Maximaltemperatur: 1200°C Heizzonen: 4 Zonen (unabhängig gesteuert) Temperaturgenauigkeit: ±1°C
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Produktübersicht

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Dieses präzise konstruierte Mehrzonen-Heizsystem bietet anspruchsvolle thermische Prozessierfähigkeiten für fortgeschrittene Materialwissenschaft sowie industrielle Forschung und Entwicklung. Als Vierzonen-geteilter Rohrofen konstruiert, erlaubt die Anlage die Erstellung präziser gestufter Temperaturgradienten oder außergewöhnlich langer gleichmäßiger Temperaturzonen durch unabhängige Einstellung der Wärmeleistung von vier separaten 100-mm-Segmenten. Die separate Temperatursteuerkonsole schützt elektronische Komponenten vor Strahlungswärme und erhöht so die langfristige Zuverlässigkeit und Betriebsstabilität des gesamten Systems bei Hochtemperaturzyklen bis 1200°C.

Ideal für Dampfphasentransport (VPT), Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Physikalischen Dampfphasentransport (PVT) bietet diese Einheit Forschern die Flexibilität, Prozessrohre mit Außendurchmessern von einem oder zwei Zoll aufzunehmen. Ihre geteilte Scharnierkonstruktion erleichtert das einfache Beladen/Entnehmen von Proben und ermöglicht schnelle Abkühlung, was für bestimmte metallurgische Prozesse und Dünnschichtwachstumsprozesse unerlässlich ist. Durch die Integration von hochreiner Aluminiumoxid-Faserisolierung und fortschrittlichen Heizelementen erreicht das System eine bemerkenswerte Energieeffizienz und hält gleichzeitig eine kühle Außenoberflächentemperatur für die Bediensicherheit.

Konstruiert für anspruchsvolle Laborumgebungen legt die Anlage den Fokus auf Konsistenz und Reproduzierbarkeit. Jede der vier Zonen wird von einem eigenen dedizierten digitalen Regler gesteuert, was komplexe Temperaturprofile ermöglicht, die für das Züchten hochwertiger Kristalle und die Synthese neuartiger Materialien unerlässlich sind. Ob in horizontaler Konfiguration für Standardprozesse oder vertikal montiert für spezielle Anwendungen – die Einheit liefert die Robustheit und Präzision, die für kritische industrielle Forschung und hochsensitive Materialcharakterisierung erforderlich sind.

Haupteigenschaften

  • Unabhängig gesteuerte Vierzonen-Heizung: Das System verfügt über vier separate 100-mm-Heizzonen, die jeweils mit einem eigenen dedizierten PID-Regler ausgestattet sind. Diese Architektur erlaubt es Nutzern, spezifische Temperaturgradienten einzustellen oder die Konstanttemperaturzone auf bis zu 250 mm mit einer Genauigkeit von ±1°C zu erweitern.
  • Fortschrittliche Wärmedämmung und Gehäusedesign: Ein doppelwandiges Stahlgehäuse mit integrierter Luftkühlung hält die Außenoberflächentemperatur unter 60°C. Die interne Kammer verwendet energiesparende, hochreine faserige Aluminiumoxid-Isolierung, die Wärmeverluste minimiert und die Temperaturansprechzeiten verbessert.
  • Hochleistungs-Legierung-Heizelemente: Ausgestattet mit Fe-Cr-Al-Legierungselementen der 1300°C-Klasse, dotiert mit Molybdän, gewährleistet der Ofen einen langlebigen Betrieb und kann Spitzentemperaturen von 1200°C mit Aufheizraten von bis zu 20°C pro Minute erreichen.
  • Präzise digitale PID-Regler: Die Steuerkonsole umfasst vier einzelne digitale Einheiten mit automatischer PID-Steuerung für Aufheizung, Abkühlung und Haltezeiten. Jeder Regler unterstützt bis zu 30 programmierbare Segmente und bietet so feinkörnige Kontrolle über komplexe thermische Sequenzen.
  • Geteilte Ofenarchitektur: Das geteilte Scharnierdesign erlaubt das schnelle Öffnen des Ofens, was kritisch für Versuchsaufbauten ist, die schnellen Zugriff auf das Prozessrohr erfordern, oder um die Abkühlrate für das Abschrecken von Materialien nach Hochtemperaturbehandlung zu beschleunigen.
  • Flexible Montagekonfigurationen: Das Heizmodul ist auf Flexibilität ausgelegt und kann je nach spezifischen Versuchsanforderungen horizontal oder vertikal positioniert werden – beispielsweise für vertikales Bridgman-Kristallwachstum oder horizontale CVD-Prozesse.
  • Integrierte Sicherheit und Überwachung: Eingebaute Schutzvorrichtungen gegen Überhitzung und defekte Thermoelemente sorgen dafür, dass das System im Fehlerfall sicher abschaltet und sowohl die Anlage als auch die empfindlichen Proben im Prozessrohr schützt.
  • Skalierbare Kommunikationsschnittstellen: Standardmäßige RS485-Kommunikationsanschlüsse ermöglichen die potenzielle Integration mit externer PC-Software für Fernüberwachung, Datenprotokollierung und komplexe Programmsynchronisation über alle Heizzonen hinweg.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
CVD / PECVD Chemische Gasphasenabscheidung von Dünnschichten und Nanomaterialien, bei der präzise Vorläufer-Verdampfungs- und Abscheidungstemperaturen erforderlich sind. Präzise Temperaturgradienten gewährleisten optimale Reaktionskinetik und Filmgleichmäßigkeit.
Physikalischer Dampfphasentransport Gewinnung synthetischer Kristalle durch Verdampfen eines Ausgangsmaterials bei hoher Temperatur und Abscheidung in einer kühleren Zone. Vier unabhängige Zonen ermöglichen den exakten Temperaturunterschied, der für das Wachstum hochreiner Kristalle benötigt wird.
Glühbehandlung Kontrollierte Wärmebehandlung von metallischen und keramischen Proben zum Abbau innerer Spannungen und zur Modifikation mechanischer Eigenschaften. Das geteilte Design ermöglicht kontrollierte Abkühlraten zur Erzielung spezifischer Materialmikrostrukturen.
Halbleiterdotierung Hochtemperaturdiffusion von Dotierstoffen in Halbleiterwafer oder -substrate mittels gasförmiger Vorläufer. Konstante gleichmäßige Temperaturzonenlängen bis zu 250 mm gewährleisten Chargenhomogenität.
Kalzinierung & Sinterung Thermische Verarbeitung von Katalysatormaterialien oder keramischen Pulvern bei Temperaturen bis zu 1100°C. Digitale Steuerung gewährleistet wiederholbare thermische Zyklen für gleichbleibende Materialchargenqualität.
Vakuumwärmebehandlung Verarbeitung empfindlicher Materialien unter Hochvakuum oder inerten Atmosphären zur Vermeidung von Oxidation. Spezialisierte Vakuumflansche und Thermoblöcke unterstützen sicheren Betrieb bis zu 10-5 Torr.
Kristallwachstum (Bridgman) Verwendung der vertikalen Ausrichtung, um Materialien langsam durch einen Temperaturgradienten zu bewegen und so Einkristalle zu bilden. Modulare Heizzonen sorgen für die erforderliche Gradientenstabilität für konsistente Korngrenzensteuerung.

Technische Spezifikationen

Parameter Spezifikation für TU-44
Modellnummer TU-44
Ofenkonstruktion Doppelwandiges Stahlgehäuse mit Luftkühlung; Hochreine faserige Aluminiumoxid-Isolierung
Max. Arbeitstemperatur 1200ºC (< 1 Stunde, ohne Vakuum)
Dauertemperatur 1100ºC
Max. Aufheizrate ≤ 20ºC / min
Heizelement Fe-Cr-Al-Legierung der 1300ºC-Klasse, mit Mo dotiert
Gesamtlänge Heizkammer 400 mm
Konfiguration Heizzonen Vier (4) unabhängige Zonen, je 100 mm
Länge Konstanttemperaturzone Max 250 mm (± 1°C), wenn alle 4 Zonen die gleiche Temperatur haben
Max. Zonentemperaturdifferenz 200°C zwischen benachbarten Zonen
Temperaturgenauigkeit ± 1 ºC
Temperaturregler 4 Sätze digitale PID-Regler; 30 programmierbare Segmente
Thermoelementtyp Vier K-Typ-Thermoelemente (eins pro Zone)
Spannung & Leistung AC 110V Einphasig, 50/60 Hz, 30 A (max. 3 KW)
Hinweis zur externen Elektrik Verwenden Sie einen 5000W-Transformator für 208-240V; Verwenden Sie niemals eine NEMA 5-15/20R-Wandsteckdose
Prozessrohrdurchmesser Nimmt 1” oder 2” Außenrohre auf (min. 1000mm Länge)
Max. Vakuumniveau ≤ 1000°C für Vakuumbetrieb; < 0,2 bar für Niederdruckgas
Zertifizierungen CE-zertifiziert (NRTL oder CSA auf Anfrage erhältlich)
Kommunikation RS485-Port Standard (Remote-Software optional)

Warum Sie uns wählen sollten

  • Überlegene thermische Flexibilität: Die Vierzonen-Architektur bietet ein Maß an Gradientensteuerung, das mit Einzonensystemen unmöglich ist, und ist damit die bevorzugte Wahl für komplexe dampfphasische Synthese und hochreines Kristallwachstum.
  • Trennbare Steuerarchitektur: Indem wir die Steuerelektronik in einer separaten Konsole isolieren, verhindern wir thermisches Driften der Elektronik und verlängern die Lebensdauer der PID-Regler, was konsistente Leistung über Jahre industrieller Nutzung gewährleistet.
  • Präzise Konstruktion und Verarbeitungsqualität: Von den Mo-dotierten Heizelementen bis zum luftgekühlten doppelwandigen Gehäuse wird jede Komponente dieser Einheit für Langlebigkeit in anspruchsvollen Forschungs- und Produktionsumgebungen ausgewählt.
  • Modular und anpassbar: Das System kann einfach mit optionalen Vakuumflanschen, digitalen Messgeräten und verschiedenen Rohrmaterialien angepasst werden und ist kompatibel mit sowohl horizontalen als auch vertikalen Versuchsaufbauten.
  • Sicherheit und Konformität: Mit vollständiger CE-Zertifizierung und eingebauten Schutzmechanismen für Thermoelemente und Übertemperaturereignisse erfüllt diese Anlage die strengen Sicherheitsstandards moderner Labore und Produktionsstätten.

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