RTP-Ofen
1200°C Max. verschiebbarer Rohrofen mit 80 mm AD Quarzrohr und Vakuumflanschen für Rapid Thermal Processing (schnelles Heizen und Kühlen)
Artikelnummer: TU-KT08
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Produktübersicht

Dieses Hochleistungs-Wärmebehandlungssystem wurde für Labore und Industrieanlagen entwickelt, die schnelle Heiz- und Kühlzyklen erfordern. Durch die Integration eines speziellen Schiebemechanismus mit einer präzisionsgesteuerten Heizkammer ermöglicht dieses Gerät Forschern, thermische Gradienten und Abschreckraten zu erreichen, die mit stationären Öfen nicht möglich sind. Der Hauptvorteil liegt in der Fähigkeit, Rapid Thermal Processing (RTP) zu einem Bruchteil der Kosten traditioneller dedizierter RTP-Systeme durchzuführen, was es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für Innovationen in der Materialwissenschaft und Hochdurchsatz-Probentests macht.
Das System ist primär für fortgeschrittene Materialforschung, Halbleiterverarbeitung und Phasenumwandlungsstudien konzipiert. Die Möglichkeit, die Heizzone manuell entlang eines festen Prozessrohrs zu bewegen, erlaubt das Vorheizen des Ofens unabhängig von der Probenposition, was eine sofortige Aussetzung gegenüber hohen Temperaturen ermöglicht. Diese Einheit wird häufig beim Glühen von Halbleiter-Wafern, bei der Dünnschichtabscheidung und bei der Synthese von niedrigdimensionalen Nanomaterialien eingesetzt, bei denen eine präzise Kontrolle der thermischen Historie entscheidend für die Erzielung der gewünschten Materialeigenschaften ist.
Das für die Anforderungen anspruchsvoller F&E-Umgebungen gebaute Gerät verfügt über eine robuste zweischichtige Stahlstruktur und integrierte doppelte Kühlventilatoren. Dieser technische Ansatz stellt sicher, dass die Außenseite sicher zu berühren bleibt, während die internen Komponenten mit höchster Effizienz arbeiten. Die Zuverlässigkeit wird durch hochreine Quarzkomponenten und fortschrittliche Mo-dotierte Legierungsheizelemente weiter gestärkt, die selbst bei wiederholten Hochgeschwindigkeits-Schiebevorgängen eine konsistente thermische Umgebung bieten. Dieses System stellt eine langlebige Investition für Institutionen dar, die sich auf modernste thermische Verarbeitung und metallurgische Analysen konzentrieren.
Hauptmerkmale
- Hochgeschwindigkeits-Schiebemechanismus: Das Gerät ist auf einem Paar präzisionsgefertigter, verchromter Stahlschiene montiert, was einen Gesamtweg von 600 mm ermöglicht. Diese manuelle Schiebefähigkeit erlaubt es dem Bediener, den vorgeheizten Ofen über die Probe oder von ihr weg zu bewegen, wodurch Heiz- und Kühlraten von bis zu 100°C/min oder sogar 15°C/sek unter spezifischen Atmosphärenbedingungen erreicht werden.
- Fortgeschrittene PID-Temperaturregelung: Das System verwendet einen hochentwickelten automatischen PID-Regler mit 30 programmierbaren Segmenten. Mit einer Regelgenauigkeit von ±1°C gewährleistet diese Einheit wiederholbare thermische Profile. Sie enthält eingebaute Übertemperaturalarme und automatisierte Schutzprotokolle, die einen unbeaufsichtigten Betrieb während lang andauernder Zyklen ermöglichen.
- Duale Thermoelement-Überwachung: Um ein Höchstmaß an Datenintegrität zu gewährleisten, umfasst das System zwei K-Typ-Thermoelemente. Eines ist für die Ofensteuerung vorgesehen, während das zweite direkt in das Rohr eingeführt wird, um das Echtzeit-Temperaturprofil der Probe zu überwachen. Diese Konfiguration ist unerlässlich für die Dokumentation der exakten thermischen Belastung während schneller Schiebevorgänge.
- Premium Quarz-Prozessrohr: Der Ofen verwendet ein hochreines Quarzglasrohr mit einem Außendurchmesser von 80 mm und einer Länge von 1400 mm. Dieses Material bietet eine hervorragende Thermoschockbeständigkeit und chemische Reinheit, was es ideal für Prozesse mit empfindlichen Materialien oder speziellen Gasumgebungen macht.
- Überlegene Vakuum- und Atmosphärenkontrolle: Ausgestattet mit Vakuumflanschen aus Edelstahl und einem digitalen Vakuummeter, ist dieses System sofort für den Vakuum- oder Inertgasbetrieb einsatzbereit. Die Flansche werden durch robuste Halterungen gestützt, um Stabilität während des Schiebevorgangs zu gewährleisten, und das integrierte Nadelventil ermöglicht eine präzise Atmosphärenverwaltung.
- Verbesserte Heizelementchemie: Die Heizelemente bestehen aus einer Fe-Cr-Al-Legierung, die mit Molybdän (Mo) dotiert ist. Diese fortschrittliche Dotierung verbessert die strukturelle Integrität der Elemente bei hohen Temperaturen, verhindert ein Durchhängen und sorgt für eine lange Lebensdauer, selbst bei häufigen schnellen Heizzyklen.
- Datenprotokollierung und PC-Konnektivität: Jede Einheit wird mit einem NIST-zertifizierten Thermometer und einem PC-Steuerungsmodul geliefert. Die RS485-Schnittstelle und die mitgelieferte Windows-Software ermöglichen es Forschern, Temperaturprofile aufzuzeichnen, zu analysieren und zu exportieren, was eine vollständige Rückverfolgbarkeit für sensible experimentelle Daten gewährleistet.
- Doppelschichtige Sicherheitskonstruktion: Das Ofengehäuse verfügt über eine Stahlstruktur mit Doppelschale und integrierten doppelten Luftkühlventilatoren. Dieses Design erleichtert die schnellere Wärmeableitung von der Elektronik und stellt sicher, dass die Außenfläche auch bei kontinuierlichem Betrieb bei 1100°C auf einer sicheren Temperatur bleibt.
Anwendungen
| Anwendung | Beschreibung | Hauptvorteil |
|---|---|---|
| Rapid Thermal Processing (RTP) | Nutzung des Schiebemechanismus, um den Ofen bei voreingestellter Temperatur über eine Probe zu bewegen. | Minimiert das thermische Budget und verhindert unerwünschte Diffusion in Halbleiterproben. |
| Phasenumwandlungsstudien | Schnelles Abkühlen von Proben von hohen Temperaturen auf Raumtemperatur durch Wegschieben der Heizzone. | Erfasst metastabile Phasen und ermöglicht das Studium der Abschreckkinetik in der Metallurgie. |
| Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) | Präzise Steuerung von thermischen Zonen und Gasfluss für das Wachstum von Dünnschichten oder Nanostrukturen. | Hochreiner Quarz und Vakuumversiegelung sorgen für hochwertige, nicht kontaminierte Wachstumsumgebungen. |
| Halbleiter-Glühen (Annealing) | Hochgeschwindigkeits-Temperaturzyklen von Silizium-Wafern oder Verbindungshalbleitern zur Aktivierung von Dotierstoffen. | Erhöht den Durchsatz und sorgt für eine gleichmäßige thermische Verteilung über die Konstanttemperaturzone. |
| Katalysatortests | Aussetzen von Katalysatormaterialien gegenüber schnellen Thermoschocks und variierten Gasumgebungen. | Ermöglicht Hochbelastungstests der Materialhaltbarkeit und Leistung unter extremen Bedingungen. |
| Kohlenstoff-Nanoröhren-Synthese | Wachstum von CNTs unter Verwendung kontrollierten Gasflusses und schneller Temperaturspitzen. | Der 80-mm-Rohrdurchmesser unterstützt mehrere Substrate oder die Verarbeitung von Schüttgut in einem Durchgang. |
| Dünnschichtkristallisation | Schnelles Erhitzen amorpher Schichten zur Induzierung der Kristallisation ohne Substratdegradation. | Erreicht hohe Heizraten (15°C/sek), die empfindliche Substratmaterialien schützen. |
Technische Spezifikationen
| Spezifikationskategorie | Parameterdetails (Modell: TU-KT08) |
|---|---|
| Modellnummer | TU-KT08 |
| Ofenstruktur | Doppelschichtiger Stahl mit doppelten Luftkühlventilatoren; manuell beweglich auf 1200 mm Gleitschienen |
| Schiebeweg | 600 mm effektiver Verfahrweg |
| Max. Temperatur | 1200°C (< 1 Stunde) |
| Dauerbetriebstemperatur | 1100°C |
| Heizzonenlänge | 440 mm (Einzelzone) |
| Konstanttemperaturzone | 150 mm (±3°C bei 1000°C) |
| Leistung / Spannung | 2,5 KW; AC 208-240V Einphasig, 50/60 Hz |
| Heizelemente | Fe-Cr-Al-Legierung, dotiert mit Mo |
| Prozessrohr | Hochreiner Quarz; AD: 80 mm; ID: 75 mm; Länge: 1400 mm |
| Temperaturregler | PID-Automatiksteuerung, 30 programmierbare Segmente, ±1°C Genauigkeit |
| Thermoelemente | Duale K-Typ (eines für Ofensteuerung, eines für Probenüberwachung) |
| Datenschnittstelle | RS485-Schnittstelle mit Windows-Software und NIST-zertifiziertem Thermometer |
| Vakuumflansche | Edelstahl mit robuster Halterung; inklusive Nadelventil und digitalem Vakuummeter |
| Max. Heizraten | 15°C/sek (RT-150°C); 10°C/sek (150-250°C); 7°C/sek (250-350°C); 4°C/sek (350-500°C) |
| Max. Kühlraten | 15°C/sek (1000-950°C); 10°C/sek (950-900°C); 7°C/sek (900-850°C); 4°C/sek (850-750°C) |
| Vakuumgrad | 10E-4 Torr (Molekularpumpe); 10E-2 Torr (Mechanische Pumpe) |
| Atmosphärensicherheit | < 0,2 bar / 3 psi / 0,02 MPa (Gasfluss < 200 SCCM empfohlen) |
Warum diesen Ofen wählen?
- Unübertroffene thermische Agilität: Dieses System bietet Forschern die Flexibilität, sowohl standardmäßige Langzeit-Wärmebehandlungen als auch ultraschnelle thermische Prozesse durchzuführen, dank seines präzisen manuellen Schiebemechanismus und der leistungsstarken Heizelemente.
- Umfassende Dokumentationsfähigkeit: Im Gegensatz zu Standard-Laboröfen verfügt dieses Gerät über eine duale Thermoelement-Überwachung und eine NIST-zertifizierte Datenprotokollierung, wodurch sichergestellt wird, dass jeder thermische Zyklus für Veröffentlichungen oder industrielle Qualitätskontrollanforderungen dokumentiert ist.
- Robuste Technik und Sicherheit: Vom doppelschichtigen Stahlgehäuse, das niedrige Oberflächentemperaturen beibehält, bis hin zu den robusten Flanschhalterungen, die das Quarzrohr während des Schiebens schützen, ist jede Komponente auf industrielle Langlebigkeit und Bedienersicherheit ausgelegt.
- Integrierte Vakuumlösung: Die Einbeziehung hochwertiger Edelstahlflansche, eines digitalen Vakuummeters und aller notwendigen Anschlüsse bedeutet, dass das Gerät sofort nach der Installation für Hochvakuum- und Inertgasexperimente bereit ist.
- Vielseitiges und skalierbares Design: Mit einem 80-mm-AD-Rohr bietet das System Platz für eine Vielzahl von Probengrößen und Schiffchenkonfigurationen, was es für diverse Forschungswege von der Metallurgie bis hin zu Halbleiter-Dünnschichten geeignet macht.
Unser Ingenieurteam steht bereit, um Sie bei der Auswahl der idealen thermischen Konfiguration für Ihre spezifischen Materialforschungsanforderungen zu unterstützen. Kontaktieren Sie uns noch heute für eine technische Beratung oder ein formelles Angebot für dieses Hochleistungs-Schiebeofensystem.
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