Hochtemperatur-Rohrofen 1700 °C mit Hochvakuum-Turbomolekularpumpensystem und Mehrkanal-Massendurchflussregler-Gasmischer

Röhrenofen

Hochtemperatur-Rohrofen 1700 °C mit Hochvakuum-Turbomolekularpumpensystem und Mehrkanal-Massendurchflussregler-Gasmischer

Artikelnummer: TU-83

Maximale Heiztemperatur: 1700°C (1600°C Dauerbetrieb) Vakuumkapazität: Enddruck <1E-8 mbar (Pfeiffer-Pumpe) Gassteuerungssystem: 2-4-Kanal-Digital-MFC mit Touchscreen
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Produktübersicht

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Dieses Hochleistungs-Wärmebehandlungssystem wurde für fortschrittliche Materialwissenschaften und industrielle Forschungsanwendungen entwickelt, die extreme Temperaturen und ultrareine atmosphärische Bedingungen erfordern. Durch die Kombination eines 1700 °C Aluminiumoxid-Rohrofens mit einer Hochleistungs-Turbomolekular-Vakuumstation und einem präzisen Massendurchfluss-Gasversorgungsmodul bietet das Gerät eine schlüsselfertige Lösung für komplexe chemische Gasphasenabscheidungs- (CVD), Diffusions- und Sinterprozesse. Das robuste Design stellt sicher, dass Forscher hochreproduzierbare Ergebnisse erzielen und gleichzeitig die Integrität empfindlicher Proben bei einem Vakuum von bis zu 10^-5 Torr bewahren können.

Das Gerät richtet sich an die Halbleiterfertigung, Luft- und Raumfahrtentwicklung sowie die fortschrittliche Keramiktechnik und schließt die Lücke zwischen Laborexperimenten und Pilotproduktion. Seine vielseitige Architektur ermöglicht die präzise Steuerung mehrerer Gasarten, was es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Herstellung von Dünnschichten, Nanodrähten und komplexen 2D-Materialien macht. Die gesamte Einheit ist auf einem mobilen Schwerlastwagen montiert, was einen einfachen Transport und eine nahtlose Integration in bestehende Reinräume oder Laborarbeitsplätze ohne komplexe Festinstallationen ermöglicht.

Zuverlässigkeit steht im Mittelpunkt des Designs dieses Ofens. Durch die Verwendung hochwertiger Molybdändisilizid-Heizelemente (MoSi2) und einer hochreinen Aluminiumoxid-Feuerfestkammer ist das System so gebaut, dass es den strengen thermischen Zyklen standhält, die in der industriellen F&E erforderlich sind. Das doppelschichtige Stahlgehäuse mit integrierter Lüfterkühlung sorgt dafür, dass die Außenflächentemperaturen auch bei Hochtemperaturbetrieb für das Bedienpersonal sicher bleiben. Dieser Fokus auf Sicherheit, kombiniert mit hochpräziser PID-Steuerung und in Deutschland entwickelten Vakuumkomponenten, bietet die langfristige Betriebskonsistenz, die professionelle Beschaffungsteams und leitende Wissenschaftler fordern.

Hauptmerkmale

  • Außergewöhnlicher Temperaturbereich: Dieses System erreicht eine maximale Heiztemperatur von 1650 °C bei einer Dauerbetriebstemperatur von 1600 °C, angetrieben von acht hochwertigen MoSi2-Heizelementen, die speziell für eine optimale thermische Gleichmäßigkeit positioniert sind.
  • Ultrahochvakuum-Integration: Ausgestattet mit einer originalen Pfeiffer-Turbomolekularpumpe erreicht das System einen Enddruck von <1E-7 mbar, was eine sauerstofffreie Umgebung ermöglicht, die für hochreine Materialsynthesen und kontaminationsempfindliche Prozesse entscheidend ist.
  • Präzise Massendurchflussregelung: Die integrierte Gasmischstation verfügt über 2 bis 4 Kanäle mit digitalen Massendurchflussreglern (MFC), die eine exakte Zufuhr von Prozessgasen wie Stickstoff, Helium oder Wasserstoff mit hoher Wiederholgenauigkeit und digitaler Touchscreen-Überwachung ermöglichen.
  • Fortschrittliche PID-Steuerungslogik: Der Temperaturregler verwendet ein phasenwinkelgesteuertes Widerstandssystem mit Strombegrenzung und 30 programmierbaren Segmenten, wodurch eine Genauigkeit von ±1 °C über den gesamten Heizrampenverlauf beibehalten wird.
  • Robuste Kammerkonstruktion: Der Ofen verwendet ein hochreines Aluminiumoxid-Prozessrohr mit 60 mm Außendurchmesser und eine hochreine Aluminiumoxid-Feuerfestkammer, um Wärmeverluste zu minimieren und chemische Kreuzkontaminationen während Hochtemperaturzyklen zu verhindern.
  • Intelligentes Vakuummanagement: Die Hochvakuumstation verfügt über eine Ein-Tasten-Bedienung für die Membran- und Turbopumpe, wobei die systemgesteuerten Drehzahlen automatisch basierend auf dem Vakuumniveau und den Leckraten angepasst werden.
  • Erweiterte Sicherheitsprotokolle: Ein eingebauter Selbstschutzmechanismus überwacht Überhitzungs- und Überstromzustände und verlangsamt oder stoppt die Turbine automatisch, wenn die Leckraten sichere Betriebsschwellen überschreiten, um Pumpenschäden zu vermeiden.
  • Flexible Schnittstellenoptionen: Das System umfasst einen RS485-Kommunikationsanschluss und ist kompatibel mit fortschrittlichen Software-Kits für PC-Fernsteuerung, LabVIEW-Integration und umfassende Datenprotokollierung für Qualitätssicherungs-Audits.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) Synthese von Dünnschichten und Nanomaterialien wie Graphen oder Kohlenstoff-Nanoröhren unter Verwendung kontrollierter Gasvorläufer. Präzise stöchiometrische Kontrolle der Gasverhältnisse gewährleistet Schichtgleichmäßigkeit und hochwertige Gitterstrukturen.
Halbleiterdotierung Einbringen von Verunreinigungen in Halbleiterwafer bei hohen Temperaturen zur Modifizierung der elektrischen Eigenschaften. Hohe Vakuumintegrität verhindert unbeabsichtigte Oxidation oder Kontamination des Halbleitersubstrats.
Sintern von Keramik Verdichtung von Keramikpulverpresslingen zu dichten, hochfesten Strukturbauteilen bei Temperaturen bis zu 1600 °C. Stabile thermische Zonen und hochreine Aluminiumoxidrohre verhindern Verunreinigungen, die die Keramikmatrix schwächen könnten.
Testen von Luft- und Raumfahrtlegierungen Aussetzen fortschrittlicher Legierungen gegenüber extremen thermischen Umgebungen unter Vakuum zur Simulation von Höhen- oder Weltraumbedingungen. Genaue Temperaturrampen und Vakuumstabilität imitieren die rauen Umgebungen bei Orbitalflügen.
Pulvermetallurgie Wärmebehandlung von Metallpulvern zur Herstellung komplexer Teile durch Festphasenverbindung, ohne den Schmelzpunkt zu erreichen. Vakuumumgebung eliminiert atmosphärische Gase, die Sprödigkeit oder Oberflächenoxidation in reaktiven Metallen verursachen.
Glühen von Optiken Abbau innerer Spannungen in spezialisiertem optischem Glas oder Kristallen durch langsame, kontrollierte Abkühlphasen. Der 30-stufige programmierbare PID-Regler ermöglicht extrem fein abgestimmte Abkühlraten zur Vermeidung von Thermoschocks.

Technische Spezifikationen

Kern-Ofenspezifikationen (TU-83)

Parameter Technische Details
Heizelemente 8 Stk. Molybdändisilizid (MoSi2) für 1800 °C
Maximale Temperatur 1650 °C
Dauerbetriebstemperatur 1600 °C
Standard-Prozessrohr Hochreines Aluminiumoxid, 60 mm AD x 1000 mm L
Heizzonenlänge 457 mm (18")
Konstanttemperaturzone 150 mm (6") mit ±1 °C Genauigkeit
Heizrate ≤ 5 °C/min
Temperaturgenauigkeit ±1 °C
Thermoelementtyp Typ B (Platin-Rhodium)
Leistungsaufnahme 6,0 kW
Eingangsspannung AC 208-240V Einphasig, 50/60Hz
Ofenabmessungen 550 x 380 x 520 mm

Spezifikationen der Hochvakuumstation

Parameter Technische Details
Pumpenhersteller Pfeiffer Vacuum (Deutschland)
Stickstoff-Durchflussrate 33 L/s
Enddruck <1E-8 mbar (leckfreier Zustand)
Arbeitsbereich 1000 mbar bis <1E-7 mbar
Steuerschnittstelle Digitales LCD mit Ein-Tasten-Start/Stopp-Funktionalität
Schutzsysteme Überhitzungs- und Überstrom-Selbstschutz
Wagenabmessungen 600(L) x 600(B) x 700(H) mm
Vakuummeter Digitaler Sensor mit Echtzeit-Drucküberwachung

Massendurchfluss-Gasregelsystem (MFC)

Parameter Technische Details
Anzahl der Kanäle 2 Kanäle (Standard), bis zu 4 Kanäle (Optional)
Ventilmaterial 316 Edelstahl
Mischbehältergröße Φ80 x 120 mm
Durchflussratenbegrenzung < 200 SCCM (Standardkonfiguration)
Steuerschnittstelle 6" Farb-Touchscreen mit PC-Fernschaltmodus
Sicherheitsventile Präzisionsnadelventile und mechanische Druckanzeigen enthalten

Warum dieses Hochtemperatursystem wählen?

Diese integrierte Lösung stellt eine bedeutende Investition in die Laborkapazitäten dar und bietet ein Maß an Präzision und Zuverlässigkeit, das Einzelkomponenten nicht erreichen können. Indem der Ofen, die Vakuumstation und die Gasmischeinheit auf einer einzigen, konstruierten mobilen Plattform untergebracht sind, eliminiert das System die komplexe Fehlersuche, die oft mit Setups verschiedener Anbieter verbunden ist. Die Verwendung hochwertiger Komponenten, wie der deutschen Pfeiffer-Turbomolekularpumpe und erstklassiger MoSi2-Elemente, stellt sicher, dass das System über Jahre hinweg bei intensiver Nutzung in industriellen F&E-Umgebungen eine gleichbleibende Betriebskonsistenz beibehält.

Darüber hinaus ist das System auf Skalierbarkeit und Anpassungsfähigkeit ausgelegt. Ob Sie zusätzliche Gaskanäle für komplexe CVD-Prozesse mit mehreren Vorläufern oder verbesserte Temperaturregler von Eurotherm für die LabVIEW-Kompatibilität benötigen, diese Architektur passt sich Ihren spezifischen Forschungsanforderungen an. Das CE-zertifizierte Design und die Option auf NRTL/UL/CSA-Zertifizierung geben Beschaffungsteams die Sicherheit, dass dieses Gerät den höchsten internationalen Sicherheits- und Qualitätsstandards entspricht. Dies ist nicht nur ein Ofen, sondern eine komplette Wärmebehandlungsumgebung, die für die anspruchsvollsten materialwissenschaftlichen Herausforderungen konzipiert wurde.

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