Kammer- & Rohröfen
RTP-Ofen Muffelofen Röhrenofen Atmosphärenofen

Kammer- & Rohröfen

600°C Vertikaler Tiegelofen mit SS316-Legierungsreaktor und 6-Port-Vakuumflansch

600°C Vertikaler Tiegelofen mit SS316-Legierungsreaktor und 6-Port-Vakuumflansch

TU-DZ09

1200°C Röhrenofen mit interner magnetischer Probengleiteinrichtung für Direktverdampfungsabscheidung und schnelle thermische Prozessierung

1200°C Röhrenofen mit interner magnetischer Probengleiteinrichtung für Direktverdampfungsabscheidung und schnelle thermische Prozessierung

TU-RT02

1200°C Schiebe-Rohrofen mit internem Tiegel für die Dünnschichtabscheidung unter kontrollierter Atmosphäre und Materialsublimationsforschung

1200°C Schiebe-Rohrofen mit internem Tiegel für die Dünnschichtabscheidung unter kontrollierter Atmosphäre und Materialsublimationsforschung

TU-RT15

Hochtemperatur-Hybrid-Muffel- und Rohrofen mit Vakuumfähigkeit und PID-Steuerung

Hochtemperatur-Hybrid-Muffel- und Rohrofen mit Vakuumfähigkeit und PID-Steuerung

TU-HC05

1200°C Schieberohr-Ofen für Rapid Thermal Processing und CVD-Graphenwachstum mit 100 mm Außendurchmesser-Kapazität

1200°C Schieberohr-Ofen für Rapid Thermal Processing und CVD-Graphenwachstum mit 100 mm Außendurchmesser-Kapazität

TU-RT14

Schnelltemperatur-Prozessofen mit kontrollierter Atmosphäre, 1100 °C, mit einer Aufheizrate von 50 °C pro Sekunde für die Wafer-Glühung

Schnelltemperatur-Prozessofen mit kontrollierter Atmosphäre, 1100 °C, mit einer Aufheizrate von 50 °C pro Sekunde für die Wafer-Glühung

TU-RT29

Hochtemperatur 1200°C Automatischer Schiebe-Doppelzonen-Röhrenofen für das Wachstum von 2D-Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Material-Sublimationsforschung

Hochtemperatur 1200°C Automatischer Schiebe-Doppelzonen-Röhrenofen für das Wachstum von 2D-Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Material-Sublimationsforschung

TU-RT06

Rapid-Thermal-Processing-Schieberohrofen mit 4-Zoll-Quarzrohr (AD) und 900°C IR-Heizung

Rapid-Thermal-Processing-Schieberohrofen mit 4-Zoll-Quarzrohr (AD) und 900°C IR-Heizung

TU-RT01

1200°C Hochtemperatur-Röhrenofen 4 Zoll mit Gleitflansch für CVD-Systeme

1200°C Hochtemperatur-Röhrenofen 4 Zoll mit Gleitflansch für CVD-Systeme

TU-RT25

Zwei-Zonen-IR-Heiz-RTP-Rohrofen für Rapid Thermal Processing mit 4 Zoll ID Quarzrohr und verschiebbaren Probenhaltern

Zwei-Zonen-IR-Heiz-RTP-Rohrofen für Rapid Thermal Processing mit 4 Zoll ID Quarzrohr und verschiebbaren Probenhaltern

TU-RT28

1200°C Hochtemperatur-5-Zoll-Schieberohr-Ofen für Rapid Thermal Processing (RTP) und Wafer-Glühen

1200°C Hochtemperatur-5-Zoll-Schieberohr-Ofen für Rapid Thermal Processing (RTP) und Wafer-Glühen

TU-KT09

1200C Doppelte Temperaturzone, verschiebbare Rohröfen für das Wachstum von 2D-Materialien und TCVD-Synthese

1200C Doppelte Temperaturzone, verschiebbare Rohröfen für das Wachstum von 2D-Materialien und TCVD-Synthese

TU-RT10

Doppelrohr-CVD-Schiebeofen 100 mm / 80 mm mit 4-Kanal-Gasmisch- und Vakuumsystem

Doppelrohr-CVD-Schiebeofen 100 mm / 80 mm mit 4-Kanal-Gasmisch- und Vakuumsystem

TU-RT12

1200°C Dual-Schieberohr-Ofen mit zwei Rohren und Flanschen für PECVD-Prozesse

1200°C Dual-Schieberohr-Ofen mit zwei Rohren und Flanschen für PECVD-Prozesse

TU-RT11

Zwei-Zonen-CSS-Ofen für Rapid Thermal Processing, Dünnschichtbeschichtung, 3 Zoll Durchmesser, 650 °C

Zwei-Zonen-CSS-Ofen für Rapid Thermal Processing, Dünnschichtbeschichtung, 3 Zoll Durchmesser, 650 °C

TU-RT30

Hochtemperatur-Rohrofen 1500°C mit Schiebebünden und 50 mm Außendurchmesser für schnelle thermische Verarbeitung – schnelles Heizen und Kühlen

Hochtemperatur-Rohrofen 1500°C mit Schiebebünden und 50 mm Außendurchmesser für schnelle thermische Verarbeitung – schnelles Heizen und Kühlen

TU-RT03

2500°C Hochvakuum-Ultraschnellheiz-Tablettenpresse mit automatisiertem 8-Proben-Ladesystem

2500°C Hochvakuum-Ultraschnellheiz-Tablettenpresse mit automatisiertem 8-Proben-Ladesystem

TU-RT21

1700°C Kammerofen mit Schiebeplattform für schnelles Aufheizen und Abkühlen – Hochtemperatur-Wärmebehandlungssystem

1700°C Kammerofen mit Schiebeplattform für schnelles Aufheizen und Abkühlen – Hochtemperatur-Wärmebehandlungssystem

TU-RT16

Hochtemperatur-800°C-Schnellthermoprozess-Ofen mit rotierendem Probenhalter für Close-Spaced-Sublimation und Dünnschicht-Solarzellenforschung

Hochtemperatur-800°C-Schnellthermoprozess-Ofen mit rotierendem Probenhalter für Close-Spaced-Sublimation und Dünnschicht-Solarzellenforschung

TU-RT32

Hochtemperatur-Rohrofen (1200 °C) mit Klappmechanismus und internem Bewegungsmechanismus für HPCVD- und Kristallzüchtungsforschung

Hochtemperatur-Rohrofen (1200 °C) mit Klappmechanismus und internem Bewegungsmechanismus für HPCVD- und Kristallzüchtungsforschung

TU-RT07

1200°C Max. Dual-Schieberohr-Ofen mit 50-mm-Rohrflanschen für CVD

1200°C Max. Dual-Schieberohr-Ofen mit 50-mm-Rohrflanschen für CVD

TU-RT05

Kompakter atmosphärengesteuerter Rapid Thermal Processing (RTP) Ofen mit 4-Zoll-Quarzrohr, 1100 °C

Kompakter atmosphärengesteuerter Rapid Thermal Processing (RTP) Ofen mit 4-Zoll-Quarzrohr, 1100 °C

TU-RT31

1650°C Dampfkorrosions- und Thermoschock-Prüfofen mit integriertem Wasserdampfgenerator und automatischer Probenzufuhr

1650°C Dampfkorrosions- und Thermoschock-Prüfofen mit integriertem Wasserdampfgenerator und automatischer Probenzufuhr

TU-RT17

Ultraschneller thermischer Pressofen, maximale Temperatur 2900 °C, Heizrate 200 K pro Sekunde, Vakuumatmosphäre, Schnellverarbeitungssystem

Ultraschneller thermischer Pressofen, maximale Temperatur 2900 °C, Heizrate 200 K pro Sekunde, Vakuumatmosphäre, Schnellverarbeitungssystem

TU-RT18

1200°C Max. verschiebbarer Rohrofen mit 80 mm AD Quarzrohr und Vakuumflanschen für Rapid Thermal Processing (schnelles Heizen und Kühlen)

1200°C Max. verschiebbarer Rohrofen mit 80 mm AD Quarzrohr und Vakuumflanschen für Rapid Thermal Processing (schnelles Heizen und Kühlen)

TU-KT08

Kompakter Spark-Plasma-Sinterofen SPS 1200 °C Max. 100 MPa Druck Hochgeschwindigkeits-Sinteranlage für Materialforschung

Kompakter Spark-Plasma-Sinterofen SPS 1200 °C Max. 100 MPa Druck Hochgeschwindigkeits-Sinteranlage für Materialforschung

TU-RT20

950C Rapid-Thermal-Prozessofen für 12-Zoll-Wafer-CSS-Beschichtung mit rotierendem Substrathalter

950C Rapid-Thermal-Prozessofen für 12-Zoll-Wafer-CSS-Beschichtung mit rotierendem Substrathalter

TU-RT33

Automatisierter Schieberohr-Ofen für schnelles Heizen und Kühlen, 2 Zoll AD, max. 1100 °C

Automatisierter Schieberohr-Ofen für schnelles Heizen und Kühlen, 2 Zoll AD, max. 1100 °C

TU-RT04

1200C Max. kompakter Auto-Sliding-PECVD-Ofen mit 2-Zoll-Rohr und Vakuumpumpe

1200C Max. kompakter Auto-Sliding-PECVD-Ofen mit 2-Zoll-Rohr und Vakuumpumpe

TU-RT13

Hochtemperatur-Ultraschnellheiz- und Pressofen, 2900 °C max., 100 kgf Rapid Thermal Processing System

Hochtemperatur-Ultraschnellheiz- und Pressofen, 2900 °C max., 100 kgf Rapid Thermal Processing System

TU-RT19

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